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Titan-Ionen-Sputtergerät

Für die Titan-Ionen-Sputtergerät gibt es insgesamt 98 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Titan-Ionen-Sputtergerät die folgenden Kategorien: Vakuumtechnik, Nichteisenmetallprodukte, Fluidsysteme und allgemeine Teile, Elektronische Anzeigegeräte, Ausrüstung für die Gesundheit des menschlichen Körpers, analytische Chemie, Nichteisenmetalle, Halbleitermaterial, Strahlenschutz, Strahlungsmessung, Pumpe, Ferrolegierung, Optik und optische Messungen, Elektrizität, Magnetismus, elektrische und magnetische Messungen, nichtmetallische Mineralien, Prüfung von Metallmaterialien, Stahlprodukte, Umfangreiche elektronische Komponenten.


Professional Standard - Electron, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • SJ 1781-1981 Sputter-Ionenpumpe – Testmethoden
  • SJ 1779-1981 Gewöhnliche Zwei-Elektroden-Sputter-Ionenpumpe – Parameterreihe
  • SJ 1780-1981 Gewöhnliche Zwei-Elektroden-Sputter-Ionenpumpe – Leistungsspezifikation

Professional Standard - Machinery, Titan-Ionen-Sputtergerät

Professional Standard - Non-ferrous Metal, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • YS/T 893-2013 Hochreines Sputter-Titan-Target für den Einsatz in elektronischen Filmen

German Institute for Standardization, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • DIN 28429:2003 Vakuumtechnik – Abnahmespezifikationen für Getter-Ionenpumpen
  • DIN IEC/TS 62743:2013 Strahlenschutzinstrumentierung – Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung (IEC/TS 62743:2012)

American Society for Testing and Materials (ASTM), Titan-Ionen-Sputtergerät

  • ASTM F1709-97 Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
  • ASTM F1709-97(2016) Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
  • ASTM F1709-97(2002) Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
  • ASTM F1709-97(2008) Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
  • ASTM E1162-87(2001) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
  • ASTM E1162-87(1996) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
  • ASTM E1438-91(2001) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
  • ASTM E1438-91(1996) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
  • ASTM E1162-11(2019) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
  • ASTM E1162-06 Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
  • ASTM E2371-04 Standardtestmethode zur Analyse von Titan und Titanlegierungen mittels Atomemissionsplasmaspektrometrie
  • ASTM E2371-13 Standardtestmethode zur Analyse von Titan und Titanlegierungen mittels Gleichstromplasma und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (leistungsbasierte Testmethodik)
  • ASTM E2371-21a Standardtestmethode zur Analyse von Titan und Titanlegierungen mittels Gleichstromplasma und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (leistungsbasierte Testmethodik)
  • ASTM E2371-21 Standardtestmethode zur Analyse von Titan und Titanlegierungen mittels Gleichstromplasma und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (leistungsbasierte Testmethodik)
  • ASTM E1832-08 Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation eines Gleichstrom-Plasma-Atomemissionsspektrometers
  • ASTM E1832-08(2017) Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation eines Gleichstrom-Plasma-Atomemissionsspektrometers
  • ASTM E684-95(2000) Standardpraxis zur ungefähren Bestimmung der Stromdichte von Ionenstrahlen mit großem Durchmesser für die Sputtertiefenprofilierung fester Oberflächen
  • ASTM E684-04 Standardpraxis zur ungefähren Bestimmung der Stromdichte von Ionenstrahlen mit großem Durchmesser für die Sputtertiefenprofilierung fester Oberflächen
  • ASTM E1479-16 Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation von Atomemissionsspektrometern mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • ASTM F1467-99(2005)e1 Standardhandbuch für die Verwendung eines Röntgentestgeräts ([ungefähr] 10 keV-Photonen) bei der Prüfung der Auswirkungen ionisierender Strahlung auf Halbleiterbauelemente und Mikroschaltungen

Group Standards of the People's Republic of China, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • T/QGCML 018-2020 Negativ-Ionen-Emitter
  • T/CNIA 0012-2019 Bestimmung des Bor-, Phosphor-, Eisen-, Aluminium-, Calcium- und Titangehalts in Siliziumpulver – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • T/NAIA 0157-2022 Bestimmung von Titan in Aufkohlungsmitteln durch Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-AES)

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Titan-Ionen-Sputtergerät

  • JIS H 1632-3:2014 Titan.ICP Atomemissionsspektrometrie.Teil 3: Bestimmung von Bor
  • JIS H 1632-1:2014 Titan.ICP-Atomemissionsspektrometrie.Teil 1: Allgemeine Anforderungen und Probenzerlegung
  • JIS H 1632-2:2014 Titan.ICP-Atomemissionsspektrometrie.Teil 2: Bestimmung von Palladium, Mangan, Eisen, Magnesium, Silizium, Aluminium, Vanadium, Nickel, Chrom, Zinn, Kupfer, Molybdän, Zirkonium, Niob, Tantal, Kobalt und Yttrium

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • GB/T 25755-2010 Vakuumtechnik.Sputter-Ionenpumpen.Messung von Leistungsmerkmalen
  • GB/T 36244-2018 Atomemissionsspektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 24194-2009 Ferrosilicium.Bestimmung des Aluminium-, Calcium-, Mangan-, Chrom-, Titan-, Kupfer-, Phosphor- und Nickelgehalts. Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.4-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen. Teil 4: Bestimmung des Mangangehalts. Kaliumperiodat-Spektrophotometrie und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.10-2020 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 10: Bestimmung des Chromgehalts – Ammoniumeisensulfat-Titration und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (mit Vanadium)

RU-GOST R, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • GOST 5.1807-1973 Getter-Ionenpumpe vom Typ GIN-0,5-1M. Qualitätsanforderungen an zertifizierte Produkte
  • GOST 5.413-1970 Die matergekühlte Dioden-Sputter-Ionenpumpe NMDI-01-1 (NIRD-100) mit dem Netzteil BP-150. Qualitätsanforderungen an zertifizierte Produkte

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Titan-Ionen-Sputtergerät

  • KS D ISO 22962:2010 Titan und Titanlegierungen – Bestimmung von Eisen – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • KS D ISO 22962-2010(2020) Titan und Titanlegierungen – Bestimmung von Eisen – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

International Organization for Standardization (ISO), Titan-Ionen-Sputtergerät

  • ISO 22962:2008 Titan und Titanlegierungen – Bestimmung von Eisen – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
  • ISO/PRF 21339:2023 Titan und Titanlegierungen – Ti-6Al-4V – Bestimmung des Aluminium- und Vanadiumgehalts – Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • ISO/DIS 21339:1972 Titan und Titanlegierungen – Ti-6Al-4V – Bestimmung des Aluminium- und Vanadiumgehalts – Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • ISO 21339:2023 6Al-4V-Titanlegierungen – Bestimmung des Aluminium- und Vanadiumgehalts – Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie-Sputtertiefe S
  • ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Argon-Cluster-Sputter-Tiefenprofilierung organischer Materialien

AENOR, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • UNE 38863:2012 Titan und Titanlegierungen. Bestimmung von Eisen. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma.

British Standards Institution (BSI), Titan-Ionen-Sputtergerät

  • BS ISO 22962:2008 Titan und Titanlegierungen – Bestimmung von Eisen – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • BS ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
  • BS ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputter-Dept-Profiling unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen dünnen…
  • 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1. Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputtertiefenprofilierung mithilfe von Einzel- und…
  • PD IEC/TS 62743:2012 Strahlenschutzinstrumentierung. Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
  • 23/30454447 DC BS ISO 21339. Titan und Titanlegierungen. Ti-6Al-4V. Bestimmung von Aluminium- und Vanadiumgehalten. Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • BS ISO 21339:2023 6Al-4V-Titanlegierungen. Bestimmung von Aluminium- und Vanadiumgehalten. Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • BS ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse. Sekundärionen-Massenspektrometrie. Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Tiefenprofilierung organischer Materialien durch Argon-Cluster-Sputtern

Professional Standard - Agriculture, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • JJG(教委) 015-1996 Verifizierungsvorschriften für Atomemissionsspektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma

Professional Standard - Commodity Inspection, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • SN/T 3367-2012 Bestimmung des Titan-, Aluminium-, Silizium-, Phosphor-, Kupfer- und Mangangehalts in Ferrotitan. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • SN/T 3910-2014 Bestimmung von Mangan, Chrom, Nickel, Aluminium, Molybdän, Zinn, Vanadium, Kupfer in Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • SN/T 2493-2010 Bestimmung von Ca,Fe,Na,Ni,Si,Ti,V in Steinkohlenteerpech mittels Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • SN/T 2264-2009 Bestimmung von Cu, Fe, Mg, Mn, Si, Ti, V, Zn und Zr in Aluminiumlegierungen. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • SN/T 3365-2012 Bestimmung des Blei-, Eisen-, Titan-, Kupfer-, Mangan-, Zink-, Chrom- und Aluminiumgehalts in Quarzsand. Induktiv gekoppeltes Plasma-Atomemissionsspektrometerverfahren

Association Francaise de Normalisation, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • NF A08-920:2008 Nickellegierungen - Bestimmung von Tantal - Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma.
  • A08-652:1994 Chemische Analyse von Titan und Titanlegierungen. Zu beachtende Regeln für die Plasmaemissionsspektrometrieanalyse.

