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质谱分离
本专题涉及质谱分离的标准有23条。
国际标准分类中，质谱分离涉及到分析化学、教育。
在中国标准分类中，质谱分离涉及到基础标准与通用方法、教学专用仪器、化学、化学试剂综合。
英国标准学会，关于质谱分离的标准
- BS ISO 20411:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数动态二次离子质谱饱和强度校正方法
- BS ISO 17862:2022 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- 20/30409963 DC BS ISO 17862 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- BS ISO 13084:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 飞行时间二次离子质谱仪的质量标度校准
- BS ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- BS ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
- BS ISO 22415:2019 表面化学分析 二次离子质谱分析 有机材料氩簇溅射深度剖析中产量体积的测定方法
- BS ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱.飞行时间二次离子质谱用质量标度的校准
国际标准化组织，关于质谱分离的标准
- ISO/TS 22933:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
- ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱分析法.飞行时间二次离子质谱仪用质量标度的校准
- ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- ISO 13084:2018 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准
KR-KS，关于质谱分离的标准
- KS D ISO 17560-2003(2023) 表面化学分析-二次离子质谱分析-硅内硼深度分布测定场法
- KS D ISO 14237-2003(2023) 表面下学分析-二次离子质谱分析-硅内均匀添加硼原子浓度的测定方法
日本工业标准调查会，关于质谱分离的标准
- JIS K 0164:2023 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
法国标准化协会，关于质谱分离的标准
- NF ISO 17560:2006 表面化学分析 二次离子质谱分析 通过厚度分析确定硅中硼的剂量
- NF ISO 14237:2010 表面化学分析 二次离子质谱分析 使用均匀掺杂材料的硅中硼原子的剂量
- NF X21-066*NF ISO 23812:2009 表面化学分析 次级离子质谱分析法 用多δ层参考物质对硅进行深度校准的方法
- NF EN ISO 22125-2:2019 水质 - Technetium-99 - 第 2 部分：质谱联用诱导等离子体测试方法）
行业标准-教育，关于质谱分离的标准
- JY/T 0568-2020 电感耦合等离子体质谱分析方法通则
美国材料与试验协会，关于质谱分离的标准
- ASTM E1504-11 次级离子质谱分析法中报告质谱数据的标准操作规程
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于质谱分离的标准
- GB/T 39486-2020 化学试剂 电感耦合等离子体质谱分析方法通则
- GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
