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シリコンウェーハ

シリコンウェーハは全部で 53 項標準に関連している。

シリコンウェーハ 国際標準分類において、これらの分類:非鉄金属、 太陽工学、 半導体材料、 電気、磁気、電気および磁気測定、 語彙、 分析化学、 バッテリーと蓄電池。


Korean Agency for Technology and Standards (KATS), シリコンウェーハ

JP-JEITA, シリコンウェーハ

German Institute for Standardization, シリコンウェーハ

  • DIN V VDE V 0126-18-3:2007 ソーラーシリコンウェーハ パート 3: 結晶シリコンウェーハのアルカリ腐食損傷 単結晶および多結晶シリコンウェーハの腐食速度の測定方法。

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, シリコンウェーハ

  • GB/T 26066-2010 シリコンウェーハ上の浅い腐食ピットを検出するための試験方法
  • GB/T 25188-2010 X線光電子分光法によるシリコンウェーハ表面の極薄酸化シリコン層の厚さの測定
  • GB/T 30866-2014 炭化珪素枚葉径試験方法
  • GB/T 32278-2015 炭化珪素枚葉平坦性試験方法
  • GB/T 12964-2003 シリコン単結晶研磨ウェーハ
  • GB/T 29055-2012 太陽電池用多結晶シリコンウェーハ
  • GB/T 29506-2013 300mmシリコン単結晶研磨ウェーハ
  • GB/T 30656-2014 炭化珪素単結晶研磨ウェハ
  • GB/T 30656-2023 炭化珪素単結晶研磨ウェハ
  • GB/T 30867-2014 炭化珪素枚葉ウェーハの厚みと総厚みばらつきの試験方法
  • GB/T 30868-2014 化学エッチング法による炭化ケイ素枚葉ウェーハのマイクロチューブ密度の測定
  • GB/T 29055-2019(英文版) 太陽電池用多結晶シリコンウェーハ
  • GB/T 12965-1996 シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク
  • GB/T 12965-2005 シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク

Hebei Provincial Standard of the People's Republic of China, シリコンウェーハ

  • DB13/T 1314-2010 ソーラーグレード単結晶シリコン角棒、単結晶シリコンウェーハ
  • DB13/T 1633-2012 ソーラーグレードの多結晶シリコンウェーハ
  • DB13/T 1828-2013 ソーラーグレードの単結晶シリコンウェーハ

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, シリコンウェーハ

  • GB/T 37051-2018 ソーラーグレードの多結晶シリコンインゴットおよびウェーハの結晶欠陥密度を測定する方法
  • GB/T 26071-2018 太陽電池用シリコン枚葉ウェーハ
  • GB/T 12964-2018 シリコン単結晶研磨ウェーハ
  • GB/T 26069-2022 シリコン単結晶アニールシート
  • GB/T 29055-2019 太陽電池用多結晶シリコンウェーハ
  • GB/T 12965-2018 シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク

British Standards Institution (BSI), シリコンウェーハ

  • BS EN 50513:2009 太陽電池ウェーハ: 太陽電池製造用結晶シリコンウェーハのデータシートと製品情報

American Society for Testing and Materials (ASTM), シリコンウェーハ

  • ASTM F1390-97 自動非接触走査法によるシリコンウェーハのフィン曲率測定試験方法
  • ASTM F672-88(1995)e1 分布抵抗プローブを使用して、表面に垂直な縦断面のシリコンウェーハの抵抗率を測定する標準的な試験方法
  • ASTM F1392-00 水銀プローブを用いた静電容量電圧測定によるシリコンウェーハの正味キャリア密度分布を決定するための標準的な試験方法

Group Standards of the People's Republic of China, シリコンウェーハ

  • T/CASAS 013-2021 炭化珪素ウェーハの転位密度検出法 画像認識法と組み合わせたKOH腐食
  • T/CASAS 032-2023 誘導結合プラズマ質量分析法による炭化ケイ素ウェーハ表面の金属元素含有量の測定
  • T/SZBX 118-2023 太陽電池用単結晶シリコンウェーハ
  • T/CEC 290-2019 バックコンタクト単結晶シリコンウェーハの技術要件
  • T/ZZB 2675-2022 TVS用シリコン単結晶研磨ディスク
  • T/CPIA 0037-2022 太陽電池用結晶シリコンウェーハの仕様
  • T/IAWBS 013-2019 半絶縁性炭化珪素枚葉ウェーハの非接触抵抗率測定方法

Danish Standards Foundation, シリコンウェーハ

  • DS/EN 50513:2009 ソーラーウェーハ 太陽電池製造に使用される結晶シリコンウェーハのデータシートと製品情報

Lithuanian Standards Office , シリコンウェーハ

  • LST EN 50513-2009 ソーラーウェーハ 太陽電池製造に使用される結晶シリコンウェーハのデータシートと製品情報

AENOR, シリコンウェーハ

  • UNE-EN 50513:2011 ソーラーウェーハ 太陽電池製造に使用される結晶シリコンウェーハのデータシートと製品情報

Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, シリコンウェーハ

  • GJB 1944A-2017 宇宙用太陽電池用シリコン単結晶の規格
  • GJB 2918-1997 検出器グレードの高抵抗ゾーン溶融シリコンモノリスの仕様

KR-KS, シリコンウェーハ

  • KS D ISO 14706-2003(2023) 表面化学分析 – 全反射蛍光X線分析装置によりシリコンウェーハ表面の元素不純物を測定

Professional Standard - Non-ferrous Metal, シリコンウェーハ

Professional Standard - Electron, シリコンウェーハ

  • SJ 20750-1999 軍用CMOS回路用の耐放射線硬化シリコンモノリシックウェーハの仕様
  • SJ 2572-1985 太陽電池用シリコン単結晶ロッドおよびシート

International Organization for Standardization (ISO), シリコンウェーハ

  • ISO 14706:2000 表面化学分析 全反射蛍光 X 線 (TXRF) 測定を使用したシリコンウェーハの基本的な表面汚染の測定
  • ISO 14706:2014 表面化学分析 全反射蛍光 X 線 (TXRF) 測定を使用したシリコンウェーハの基本的な表面汚染の測定

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), シリコンウェーハ

  • JIS K 0148:2005 表面化学分析 全反射蛍光 X 線 (TXRF) 測定を使用した、シリコン ウェーハ上の主な表面汚染物質の測定。

Professional Standard - Ferrous Metallurgy, シリコンウェーハ

  • YB 1603-1983 シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク

UNKNOWN, シリコンウェーハ

  • YB 1603-83 シリコン単結晶カッティングディスクおよびグラインディングディスク




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