SE-SIS, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • SIS SS IEC 731:1988 Medizinische elektrische Geräte – Dos/Meter mit Ionisationskammern, wie sie in der Strahlentherapie verwendet werden

工业和信息化部, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • YS/T 1262-2018 Chemische Analysemethoden für Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen. Bestimmung des Multielementgehalts durch Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma.
  • YB/T 4983-2022 Bestimmung des Phosphor-, Eisen-, Phosphor-, Silizium-, Mangan- und Titangehalts mittels Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • YB/T 4739-2019 Bestimmung des Chrom-, Eisen-, Phosphor-, Aluminium-, Titan-, Kupfer-, Mangan- und Calciumgehalts mittels Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

International Electrotechnical Commission (IEC), Titan-Ionen-Sputtergerät

  • IEC TS 62743:2012 Strahlenschutzinstrumentierung - Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
  • IEC 45B/706/DTS:2011 IEC/TS 62743, Ed. 1: Strahlenschutzinstrumentierung - Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • GB/T 4698.28-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 28: Bestimmung des Rutheniumgehalts – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.27-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 27: Bestimmung des Neodymgehalts – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.8-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 8: Bestimmung des Aluminiumgehalts – Trennung mit komplexmetrischer Natriumhydroxid-EDTA-Titration und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.13-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 13: Bestimmung des Zirkoniumgehalts – EDTA-komplexometrische Titration und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.9-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 9: Bestimmung des Zinngehalts – Kaliumjodat-Titration und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 5195.16-2017 Flussspat – Bestimmung des Silizium-, Aluminium-, Eisen-, Kalium-, Magnesium- und Titangehalts – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.12-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 12: Bestimmung des Vanadiumgehalts – Ammoniumeisensulfat-Titration und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.22-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 22: Bestimmung des Niobgehalts – 5-Br-PADAP-Spektrophotometrie und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.5-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 5: Bestimmung des Molybdängehalts – Thiocyanatspektrophotometrie und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.24-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 24: Bestimmung des Nickelgehalts – Dimethylglyoxim-Spektrophotometrie und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.23-2017 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 23: Bestimmung des Palladiumgehalts – Zinnchlorid-Kaliumjodid-Spektrophotometrie und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

IEC - International Electrotechnical Commission, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • TS 62743-2012 Strahlenschutzinstrumentierung – Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung (Edition 1.0)

Yunnan Provincial Standard of the People's Republic of China, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • DB53/T 422-2012 Bestimmung von Phosphor, Mangan, Titan, Chrom, Kupfer, Vanadium in Ferrophosphor – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • DB53/T 880-2018 Bestimmung von Phosphor, Magnesium, Eisen, Aluminium, Silizium, Kalzium, Mangan, Schwefel, Titan, Strontium in Phosphatgestein. Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • GB/T 5687.12-2020 Ferrochrom – Bestimmung des Phosphor-, Aluminium-, Titan-, Kupfer-, Mangan- und Calciumgehalts – Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 41064-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
  • GB/T 8704.10-2020 Ferrovanadium – Bestimmung des Silizium-, Mangan-, Phosphor-, Aluminium-, Kupfer-, Chrom-, Nickel- und Titangehalts – Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 4698.6-2019 Methoden zur chemischen Analyse von Titanschwamm, Titan und Titanlegierungen – Teil 6: Bestimmung des Borgehalts – Methylenblau-Spektrophotometrie und Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

Hebei Provincial Standard of the People's Republic of China, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • DB13/T 5589-2022 Bestimmung des Phosphor-, Titan-, Mangan-, Chrom-, Kalium- und Natriumgehalts in Stahlschlacke mittels Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • DB13/T 5590-2022 Bestimmung von Phosphor, Titan, Mangan, Zink, Kalium und Natrium in eisenhaltigem Staub und Schlamm – Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

Professional Standard - Ferrous Metallurgy, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • YB/T 6088-2023 Bestimmung des Ferrosiliciumnitrid-Kalzium-, Aluminium-, Chrom-, Mangan-, Titan- und Phosphorgehalts durch Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

国家质量监督检验检疫总局, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • SN/T 4757-2017 Bestimmung von Silizium, Aluminium, Mangan, Phosphor, Kupfer, Nickel, Chrom und Titan in exportiertem Ferrovanadium mittels Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

Inner Mongolia Provincial Standard of the People's Republic of China, Titan-Ionen-Sputtergerät

  • DB15/T 1240-2017 Bestimmung von Eisen, Aluminium, Calcium, Titan, Bor und Phosphor in Siliziumpulver durch induktiv gekoppelte Plasmaemissionsspektrometrie




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