71.100.20 工业气体 标准查询与下载
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本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。 本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫”该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。 分子式=SFs”相对分子质量j4皂O跚4192〔按2007 年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-12-22
- 实施
- 2015-07-01
本标准规定了氯化氢的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全。本标准适用于以工业氯化氢为原料,采用纯化制得的氯化氢产品。该产品主要用于微电子工业中气相抛光、外延和刻蚀工艺,也可用于硬质合金、玻璃表面处理、医药中间体和精细化学品制造、科学研究等领域。分子式:HCl。相对分子质量:36.458(按2009年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Hydrogen chloride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-12-22
- 实施
- 2015-07-01
本标准规定了高纯氯的技术要求、试验方法、检验规则及包装、标志、运输和储存。本标准适用于以工业液氯为原料,采用物理吸附等过程生产的高纯氯产品。该产品主要用于大规模集成电路、光导纤维、高温超导、平板显示器、太阳能等技术领域。分子式:Cl。相对分子质量:70.90(按2009年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.High purity chlorine
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-12-22
- 实施
- 2015-07-01
本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式:SiF。相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。
Gases for electronic industry.Silicon tetrafluoride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-12-22
- 实施
- 2015-07-01
本标准规定了纯氖和高纯氖的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮运及安全警示等。本标准适用于以深冷法提取的纯氖和高纯氖,主要用于霓虹灯及作为电子工业的填充介质,也用于激光技术、高能物理、混合气配制。分子式:Ne。相对分子质量:20.1797(按2009年国际相对原子质量)。
Pure neon and high purity neon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
本标准规定了工业六氟化硫的要求、检验规则、试验方法、包装、标志、贮运及安全警示等。本标准适用于氟与硫直接反应并经过精制的工业六氟化硫。该产品主要用作电力工业、冶金行业和气象部门等。分子式:SF。相对分子质量:146.050 419 2(按2009年国际相对原子质量)。
Industrial sulfur hexafluoride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
本标准规定了氧化亚氮的技术要求、试验方法、包装、标志、贮存及运输，给出了安全警示。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮，主要用作制冷剂、助燃剂、防腐剂、麻醉剂、压力推进剂，此外，也用于化工、半导体制造和原子吸收光谱等领域。 分子式：NO。 相对分子质量：44.012 88（按2007年国际相对原子质量）。
Nitrous oxide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2012-06-27
- 实施
- 2013-02-01
本部分规定了纯氢,高纯气和超纯氢的技术要求、试验方法.包装标志、迪运及安全要求。 本部分适用于经吸附法.扩散法等制取的瓶装、集装格装和管道输送的氢气。 它主要用于电子工業、石油化工金屬治煉和科學研究等領域。 分子式:Hz。 相對分子質量:2.015 88(按2007 年国际相对原子质量)。
Hydrogen.Part 2: Pure hydrogen,high pure hydrogen and ultrapure hydrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本标准规定了气态氦和液态氦的技术要求、检验规则、检验方法、产品的包装、标志、储存及安全警示等。 本标准适用于以深冷法提取的纯氦、高纯氦和超纯氦，主要用于光导纤维、激光、焊接切割、潜水呼吸、低温超导、增压、清洗、保护气等。 分子式：He. 相对分子质量：4.002 602（按2007年国际相对原子质量）。
Pure helium,high pure helium and ultra pure helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
Regulation for filling of non-refillable steel welded cylinder
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- J74
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-12-01 00:00:00.0
Regulation for filling of welded insulated cylinder
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- J74
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-12-01 00:00:00.0
本标准规定了工业氦气的技术耍求、试验方法以及产品的包装、标志、贮存与运输。 本标准适用于由深冷法制取及经回收制取的氦气。 工业氦气主要用于填充氦飞艇、飞行船、气球以及检漏等。 分子式=Hc”相对分子质量冼伽2 602〈薹安2OO7年国际相对原子质量〉。
Industrial helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本标准规定了工业用非重复充装焊接钢瓶充装的基本原则和安全技术要求。 本标准适用于在环境温度-40℃～60℃下使用的,储存介质被GB/T 7778划为A类制冷剂(限低压液化气体),试验压力p≤6.2 MPa(表压)、容积V≤25L(当p＞3.5MPa时,V≤5L)的符合GB 17268标准的工业用非重复充装焊接钢瓶。
Regulation for filling of non-refillable steel welded cylinder
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- J74
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-12-01
本标准规定了工业用和焊接用液体二氧化碳的技术要求、试验方法、包装、标志、储存与运输。 本标准适用于由石灰窑气、发酵气、烃类转化气制取的以及由工业排放气回收制取的液体二氧化碳,主要用于焊接、化工、铸型、制冷、化纤、农业和科研等部门和领域。 分子式：CO 相对分子质量：44.0095（按2007年国际相对原子质量）。
Industrial liquid carbon dioxide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-10-01
本标准规定了GB 24159设计制造的“焊接绝热气瓶”的充装基本原则和安全技术要求。 本标准适用于在正常环境温度(-40 ℃～60℃)下使用,贮存介质为液氧、液氮、液氩、二氧化碳和氧化亚氮低温液体,设计温度不低于-196℃,公称容积为10L～450 L,工作压力为0.2 MPa～3.5 MPa可重复充装的立式气瓶。
Regulation for filling of welded insulated cylinder
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- J74
- 发布
- 2011-12-30
- 实施
- 2012-12-01
本标准规定了三氯化硼的技术要求,试验方法以及包装标志、贮运及安全。 本标准适用于以粗制三氧化硼为原料,采用吸附、精馏等方法提纯制得的三氧化硼,主要用于半导体器件生产所用的扩散、离子注人、干法蚀刻等工艺。 分子式:BCl 。 相对分子质量:117.1691(按2007 年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Boron trichloride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了砷化氢的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于砷化合物与酸反应获得的砷化氢。在半导体器件制备过程中，砷化氢用于掺杂以及化合物半导体外延。
Gases for electronic industry.Arsine
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了硒化氧的技术要求,试验方法以及包装、标志\迪运及安全。 本标准适用于硒铝、硒镁合金化合物水解单质硒与氢高温反应等方法获得并经精制得到的硒化氢产品。 它主要用于太阳能电池、半导体和集成电路生产的外延、离子注人和挨杂。 分子式:HsSe。 相对分子质量:80.975 88(按2007 年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Hydrogen selenide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了氟和氟氮混合气的技术要求,试验方法以及包装、标志、贮运及安全的要求。 本标准适用于电解无水氟化氢并经过纯化工艺处理后获得的氟。氟用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼、二氟化银、三氟化钴和三氟化镁等氟化物,也可用于激光气或塑料氟化处理等领域。 氟氮混合气制备采用压力法。混合气主要用于汽车、制药工业中材料氟化处理。
Fluorine and mixed gases of fluorine-nitrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2011-01-14
- 实施
- 2011-05-01
本标准规定了电子工业用氧的技术要求，试验方法以及包装、标志、贮运及安全。 本标准适用于以深冷法、电解法提取的气态或液态氧，以及经纯化方法得到的氧。他们主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离、光导纤维。
Gas for electronic industry.Oxygen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2009-10-30
- 实施
- 2010-05-01
