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分离质谱
本专题涉及分离质谱的标准有101条。
国际标准分类中，分离质谱涉及到分析化学、教育、核能工程、橡胶和塑料用原料、医学科学和保健装置综合、地质学、气象学、水文学、半导体分立器件、建筑材料、食用油和脂肪、含油种子、水质。
在中国标准分类中，分离质谱涉及到基础标准与通用方法、石油地质勘探、教学专用仪器、核材料、核燃料及其分析试验方法、化学、合成橡胶基础标准与通用方法、表面活性剂、公害病诊断标准、化学试剂综合、电子光学与其他物理光学仪器、地球科学、、核仪器与核探测器综合。
英国标准学会，关于分离质谱的标准
- BS ISO 13084:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 飞行时间二次离子质谱仪的质量标度校准
- BS ISO 20411:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数动态二次离子质谱饱和强度校正方法
- BS ISO 17862:2022 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- BS ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- 20/30409963 DC BS ISO 17862 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- BS ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
- BS ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱.飞行时间二次离子质谱用质量标度的校准
- BS ISO 22415:2019 表面化学分析 二次离子质谱分析 有机材料氩簇溅射深度剖析中产量体积的测定方法
- BS ISO 16564:2004 天然橡胶.用粒度分离色谱法测定平均分子质量和分子质量分布
- BS ISO 22048:2004 表面化学分析 静态二次离子质谱的信息格式
- BS ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样的相对灵敏系数
- BS ISO 17862:2013 表面化学分析.次级离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析器强度标的线性
- BS ISO 22048:2005 表面化学分析.静态次生离子质谱法的信息格式
- BS ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- BS PD CEN/TS 17200:2018 建筑产品 危险物质释放的评估 消化液和洗脱液中无机物质的分析 电感耦合等离子体分析 质谱法（ICP-MS）
- BS ISO 18114:2021 表面化学分析 二次离子质谱 离子注入参考材料的相对灵敏度因子的测定
- BS ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱法.静态次级离子质谱法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- 20/30409889 DC BS ISO 18114 表面化学分析 二次离子质谱 离子注入参考材料的相对灵敏度因子的测定
- BS PD CEN ISO/TS 22115:2021 动植物脂肪和油 毛细管气相色谱法分离脂质类别（指纹法）
- BS ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
- BS ISO 17560:2002 表面化学分析.再生离子质量光谱测定.硅中硼的深仿形分析法
- BS ISO 17560:2014 表面化学分析.再生离子质量光谱测定.硅中硼的深仿形分析法
国际标准化组织，关于分离质谱的标准
- ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱分析法.飞行时间二次离子质谱仪用质量标度的校准
- ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- ISO/TS 22933:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
- ISO 13084:2018 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准
- ISO 17560:2014 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
- ISO 22048:2004 表面化学分析——静态二次离子质谱信息格式
- ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 18114:2021 表面化学分析. 次级离子质谱法. 测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- ISO 14237:2000 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- ISO 20411:2018 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数动态二次离子光谱法中饱和强度的校正方法
- ISO 178:1975 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 17862:2013 表面化学分析——二次离子质谱法——单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 178:2019 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 17862:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
- ISO 22125-2:2019 水质.锝-99.第2部分:电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）的试验方法
- ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
KR-KS，关于分离质谱的标准
- KS D ISO 17560-2003(2023) 表面化学分析-二次离子质谱分析-硅内硼深度分布测定场法
- KS D ISO 14237-2003(2023) 表面下学分析-二次离子质谱分析-硅内均匀添加硼原子浓度的测定方法
日本工业标准调查会，关于分离质谱的标准
- JIS K 0164:2023 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
- JIS K 0157:2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 渡越时间二次离子质谱仪的质量标度的校准
- JIS K 0158:2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 单离子计数动态二次离子质谱法中饱和强度的校正方法
- JIS K 0168:2011 表面化学分析.静态二次离子质谱法用信息格式
- JIS K 0163:2010 表面化学分析.次级离子质谱法.离子注入标样中相对灵敏度系数的测定
- JIS K 0153:2015 表面化学分析. 二次离子质谱法. 静态二次离子质谱法中相对强度范围的重复性和稳定性
- JIS K 0155:2018 表面化学分析 二次离子质谱法 单离子计数时间飞行质量分析仪中强度刻度的线性度
- JIS K 0143:2023 表面化学分析-二次离子质谱-使用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
- JIS K 0143:2000 表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
- JIS K 0156:2018 表面化学分析-二次离子质谱法-使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
法国标准化协会，关于分离质谱的标准
- NF ISO 17560:2006 表面化学分析 二次离子质谱分析 通过厚度分析确定硅中硼的剂量
- NF ISO 14237:2010 表面化学分析 二次离子质谱分析 使用均匀掺杂材料的硅中硼原子的剂量
- NF X21-066*NF ISO 23812:2009 表面化学分析 次级离子质谱分析法 用多δ层参考物质对硅进行深度校准的方法
- NF ISO 23830:2009 表面化学分析 二次离子质谱 二次离子静态质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- NF X21-070*NF ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.
- NF EN ISO 22125-2:2019 水质 - Technetium-99 - 第 2 部分：质谱联用诱导等离子体测试方法）
- NF X21-064*NF ISO 23830:2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- NF ISO 23812:2009 表面化学分析 二次离子质谱 使用多三角层状参比材料的硅深度校准方法
国家能源局，关于分离质谱的标准
- SY/T 7361-2017 稀有气体分离与组分含量分析 四极杆质谱法
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于分离质谱的标准
- GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
- GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
- GB/T 39486-2020 化学试剂 电感耦合等离子体质谱分析方法通则
行业标准-教育，关于分离质谱的标准
- JY/T 0568-2020 电感耦合等离子体质谱分析方法通则
行业标准-核工业，关于分离质谱的标准
- EJ/T 1212.2-2008 烧结氧化钆-二氧化铀芯块分析方法.第2部分:热电离质谱法测定铀同位素丰度
美国材料与试验协会，关于分离质谱的标准
- ASTM E1504-11 次级离子质谱分析法中报告质谱数据的标准操作规程
- ASTM C1476-00 感应耦合等离子质谱法分析锝99用尿的标准试验方法
- ASTM E1162-11 报告次级离子质谱分析法(SIMS)中溅深深度文件数据的标准操作规程
国家质检总局，关于分离质谱的标准
- GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
- GB/T 25186-2010 表面化学分析.二次离子质谱.由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
- GB/T 20176-2006 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
韩国科技标准局，关于分离质谱的标准
- KS D ISO 22048-2005(2020) 表面化学分析 - 静态二次离子质谱的信息格式
- KS D ISO 18114-2005(2020) 表面化学分析二次离子质谱法离子注入标准物质相对灵敏度因子的测定
- KS D ISO 22048:2005 表面化学分析.静态次生离子质谱法的信息格式
- KS D ISO 18114:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- KS D ISO 20341-2005(2020) 表面化学分析二次离子质谱法用多δ层标准物质估算深度分辨参数的方法
- KS D ISO 20341:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
未注明发布机构，关于分离质谱的标准
- BS ISO 22048:2004(2005) 表面化学分析静态二次离子质谱的信息格式
- BS ISO 20341:2003(2010) 表面化学分析 二次离子质谱 多δ层参考材料估计深度分辨率参数的方法
行业标准-卫生，关于分离质谱的标准
- WS/T 107.2-2015 尿中碘的测定 第2部分：电感耦合等离子质谱法
澳大利亚标准协会，关于分离质谱的标准
- AS ISO 17560:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．硅中注入硼的深度分布分析法
- AS ISO 22048:2006 表面化学分析．静止次级离子质谱测量法用信息格式
- AS ISO 18114:2006 表面化学分析．次级离子质谱法．植入离子的参考材料的相对灵敏系数的测定
- AS 4873.1:2005 感应耦合等离子体．质谱分析法（ICP－MS）的建议规范．原则和技术
德国标准化学会，关于分离质谱的标准
- DIN CEN/TS 17200:2019-03*DIN SPEC 18484:2019-03 建筑产品 危险物质释放评估 消化物和洗脱物中无机物的分析 电感耦合等离子体分析 质谱法
- DIN EN 17200:2022-06 建筑产品：危险物质释放评估 消化物和洗脱物中无机物的分析 电感耦合等离子体质谱分析
- DIN CEN ISO/TS 22115:2021-12 动植物油脂 通过毛细管气相色谱法分离脂质类（指纹法）
安徽省标准，关于分离质谱的标准
- DB34/T 2127.4-2014 区域地球化学调查样品分析方法 第4部分：等离子体质谱法多元素含量的测定
中国团体标准，关于分离质谱的标准
- T/CASAS 010-2019 氮化镓材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法
- T/CASAS 009-2019 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法
欧洲标准化委员会，关于分离质谱的标准
- PD CEN/TS 17200:2018 建筑产品：危险物质释放评估 消化物和洗脱液中无机物质的分析 电感耦合等离子体分析 质谱法（ICP-MS）
- CEN/TS 17200:2018+AC:2018 建筑产品：危险物质释放评估 消化物和洗脱液中无机物质的分析 电感耦合等离子体分析 质谱法（ICP-MS）
- EN 17200:2023 建筑产品：危险物质释放评估 洗脱液和消解物中的无机物质分析 电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 分析
- EN ISO 22125-2:2019 水质.锝-99.第2部分:电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）的试验方法
国家卫生健康委员会，关于分离质谱的标准
- GBZ/T 317.2-2018 血中镉的测定 第2部分：电感耦合等离子体质谱法
- GBZ/T 307.2-2018 尿中镉的测定 第2部分 ：电感耦合等离子体质谱法
- GBZ/T 316.2-2018 血中铅的测定 第2部分： 电感耦合等离子体质谱法
卫生健康委员会，关于分离质谱的标准
- WS/T 107.2-2016 尿中碘的测定 第2部分：电感耦合等离子体质谱法
