Goldionen-Sputtergerät

Für die Goldionen-Sputtergerät gibt es insgesamt 76 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Goldionen-Sputtergerät die folgenden Kategorien: Vakuumtechnik, Fluidsysteme und allgemeine Teile, Ausrüstung für die Gesundheit des menschlichen Körpers, analytische Chemie, Nichteisenmetallprodukte, Nichteisenmetalle, Halbleitermaterial, Schmuck, Strahlenschutz, Strahlungsmessung, Materialien für die Luft- und Raumfahrtfertigung, Pumpe, Optik und optische Messungen, Gummi, Elektrizität, Magnetismus, elektrische und magnetische Messungen, Rohstoffe für Gummi und Kunststoffe, Bodenqualität, Bodenkunde, Umfangreiche elektronische Komponenten.

Professional Standard - Electron, Goldionen-Sputtergerät

SJ 1781-1981 Sputter-Ionenpumpe – Testmethoden
SJ 1779-1981 Gewöhnliche Zwei-Elektroden-Sputter-Ionenpumpe – Parameterreihe
SJ 1780-1981 Gewöhnliche Zwei-Elektroden-Sputter-Ionenpumpe – Leistungsspezifikation

Professional Standard - Machinery, Goldionen-Sputtergerät

JB/T 4081-2011 Vakuumtechnik – Sputter-Ionenpumpe
JB/T 4082-1991 Technische Bedingungen der Sputter-Ionenpumpe
JB/T 2965-1992 Leistungstestmethode der Sputter-Ionenpumpe
JB/T 4081-1991 Typ und grundlegende Parameter der Sputter-Ionenpumpe

German Institute for Standardization, Goldionen-Sputtergerät

DIN 28429:2003 Vakuumtechnik – Abnahmespezifikationen für Getter-Ionenpumpen
DIN IEC/TS 62743:2013 Strahlenschutzinstrumentierung – Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung (IEC/TS 62743:2012)
DIN CEN/TS 15605:2008 Kupfer und Kupferlegierungen – Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma; Deutsche Fassung CEN/TS 15605:2007
DIN EN 15605:2010-12 Kupfer und Kupferlegierungen – Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma; Deutsche Fassung EN 15605:2010

Group Standards of the People's Republic of China, Goldionen-Sputtergerät

T/QGCML 018-2020 Negativ-Ionen-Emitter

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Goldionen-Sputtergerät

GB/T 25755-2010 Vakuumtechnik.Sputter-Ionenpumpen.Messung von Leistungsmerkmalen
GB/T 29658-2013 Hochreines Sputtertarget aus Aluminium und Aluminiumlegierungen, das in elektronischen Filmen verwendet wird
GB/T 36244-2018 Atomemissionsspektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma
GB/T 41945-2022 Gummi, roh, vulkanisiert – Bestimmung des Metallgehalts mittels ICP-OES

RU-GOST R, Goldionen-Sputtergerät

GOST 5.1807-1973 Getter-Ionenpumpe vom Typ GIN-0,5-1M. Qualitätsanforderungen an zertifizierte Produkte
GOST 27973.2-1988 Gold. Methode der Atomemissionsanalyse mit induktivem Plasma
GOST 5.413-1970 Die matergekühlte Dioden-Sputter-Ionenpumpe NMDI-01-1 (NIRD-100) mit dem Netzteil BP-150. Qualitätsanforderungen an zertifizierte Produkte
GOST R 52371-2005 Babbits aus Zinn und Blei. Methode der Atomemissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
GOST R ISO 22033-2014 Nickellegierungen. Bestimmung von Niob. Spektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma und Atomemission
GOST R ISO 22725-2014 Nickellegierungen. Bestimmung von Tantal. Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma

American Society for Testing and Materials (ASTM), Goldionen-Sputtergerät

ASTM E1162-87(2001) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM E1162-87(1996) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM E1438-91(2001) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
ASTM E1438-91(1996) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
ASTM E1162-11(2019) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM E1162-06 Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM E1832-08 Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation eines Gleichstrom-Plasma-Atomemissionsspektrometers
ASTM E1832-08(2017) Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation eines Gleichstrom-Plasma-Atomemissionsspektrometers
ASTM E684-95(2000) Standardpraxis zur ungefähren Bestimmung der Stromdichte von Ionenstrahlen mit großem Durchmesser für die Sputtertiefenprofilierung fester Oberflächen
ASTM E684-04 Standardpraxis zur ungefähren Bestimmung der Stromdichte von Ionenstrahlen mit großem Durchmesser für die Sputtertiefenprofilierung fester Oberflächen
ASTM E1479-16 Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation von Atomemissionsspektrometern mit induktiv gekoppeltem Plasma
ASTM F2113-01 Standardhandbuch für die Analyse und Berichterstattung des Verunreinigungsgehalts und der Güte hochreiner metallischer Sputtertargets für elektronische Dünnschichtanwendungen
ASTM F2113-01(2007) Standardhandbuch für die Analyse und Berichterstattung des Verunreinigungsgehalts und der Güte hochreiner metallischer Sputtertargets für elektronische Dünnschichtanwendungen
ASTM UOP407-09 Spurenmetalle in organischen Stoffen durch Trockenveraschung – ICP-OES
ASTM F1467-99(2005)e1 Standardhandbuch für die Verwendung eines Röntgentestgeräts ([ungefähr] 10 keV-Photonen) bei der Prüfung der Auswirkungen ionisierender Strahlung auf Halbleiterbauelemente und Mikroschaltungen

