2차 회절 분석

모두 220항목의 2차 회절 분석와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 2차 회절 분석와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 분석 화학, 입자 크기 분석, 스크리닝, 비철금속, 내화물, 화학 제품, 어휘, 공기질, 반도체 소재, 방사선방호, 무기화학, 광학 장비, 광학 및 광학 측정, 산업안전, 산업위생, 세라믹, 건축 자재, 페인트 및 바니시, 비파괴 검사, 발전소 종합, 비금속 광물, 유기화학, 기르다, 페인트 성분, 고무 및 플라스틱 원료, TV 방송 및 라디오 방송, 오디오, 비디오 및 시청각 엔지니어링, 무선 통신.

PT-IPQ, 2차 회절 분석

E E 14-1971 X선 회절 분석

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 2차 회절 분석

KS M 0043-2009 X선 회절 분석
KS A ISO 13320:2022 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
KS M 0043-2009(2019) X선 회절 분석의 일반 규칙
KS A ISO 13320-2014(2019) 입자 크기 분석 - 레이저 회절 방법
KS A ISO 13320:2014 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
KS A ISO 13320-1-2004(2009) 입자 크기 분석 - 레이저 회절 방법 - 1부: 일반
KS M ISO 8130-13:2008 코팅용 분말 - 13부: 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석
KS M ISO 8130-13:2019 코팅된 분말 - 13부: 레이저 회절을 통한 입자 크기 분석
KS A ISO 13320-1:2004 입자 크기 분석 레이저 회절 방법 1부: 일반 원리
KS A ISO 13320-1:2014 입자 크기 분석을 위한 레이저 회절 방법 1부: 일반 원리
KS D ISO 17560-2003(2018) 표면 화학 분석 - 2차 이온 질량 분석 - 실리콘 내 붕소 깊이 분포 측정 방법
KS E 3076-2002 원패스 실리카 및 실리카의 X선 형광 분석
KS D ISO 22048-2005(2020) 표면 화학 분석 - 정적 2차 이온 질량분석법을 위한 정보 형식
KS D ISO 14237-2003(2018) 지하 분석 - 2차 이온 질량 분석 - 실리콘에 균일하게 첨가된 붕소 원자 농도 측정 방법

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 2차 회절 분석

GB/T 19077.1-2003 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
GB/T 19077-2016 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
GB/T 19501-2013 마이크로빔 분석의 일반 원리 전자 후방 산란 회절 분석 방법
GB/T 19501-2004 전자 후방 산란 회절 분석 방법의 일반 원리
GB/T 30703-2014 마이크로빔 분석을 위한 지침 전자 후방 산란 회절 방향 분석 방법
GB/T 18907-2013 마이크로빔 분석, 분석전자현미경, 투과전자현미경, 선정된 전자회절분석법
GB 16355-1996 X선 회절계 및 형광 분석기의 방사선 방호 표준
GB/T 19421.1-2003 층상 결정질 이규산나트륨의 시험 방법 델타상 층상 결정질 이규산나트륨의 정성 분석 X선 회절법
GB/T 18907-2002 투과전자현미경으로 선택된 전자회절 분석방법
GB/T 19077.1-2008 입자 크기 분석 레이저 회절 방법 1부: 일반 원리
GB/T 30904-2014 무기화학제품의 결정구조 분석을 위한 X선 회절법
GB/T 21782.13-2009 분말 코팅 13부: 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석
GB/T 38532-2020 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 평균 입자 크기 결정
GB/T 6609.32-2009 알루미나의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 32부: α-알루미나 함량 측정 X선 회절 방법
GB/T 32495-2016 실리콘 내 비소에 대한 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 깊이 프로파일링 방법
GB/T 32698-2016 레이저 회절법을 이용한 고무 화합물 내 침강 수화 실리카의 입자 크기 분포 측정
GB/T 26019-2010 고순도 텅스텐 광석의 화학적 분석 방법 삼산화텅스텐 함량 측정 2차 분리 착화 중량 분석 방법

KR-KS, 2차 회절 분석

KS A ISO 13320-2022 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
KS M ISO 8130-13-2019 코팅된 분말 - 13부: 레이저 회절을 통한 입자 크기 분석
KS D ISO 17560-2003(2023) 실리콘의 표면화학 분석 - 2차 이온 질량 분석 - 붕소 깊이 분포 측정 현장 방법
KS D ISO 14237-2003(2023) 지하 화학 분석 - 2차 이온 질량 분석 - 실리콘에 균일하게 첨가된 붕소 원자의 농도 측정 방법

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 2차 회절 분석

JIS Z 8825:2013 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
JIS Z 8825:2022 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
JIS K 0131:1996 X선 회절계 측정 분석에 대한 일반 규칙
JIS Z 8825-1:2001 입자 크기 분석 레이저 회절 방법 1부: 일반 원리
JIS K 0164:2023 실리콘 내 붕소의 깊이 분석을 위한 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 방법
JIS K 0157:2021 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석기 이동 시간 2차 이온 질량 분석기에 대한 질량 눈금 교정
JIS A 1481-3:2014 건축 자재 제품의 석면 측정 3부: X선 회절을 통한 석면 함량 정량 분석
JIS K 0168:2011 표면 화학 분석 - 정적 2차 이온 질량분석법을 위한 정보 형식
JIS K 0158:2021 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 단일 이온 계수 동적 2차 이온 질량 분석법의 포화 강도 보정 방법
JIS K 0153:2015 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 정적 2차 이온 질량 분석법의 상대 강도 범위의 반복성과 안정성
JIS K 5600-9-3:2006 코팅 테스트 방법 파트 9: 코팅 분말 섹션 3: 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석
JIS A 1481-3 AMD 1:2022 건축 자재 제품의 석면 측정 3부: X선 회절을 통한 석면 함량 정량 분석(수정 사항 1)
JIS K 0155:2018 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 척도 선형성

Danish Standards Foundation, 2차 회절 분석

DS/ISO 13320:2009 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
DS/EN ISO 8130-13:2011 코팅 분말 파트 13: 레이저 회절을 통한 입자 크기 분석
DS/EN 15305/AC:2009 비파괴검사를 위한 X선 회절을 이용한 잔류응력 분석 시험방법
DS/EN 15305:2008 비파괴검사를 위한 X선 회절을 이용한 잔류응력 분석 시험방법

British Standards Institution (BSI), 2차 회절 분석

BS ISO 13320:2020 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
BS ISO 13320:2010 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
BS ISO 13320:2009 입자 크기 분석 - 레이저 회절 방법
19/30333249 DC BS ISO 13320 입자 크기 분석을 위한 레이저 회절 방법
BS ISO 13320-1:2000 입자 크기 분석 레이저 회절 방법 일반 규칙
BS ISO 25498:2018 마이크로빔 분석 분석 전자현미경 투과전자현미경을 이용한 선택된 영역 전자회절 분석
BS EN ISO 8130-13:2010 분말 코팅 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석
BS EN ISO 8130-13:2001 레이저 회절을 이용한 분말 코팅의 입자 크기 분석
BS ISO 16258-2:2015 작업장 공기 X선 회절을 이용한 호흡성 석영 분석 간접 분석 방법
BS EN ISO 8130-13:2019 레이저 회절을 이용한 코팅 분말의 입도 분석
BS ISO 13067:2011 마이크로빔 분석 후방 산란 전자 회절 평균 입자 크기 측정
BS ISO 13067:2020 평균 입자 크기의 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 측정
BS ISO 13084:2018 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 분석 Time-of-Flight 2차 이온 질량 분석법 질량 스케일 교정
BS ISO 23749:2022 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절을 통한 강철 내 오스테나이트의 정량적 측정
BS EN 15305:2008 비파괴 시험 X선 회절을 이용한 잔류 응력 분석 시험 방법
BS ISO 24173:2009 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절을 이용한 방위각 측정 기준
BS ISO 22415:2019 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 분석 유기 물질의 아르곤 클러스터 스퍼터링 깊이 프로파일링의 수율 결정 방법
BS ISO 20411:2018 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 단일 이온 계수 동적 2차 이온 질량 분석 포화 강도 보정 방법
BS ISO 25498:2010 마이크로빔 분석 분석 전자 현미경 투과 전자 현미경을 사용하여 선택된 영역의 전자 회절 분석.
19/30365236 DC BS ISO 13067 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 평균 입자 크기 측정
BS ISO 12406:2010 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 실리콘 내 비소의 깊이 프로파일링
21/30398224 DC BS ISO 23749 마이크로빔 분석을 통한 전자 후방 산란 회절을 통한 강철의 오스테나이트 정량 측정
BS EN 12698-2:2007 탄화규소 내화물에 결합된 질화물의 화학적 분석 광선 회절(XRD) 방법
23/30435799 DC BS ISO 24173 마이크로빔 분석에 의한 전자 후방 산란 회절을 사용한 방향 측정 가이드
BS ISO 23703:2022 전자 후방 산란 회절(EBSD)을 통한 오스테나이트계 스테인리스강의 기계적 손상 평가를 위한 오방향 분석에 대한 마이크로빔 분석 가이드
BS ISO 16258-1:2015 작업장 공기 X선 회절을 이용한 호흡성 석영 분석 직접 여과법
BS ISO 13084:2011 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 비행 시간차 2차 이온 질량 분석을 위한 질량 척도 교정
BS 3900-J13:2001 코팅 시험 방법 코팅 분말 시험 레이저 회절법에 의한 입자 크기 분석
BS ISO 17109:2022 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 및 다층 필름의 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법...
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 표면 화학 분석의 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 이온 질량 분석법을 사용하는 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도 결정 방법...
21/30395106 DC BS ISO 23703 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절(EBSD)을 통한 오스테나이트계 스테인리스강의 기계적 손상 평가를 위한 잘못된 방향 분석 가이드
BS ISO 22048:2004 표면 화학 분석을 위한 정적 2차 이온 질량 분석법의 정보 형식
BS ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
BS ISO 17862:2022 표면 화학 분석 2차 이온 질량분석기 분석 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 스케일링 선형성
20/30409963 DC BS ISO 17862 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 척도 선형성

German Institute for Standardization, 2차 회절 분석

DIN ISO 13320:2022-12 입자 크기 분석 레이저 회절 방법
DIN ISO 13320:2022 입자 크기 분석 레이저 회절 방법(ISO 13320:2020)
DIN EN ISO 8130-13:2019-08 코팅 분말 파트 13: 레이저 회절 입자 크기 분석
DIN EN 15305 Berichtigung 1:2009-04 비파괴검사 X선 회절 잔류응력 분석 시험방법
DIN ISO 13067:2021-08 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 평균 입자 크기 측정
DIN EN 15305:2009-01 비파괴검사 X선 회절 잔류응력 분석 시험방법
DIN 55912-2 Bb.1:1999 안료 이산화티타늄 안료 분석 방법 X선 형광 분석을 통한 미량 성분 측정의 예
DIN EN 15305 Berichtigung 1:2009 X-선 회절 분석을 이용한 비파괴 시험 잔류 응력 분석 시험 방법
DIN ISO 13067:2015 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 평균 입자 크기 측정(ISO 13067-2011)
DIN EN 15305:2009 비파괴 시험 X선 회절에 의한 잔류 응력 분석 시험 방법.
DIN ISO 24173:2013-04 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절을 사용한 방향 측정 가이드
DIN ISO 13067:2021 평균 입자 크기의 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 측정(ISO 13067:2020)
DIN EN ISO 8130-13:2019 코팅 분말 파트 13: 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석(ISO 8130-13:2019)
DIN EN 12698-2:2007 질화물 결합 탄화규소 내화물의 화학적 분석 2부: X선 회절(XRD) 방법
DIN ISO 24173:2013 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절을 사용한 방향 측정 지침(ISO 24713-2009)
DIN 55912-2 Bb.2:1999 안료 이산화티타늄 안료 분석 방법 X선 형광 분석을 통한 검량선 개발
DIN EN ISO 8130-13:2011 분말 코팅 13부: 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석(ISO 8130-13-2001), 독일어 버전 EN ISO 8130-13-2010

工业和信息化部, 2차 회절 분석

YS/T 1178-2017 알루미늄 슬래그 상 분석 X선 회절법
YB/T 172-2020 X-선 회절법을 이용한 실리카 벽돌의 정량적 상 분석
YS/T 1160-2016 산업용 실리콘 분말의 정량상 분석 실리카 함량 결정 X선 회절 K 값 방법
YS/T 1344.3-2020 주석 도핑된 산화인듐 분말의 화학적 분석 방법 제3부: 상 분석 X선 회절 분석 방법

International Organization for Standardization (ISO), 2차 회절 분석

ISO 13320:2020 입자 크기 분석 - 레이저 회절 방법
ISO 13320:2009 입자 미세도 분석 레이저 회절 방법
ISO/CD 23699 마이크로빔 분석 - 전자 후방 산란 전자 회절 - 어휘
ISO 16258-2:2015 작업장 공기 X선 회절을 통한 호흡성 결정질 실리카 분석 2부: 간접 분석 방법
ISO/CD 25498:2023 마이크로빔 분석 분석 전자현미경 투과전자현미경을 이용한 선택된 영역 전자회절 분석
ISO 13067:2011 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 평균 입자 크기 측정
ISO 13320-1:1999 입자 크기 분석을 위한 레이저 회절 방법 1부: 일반 원리
ISO 16258-1:2015 작업장 공기 X-선 회절을 통한 호흡성 결정질 실리카 분석 1부: 직접 여과 방법
ISO 23749:2022 마이크로빔 분석, 전자 후방 산란 회절, 강철의 오스테나이트 정량 측정
ISO 13067:2020 마이크로빔 분석 - 전자 후방 산란 회절 - 평균 입자 크기 측정
ISO 8130-13:2001 분체 코팅 13부: 레이저 회절을 이용한 입자 크기 분석
ISO 8130-13:2019 코팅된 분말 - 13부: 레이저 회절을 통한 입자 크기 분석
ISO 24173:2009 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절을 사용한 방향 측정 가이드
ISO/DIS 24173:2023 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절을 사용한 방향 측정 가이드
ISO 13084:2011 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석기 비행 시간 2차 이온 질량 분석기에 대한 질량 스케일 교정
ISO 25498:2010 마이크로빔 분석 분석 전자 현미경 투과 전자 현미경을 사용하여 선택된 영역의 전자 회절 분석.
ISO 25498:2018 마이크로빔 분석 분석 전자 현미경 투과 전자 현미경을 사용하여 선택된 영역의 전자 회절 분석.
ISO 12406:2010 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 실리콘 내 비소의 깊이 프로파일링
ISO 23703:2022 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절(EBSD)을 사용하여 오스테나이트계 스테인리스 강의 기계적 손상을 평가하기 위한 방향 분석 가이드
ISO 17560:2014 표면 화학 분석 - 2차 이온 질량 분석법 - 실리콘 내 실리콘의 심층 분석 방법
ISO 22048:2004 표면 화학 분석 - 정적 2차 이온 질량분석법 정보 형식
ISO 13084:2018 표면 화학 분석 - 2차 이온 질량 분석기 - 비행 시간형 2차 이온 질량 분석기에 대한 질량 분석기 교정
ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
ISO 20411:2018 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 단일 이온 계수 동적 2차 이온 분석법의 포화 강도 보정 방법
ISO 22415:2019 표면 화학 분석, 2차 이온 질량 분석법, 유기 물질의 아르곤 클러스터 스퍼터링 깊이 프로파일을 통한 수율량 결정 방법.
ISO 178:1975 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 스케일링 선형성
ISO 17862:2022 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 스케일링 선형성
ISO 17862:2013 표면 화학 분석 - 2차 이온 질량 분석법 - 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 스케일링의 선형성
ISO 178:2019 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 스케일링 선형성

