Ionen-Sputter-Instrument

Für die Ionen-Sputter-Instrument gibt es insgesamt 82 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Ionen-Sputter-Instrument die folgenden Kategorien: Vakuumtechnik, Fluidsysteme und allgemeine Teile, Ausrüstung für die Gesundheit des menschlichen Körpers, analytische Chemie, Halbleitermaterial, Nichteisenmetallprodukte, Elektronenröhre, Optik und optische Messungen, Elektronische Anzeigegeräte, Nichteisenmetalle, Strahlungsmessung, Strahlenschutz, Luftqualität, Pumpe, Elektrizität, Magnetismus, elektrische und magnetische Messungen, Längen- und Winkelmessungen, medizinische Ausrüstung, Zerstörungsfreie Prüfung, Materialien für die Luft- und Raumfahrtfertigung, Umwelttests, Metrologie und Messsynthese, Wortschatz, Umfangreiche elektronische Komponenten.

Professional Standard - Electron, Ionen-Sputter-Instrument

SJ 1781-1981 Sputter-Ionenpumpe – Testmethoden
SJ 1779-1981 Gewöhnliche Zwei-Elektroden-Sputter-Ionenpumpe – Parameterreihe
SJ 1780-1981 Gewöhnliche Zwei-Elektroden-Sputter-Ionenpumpe – Leistungsspezifikation

Professional Standard - Machinery, Ionen-Sputter-Instrument

JB/T 4081-2011 Vakuumtechnik – Sputter-Ionenpumpe
JB/T 4082-1991 Technische Bedingungen der Sputter-Ionenpumpe
JB/T 2965-1992 Leistungstestmethode der Sputter-Ionenpumpe
JB/T 4081-1991 Typ und grundlegende Parameter der Sputter-Ionenpumpe

German Institute for Standardization, Ionen-Sputter-Instrument

DIN 28429:2003 Vakuumtechnik – Abnahmespezifikationen für Getter-Ionenpumpen
DIN IEC/TS 62743:2013 Strahlenschutzinstrumentierung – Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung (IEC/TS 62743:2012)
DIN IEC 60562:1980 Messungen der einfallenden ionisierenden Strahlung von Elektronenröhren
DIN IEC 60562:1980-05 Messungen der einfallenden ionisierenden Strahlung von Elektronenröhren

Group Standards of the People's Republic of China, Ionen-Sputter-Instrument

T/QGCML 018-2020 Negativ-Ionen-Emitter
T/CAQI 202-2021 Luftionendetektor
T/CI 286-2024 Kaltplasma-Wundbehandlungsinstrument
T/CAIA YQ006-2018 Leistungstestmethode der Ionenchromatographie

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Ionen-Sputter-Instrument

GB/T 25755-2010 Vakuumtechnik.Sputter-Ionenpumpen.Messung von Leistungsmerkmalen
GB/T 36244-2018 Atomemissionsspektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma
GB/T 29658-2013 Hochreines Sputtertarget aus Aluminium und Aluminiumlegierungen, das in elektronischen Filmen verwendet wird
GB/T 31227-2014 Prüfverfahren für die Oberflächenrauheit mittels Rasterkraftmikroskop für gesputterte Dünnfilme
GB/T 18809-2002 Allgemeine Spezifikation für Luftionenmessgeräte
GB/T 29787-2013 Strahlenschutzinstrumentierung. Mobile Instrumentierung zur Messung von Photonen- und Neutronenstrahlung in der Umwelt

RU-GOST R, Ionen-Sputter-Instrument

GOST 5.1807-1973 Getter-Ionenpumpe vom Typ GIN-0,5-1M. Qualitätsanforderungen an zertifizierte Produkte
GOST 5.413-1970 Die matergekühlte Dioden-Sputter-Ionenpumpe NMDI-01-1 (NIRD-100) mit dem Netzteil BP-150. Qualitätsanforderungen an zertifizierte Produkte
GOST 14337-1978 Messgeräte für ionisierende Strahlung. Begriffe und Definitionen

American Society for Testing and Materials (ASTM), Ionen-Sputter-Instrument

ASTM E1162-87(2001) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM E1162-87(1996) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM E1438-91(2001) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
ASTM E1438-91(1996) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
ASTM E1162-11(2019) Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM E1162-06 Standardpraxis für die Meldung von Sputtertiefenprofildaten in der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS)
ASTM F1238-95(2003) Standardspezifikation für feuerfeste Silizid-Sputtertargets für mikroelektronische Anwendungen
ASTM F1709-97 Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
ASTM F1709-97(2016) Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
ASTM F1709-97(2002) Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
ASTM F1709-97(2008) Standardspezifikation für Sputtertargets aus hochreinem Titan für elektronische Dünnschichtanwendungen
ASTM E1832-08 Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation eines Gleichstrom-Plasma-Atomemissionsspektrometers
ASTM E1832-08(2017) Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation eines Gleichstrom-Plasma-Atomemissionsspektrometers
ASTM E684-95(2000) Standardpraxis zur ungefähren Bestimmung der Stromdichte von Ionenstrahlen mit großem Durchmesser für die Sputtertiefenprofilierung fester Oberflächen
ASTM E684-04 Standardpraxis zur ungefähren Bestimmung der Stromdichte von Ionenstrahlen mit großem Durchmesser für die Sputtertiefenprofilierung fester Oberflächen
ASTM F1238-95(1999) Standardspezifikation für feuerfeste Silizid-Sputtertargets für mikroelektronische Anwendungen
ASTM F1238-95(2011) Standardspezifikation für feuerfeste Silizid-Sputtertargets für mikroelektronische Anwendungen
ASTM E1479-16 Standardpraxis zur Beschreibung und Spezifikation von Atomemissionsspektrometern mit induktiv gekoppeltem Plasma
ASTM F1467-99(2005)e1 Standardhandbuch für die Verwendung eines Röntgentestgeräts ([ungefähr] 10 keV-Photonen) bei der Prüfung der Auswirkungen ionisierender Strahlung auf Halbleiterbauelemente und Mikroschaltungen