Professional Standard - Non-ferrous Metal, Goldionen-Sputtergerät

YS/T 1025-2015 Hochreines Sputtertarget aus Wolfram und Wolframlegierungen, das in elektronischen Filmen verwendet wird
YS/T 935-2013 Standardleitfaden für die Analyse und Berichterstattung über den Verunreinigungsgehalt und den Grad hochreiner metallischer Sputtertargets für elektronische Dünnschichtanwendungen

British Standards Institution (BSI), Goldionen-Sputtergerät

BS ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
BS ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputter-Dept-Profiling unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen dünnen…
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1. Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputtertiefenprofilierung mithilfe von Einzel- und…
PD IEC/TS 62743:2012 Strahlenschutzinstrumentierung. Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
BS ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse. Sekundärionen-Massenspektrometrie. Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Tiefenprofilierung organischer Materialien durch Argon-Cluster-Sputtern
BS EN 15605:2010 Kupfer und Kupferlegierungen. Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

International Organization for Standardization (ISO), Goldionen-Sputtergerät

ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie-Sputtertiefe S
ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Argon-Cluster-Sputter-Tiefenprofilierung organischer Materialien
ISO 22725:2007 Nickellegierungen - Bestimmung von Tantal - Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
ISO 22033:2005 Nickellegierungen - Bestimmung von Niob - Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
ISO 11435:2005 Nickellegierungen - Bestimmung von Molybdän - Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma
ISO 22033:2011 Nickellegierungen - Bestimmung von Niob - Spektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma und Atomemission

Professional Standard - Agriculture, Goldionen-Sputtergerät

JJG(教委) 015-1996 Verifizierungsvorschriften für Atomemissionsspektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma

SE-SIS, Goldionen-Sputtergerät

SIS SS IEC 731:1988 Medizinische elektrische Geräte – Dos/Meter mit Ionisationskammern, wie sie in der Strahlentherapie verwendet werden

International Electrotechnical Commission (IEC), Goldionen-Sputtergerät

IEC TS 62743:2012 Strahlenschutzinstrumentierung - Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
IEC 45B/706/DTS:2011 IEC/TS 62743, Ed. 1: Strahlenschutzinstrumentierung - Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung

IEC - International Electrotechnical Commission, Goldionen-Sputtergerät

TS 62743-2012 Strahlenschutzinstrumentierung – Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung (Edition 1.0)

Society of Automotive Engineers (SAE), Goldionen-Sputtergerät

SAE AMS5791B-2004 Kobaltlegierung, Pulver, Plasmaspritzen 56,5Co 25,5Cr 10,5Ni 7,5W

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Goldionen-Sputtergerät

JIS H 1632-3:2014 Titan.ICP Atomemissionsspektrometrie.Teil 3: Bestimmung von Bor
JIS H 1632-1:2014 Titan.ICP-Atomemissionsspektrometrie.Teil 1: Allgemeine Anforderungen und Probenzerlegung

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Goldionen-Sputtergerät

KS D 1939-2003 Chemische Analyse von Zinklegierungen mittels induktiv gekoppelter Plasmaemissionsspektrometrie
KS D 1674-2009 Methoden zur spektrometrischen Analyse von Spurenelementen in reinem Gold mit induktiv gekoppeltem Plasma
KS D ISO 22033:2006 Nickellegierungen – Bestimmung von Niob – Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma

Standard Association of Australia （SAA）, Goldionen-Sputtergerät

AS 3515.4:2007 Gold und goldhaltige Legierungen – Bestimmung des Goldgehalts (größer 99,95 Prozent) – Induktiv gekoppeltes Plasma – Atomemissionsspektrometrie
AS 4479.4:1999 Analyse von Böden – Bestimmung von Metallen in Königswasserextrakten aus Böden mittels induktiv gekoppelter Plasma-Atomemissionsspektrometrie

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Goldionen-Sputtergerät

GB/T 36764-2018 Bestandteile der Kautschukmischung – Kieselsäure, ausgefällt, hydratisiert – Bestimmung des Schwermetallgehalts durch induktiv gekoppeltes Plasma-Atomemissionsspektrometerverfahren
GB/T 41064-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen

Professional Standard - Aviation, Goldionen-Sputtergerät

HB 20094.2-2012 Prüfverfahren zur Bestimmung von Verschleißmetallen in Betriebsflüssigkeiten für die Luftfahrt. Teil 2: Automatische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-AES)

Association Francaise de Normalisation, Goldionen-Sputtergerät

NF A08-920:2008 Nickellegierungen - Bestimmung von Tantal - Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma.
NF ISO 23166:2019 Nickellegierungen - Bestimmung von Tantal - Optische Emissionsspektrometriemethode mit hochfrequenzinduzierter Plasmaquelle
NF A08-702*NF EN 15605:2010 Kupfer und Kupferlegierungen – Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
NF EN 10361:2016 Legierte Stähle - Bestimmung von Nickel - Optische Emissionsspektrometriemethode mit induzierter Plasmaquelle

European Committee for Standardization (CEN), Goldionen-Sputtergerät

EN 15605:2010 Kupfer und Kupferlegierungen – Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

Danish Standards Foundation, Goldionen-Sputtergerät

DS/EN 15605:2010 Kupfer und Kupferlegierungen – Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

Lithuanian Standards Office , Goldionen-Sputtergerät

LST EN 15605-2010 Kupfer und Kupferlegierungen – Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

AENOR, Goldionen-Sputtergerät

UNE-EN 15605:2011 Kupfer und Kupferlegierungen – Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma