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质谱 分析 仪 离子
本专题涉及质谱 分析 仪 离子的标准有63条。
国际标准分类中，质谱 分析 仪 离子涉及到分析化学、金属材料试验、教育、实验室医学、医疗设备、印制电路和印制电路板、水质、质量、光学和光学测量、有色金属、长度和角度测量、化工产品。
在中国标准分类中，质谱 分析 仪 离子涉及到基础标准与通用方法、贵金属及其合金分析方法、教学专用仪器、医用化验设备、、化学、印制电路、质谱仪、液谱仪、能谱仪及其联用装置、重金属及其合金分析方法、重金属及其合金、表面活性剂、化学试剂综合、化工专用仪器仪表。
英国标准学会，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- BS ISO 13084:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 飞行时间二次离子质谱仪的质量标度校准
- BS ISO 17862:2022 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- 20/30409963 DC BS ISO 17862 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- BS ISO 20411:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数动态二次离子质谱饱和强度校正方法
- BS ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱.飞行时间二次离子质谱用质量标度的校准
- BS ISO 17862:2013 表面化学分析.次级离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析器强度标的线性
- BS ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- BS ISO 22048:2004 表面化学分析 静态二次离子质谱的信息格式
- BS DD ENV 13800:2000 铅及铅合金.无铅基质分离的火焰原子吸收光谱分析法(FAAS)或感应耦合等离子体发射光谱分析法(ICP-ES)
- BS ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样的相对灵敏系数
- BS ISO 22048:2005 表面化学分析.静态次生离子质谱法的信息格式
日本工业标准调查会，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- JIS K 0127:1992 离子色谱仪分析通则
- JIS K 0157:2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 渡越时间二次离子质谱仪的质量标度的校准
- JIS K 0155:2018 表面化学分析 二次离子质谱法 单离子计数时间飞行质量分析仪中强度刻度的线性度
- JIS K 0127:2001 离子色谱法分析通则
- JIS K 0127:2013 离子色谱法分析通则
- JIS K 0158:2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 单离子计数动态二次离子质谱法中饱和强度的校正方法
- JIS K 0164:2023 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
- JIS K 0153:2015 表面化学分析. 二次离子质谱法. 静态二次离子质谱法中相对强度范围的重复性和稳定性
- JIS K 0168:2011 表面化学分析.静态二次离子质谱法用信息格式
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
- GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
- GB/T 39486-2020 化学试剂 电感耦合等离子体质谱分析方法通则
国际标准化组织，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱分析法.飞行时间二次离子质谱仪用质量标度的校准
- ISO 13084:2018 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准
- ISO 178:1975 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 17862:2013 表面化学分析——二次离子质谱法——单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 178:2019 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 17862:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO/TS 22933:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
- ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- ISO 22048:2004 表面化学分析——静态二次离子质谱信息格式
- ISO 20411:2018 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数动态二次离子光谱法中饱和强度的校正方法
- ISO 17560:2014 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
US-ACEI，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- IPC TM-650 2.3.28-1995 电路板的离子分析离子色谱法
IPC - Association Connecting Electronics Industries，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- IPC TM-650 2.3.28A-2004 电路板的离子分析 离子色谱法
- IPC TM-650 2.3.28B-2012 电路板的离子分析 离子色谱法
韩国科技标准局，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- KS M 0035-1993 离子色谱分析通则
- KS D ISO 18114-2005(2020) 表面化学分析二次离子质谱法离子注入标准物质相对灵敏度因子的测定
- KS D ISO 22048-2005(2020) 表面化学分析 - 静态二次离子质谱的信息格式
- KS D ISO 22048:2005 表面化学分析.静态次生离子质谱法的信息格式
KR-KS，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- KS M 0035-2008(2023) 离子色谱分析通则
- KS I ISO 17294-2014 电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）在水质分析中的应用
- KS D ISO 17560-2003(2023) 表面化学分析-二次离子质谱分析-硅内硼深度分布测定场法
工业和信息化部，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- YS/T 1497-2021 铂化合物分析方法 杂质阴离子含量测定 离子色谱法
- YS/T 1496-2021 钯化合物分析方法 杂质阴离子含量测定 离子色谱法
- HG/T 5831-2021 化工用在线气体质谱分析仪
行业标准-教育，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- JY/T 0568-2020 电感耦合等离子体质谱分析方法通则
- JY/T 020-1996 离子色谱分析方法通则
- JY/T 0575-2020 离子色谱分析方法通则
国家药监局，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- YY/T 1795-2021 精子质量分析仪
- YY/T 1740.2-2021 医用质谱仪 第2部分：基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪
中国团体标准，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- T/ZPP 017-2023 质谱流式细胞分析仪
美国材料与试验协会，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- ASTM E1504-11 次级离子质谱分析法中报告质谱数据的标准操作规程
国家质检总局，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- GB/T 25186-2010 表面化学分析.二次离子质谱.由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
- GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
美国电子电路和电子互连行业协会，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- IPC TM-650 2.3.28-2004 离子色谱法,电路板离子分析 修订版A
法国标准化协会，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- NF ISO 23830:2009 表面化学分析 二次离子质谱 二次离子静态质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- NF ISO 17560:2006 表面化学分析 二次离子质谱分析 通过厚度分析确定硅中硼的剂量
RU-GOST R，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- GOST 4.361-1985 质谱测定分析仪.指标项目
未注明发布机构，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- BS ISO 22048:2004(2005) 表面化学分析静态二次离子质谱的信息格式
德国标准化学会，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- DIN V ENV 13800:2000 铅及铅合金.无铅基质分离的火焰原子吸收光谱(FAAS)分析法或感应耦合等离子体发射光谱(ICP-ES)分析法
AT-ON，关于质谱 分析 仪 离子的标准
- ONORM M 6253 Teil.1-1985 水质分析．亚甲蓝光谱法测定阴离子表面活化剂
