ASTM F1725-97
硅锭的结晶完整性分析的标准指南

Standard Guide for Analysis of Crystallographic Perfection of Silicon Ingots

被代替

ASTM F1725-97 发布历史

ASTM F1725-97由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 1997。

ASTM F1725-97 在中国标准分类中归属于: H17 半金属及半导体材料分析方法。

ASTM F1725-97 发布之时，引用了标准

• ASTM D5127 电子学和半导体工业用超纯水的标准指南*， 1999-07-05 更新
• ASTM F1241 ASTM F1241-95(2000)
• ASTM F1809 造成硅的结构性缺陷的浸蚀溶液的选择与使用标准导则
• ASTM F1810 ASTM F1810-97(2002)
• ASTM F26 ASTM F26-87a(1999)
• ASTM F523 抛光硅片表面的无辅助目视检查的标准实施规程

* 在 ASTM F1725-97 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。

ASTM F1725-97的历代版本如下：

• 1970年 ASTM F1725-02 ASTM F1725-02
• 1997年 ASTM F1725-97 硅锭的结晶完整性分析的标准指南

1.1 本实践涵盖硅锭晶体学完美性的分析。所描述的步骤包括样品制备、蚀刻溶液的选择和使用、缺陷识别和缺陷计数。

1.2 如果评估在 (111) 或 (100) 方向生长并掺杂 p 或 n 型且电阻率大于 0.005 Omega cm 的硅，则适合使用此做法。

1.3 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

标准号

ASTM F1725-97

发布

1997年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM F1725-02

当前最新

ASTM F1725-02

 

 

引用标准

ASTM D5127 ASTM F1241 ASTM F1809 ASTM F1810 ASTM F26 ASTM F523

谁引用了ASTM F1725-97 更多引用