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反射 光线

本专题涉及反射 光线的标准有32条。

国际标准分类中,反射 光线涉及到分析化学、光学和光学测量、光纤通信、电信综合、纸浆、纸和纸板、音频、视频和视听工程。

在中国标准分类中,反射 光线涉及到基础标准与通用方法、光通信设备、系统设备接口、半金属及半导体材料分析方法、化学、录制设备、造纸综合。


德国标准化学会,关于反射 光线的标准

德国机械工程师协会,关于反射 光线的标准

日本工业标准调查会,关于反射 光线的标准

  • JIS K 0181:2021 表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
  • JIS K 0148:2005 表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物

国际标准化组织,关于反射 光线的标准

  • ISO 20289:2018 表面化学分析.水的全反射X射线荧光分析
  • ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
  • ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 14706:2014 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定

英国标准学会,关于反射 光线的标准

  • BS ISO 20289:2018 表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
  • PD IEC/TR 62316:2017 单模光纤 OTDR 反向散射迹线解释指南
  • PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析 全反射 X 射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
  • BS PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
  • BS ISO 14706:2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
  • BS ISO 14706:2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
  • BS ISO 14706:2001 表面化学分析 采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
  • BS EN 60856:1993 预录光学反射视盘系统“激光视觉”50 Hz/625 线的规范 朋友
  • BS ISO 17331:2004+A1:2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定

国家质检总局,关于反射 光线的标准

  • GB/T 42360-2023 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析
  • GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

国际电工委员会,关于反射 光线的标准

美国电子元器件、组件及材料协会,关于反射 光线的标准

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会,关于反射 光线的标准

  • GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染

韩国科技标准局,关于反射 光线的标准

KR-KS,关于反射 光线的标准

欧洲标准化委员会,关于反射 光线的标准

  • HD 514 S1-1989 预录式光反射录像盘系统."激光电视"50Hz/625线.PAL制
  • prEN 60856-1992 50Hz/625线预录式光反射视盘录象系统"激光视盘".PAL制(IEC856-86)
  • prEN 60856 prA1-1992 50Hz/625线预录式光反射视盘录象系统"激光视盘".PAL制(IEC 856-86/A1-91)

法国标准化协会,关于反射 光线的标准

  • NF Q03-039-1:2009 纸、纸板和纸浆.漫反射蓝光反射系数测定.第1部分:室内光线条件(ISO亮度)




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