Professional Standard - Non-ferrous Metal, Ionen-Sputter-Instrument

YS/T 819-2012 Hochreines Sputter-Kupfer-Target für den Einsatz in elektronischen Filmen
YS/T 893-2013 Hochreines Sputter-Titan-Target für den Einsatz in elektronischen Filmen
YS/T 1025-2015 Hochreines Sputtertarget aus Wolfram und Wolframlegierungen, das in elektronischen Filmen verwendet wird

British Standards Institution (BSI), Ionen-Sputter-Instrument

BS ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
BS ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputter-Dept-Profiling unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen dünnen…
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1. Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputtertiefenprofilierung mithilfe von Einzel- und…
PD IEC/TS 62743:2012 Strahlenschutzinstrumentierung. Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
PD IEC TS 63050:2019 Strahlenschutzinstrumentierung. Dosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
BS ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse. Sekundärionen-Massenspektrometrie. Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Tiefenprofilierung organischer Materialien durch Argon-Cluster-Sputtern

International Organization for Standardization (ISO), Ionen-Sputter-Instrument

ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie-Sputtertiefe S
ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Argon-Cluster-Sputter-Tiefenprofilierung organischer Materialien

Professional Standard - Agriculture, Ionen-Sputter-Instrument

JJG(教委) 015-1996 Verifizierungsvorschriften für Atomemissionsspektrometer mit induktiv gekoppeltem Plasma
JJG(教委) 020-1996 Eichvorschriften für die Ionenchromatographie

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Ionen-Sputter-Instrument

GB/T 36240-2018 Ionenchromatographen
GB/T 41064-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
GB/T 18809-2019 Allgemeine Spezifikation für Luftionenmessgeräte

SE-SIS, Ionen-Sputter-Instrument

SIS SS IEC 731:1988 Medizinische elektrische Geräte – Dos/Meter mit Ionisationskammern, wie sie in der Strahlentherapie verwendet werden
SIS SS IEC 577:1981 Nukleare Instrumentierung – ionisierende Strahlungsdickenmessgeräte

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Ionen-Sputter-Instrument

KS A 4042-1976(1997) Strahlungsmessgeräte vom Typ Ionisationskammer
KS A 4042-1982 Strahlungsmessgeräte vom Typ Ionisationskammer
KS A 4042-2001 Strahlungsmessgeräte vom Typ Ionisationskammer

International Electrotechnical Commission (IEC), Ionen-Sputter-Instrument

IEC TS 62743:2012 Strahlenschutzinstrumentierung - Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
IEC TS 63050:2019 Strahlenschutzinstrumentierung - Dosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung
IEC 62438:2010 Strahlenschutzinstrumentierung - Mobile Instrumentierung zur Messung von Photonen- und Neutronenstrahlung in der Umwelt
IEC 45B/706/DTS:2011 IEC/TS 62743, Ed. 1: Strahlenschutzinstrumentierung - Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung

IEC - International Electrotechnical Commission, Ionen-Sputter-Instrument

TS 62743-2012 Strahlenschutzinstrumentierung – Elektronische Zähldosimeter für gepulste Felder ionisierender Strahlung (Edition 1.0)

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Ionen-Sputter-Instrument

JIS H 1632-3:2014 Titan.ICP Atomemissionsspektrometrie.Teil 3: Bestimmung von Bor
JIS Z 4614:1993 Quellenbehälter eines Messgeräts, das ionisierende Strahlung nutzt
JIS H 1632-1:2014 Titan.ICP-Atomemissionsspektrometrie.Teil 1: Allgemeine Anforderungen und Probenzerlegung

CZ-CSN, Ionen-Sputter-Instrument

CSN 35 6550-1984 Instrumente zur Messung ionisierender Strahlung. Terminologie

National Metrological Verification Regulations of the People's Republic of China, Ionen-Sputter-Instrument

JJG 823-1993 Eichordnung für Ionenchromatographen
JJG 823-2014 Eichordnung für Ionenchromatographen
JJG(地质) 1008-1990 Eichvorschriften für die Ionenchromatographie
JJG 155-2020 Tester für den Chlorid-Ionen-Diffusionskoeffizienten

Society of Automotive Engineers (SAE), Ionen-Sputter-Instrument

SAE AMS5793A-1992 Pulver, Plasmaspray 95Ni 5Al
SAE AMS5793B-2006 Pulver, Plasmaspray 95Ni - 5Al

National Metrological Technical Specifications of the People's Republic of China, Ionen-Sputter-Instrument

JJF 1715-2018 Programm zur Musterauswertung von Ionenchromatographen

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Ionen-Sputter-Instrument

GB/T 32999-2016 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Messung der Sputterrate: Mesh-Replica-Methode unter Verwendung eines mechanischen Stiftprofilometers