Professional Standard - Ferrous Metallurgy, 2차 회절 분석

YB/T 172-2000 실리카 벽돌의 정량상 분석.X선 회절법
YB/T 5320-2006 금속재료의 정량상 분석을 위한 X선 회절 K 값 방법
YB/T 5336-2006 X-선 회절법을 이용한 고속도강의 탄화물 상의 정량 분석

American National Standards Institute （ANSI), 2차 회절 분석

ANSI/HPS N43.2-2021 광선 회절 및 형광 분석 장비의 방사선 안전
ANSI N43.2-2001 X선 회절 및 형광 분석 장비의 방사선 안전성

Association Francaise de Normalisation, 2차 회절 분석

NF X43-600-2*NF ISO 16258-2:2015 X선 회절을 이용한 작업장 공기 호흡성 결정질 실리카 분석 2부: 간접 분석 방법
NF ISO 24173:2009 마이크로빔 분석 후방산란 전자 회절 방향 측정 가이드
NF X11-666:1984 입자 크기 결정 분말의 입자 크기 분석 회절 방법
NF X21-014:2012 마이크로빔 분석, 전자 후방 산란 회절, 평균 입자 크기 측정
NF T30-499-13*NF EN ISO 8130-13:2019 코팅 분말 파트 13: 레이저 회절 입자 크기 분석
NF EN 15305:2009 비파괴검사 X선 회절 잔류응력 분석 시험방법
NF X43-600-1*NF ISO 16258-1:2015 X선 회절을 통한 작업장 공기의 호흡성 결정질 실리카 분석 1부: 직접 여과 방법
NF EN ISO 8130-13:2019 코팅용 분말 - 파트 13: 레이저 회절 입자 크기 분석
NF T25-111-6:1991 탄소 섬유 - 질감 및 구조 - 6부: 선택 영역 회절 분석
NF X21-011*NF ISO 24173:2009 마이크로빔 분석을 위한 전자 후방 산란 회절 방향 측정 가이드
NF T25-111-3:1991 탄소 섬유 - 질감 및 구조 - 3부: X선 회절의 방위각 분석
NF ISO 16258-2:2015 작업장 공기 중 X선 회절을 통한 결정질 실리카의 호흡 가능 분율 측정 2부: 간접 분석 방법
NF T30-499-13:2011 분말 코팅 파트 13: 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석.
NF ISO 16258-1:2015 작업장 공기 X선 회절 방법을 통한 결정질 실리카의 호흡 가능 분율 측정 1부: 직접 여과 분석 방법
NF A09-185*NF EN 15305:2009 비파괴 시험 - X선 회절에 의한 잔류 응력 분석 시험 방법
NF A09-285:1999 비파괴 시험 X선 회절에 의한 잔류 응력 분석 시험 방법
NF ISO 17560:2006 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 두께 분석을 통한 실리콘 내 붕소 함량 결정
NF B49-422-2*NF EN 12698-2:2008 질화물 결합 탄화규소 내화물의 화학적 분석 2부: X선 회절(XRD) 방법.
NF ISO 23830:2009 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 2차 이온 정적 질량 분석법의 상대 강도 스케일링의 반복성 및 안정성
NF ISO 14237:2010 표면 화학 분석 균일하게 도핑된 물질을 사용한 실리콘 내 붕소 원자량의 2차 이온 질량 분석

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 2차 회절 분석

GB/T 36923-2018 진주분말 식별법 X선 회절분석
GB/T 41076-2021 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절을 통한 강철 내 오스테나이트 정량 분석
GB/T 40407-2021 포틀랜드 시멘트 클링커의 광물상의 X선 회절분석법
GB/T 40129-2021 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석기 비행 시간 2차 이온 질량 분석기 질량 교정
GB/T 40109-2021 표면 화학 분석 실리콘 내 붕소의 깊이 프로파일링을 위한 2차 이온 질량 분석 방법
GB/T 20724-2021 마이크로빔 분석 수렴빔 전자 회절 얇은 결정의 두께 결정
GB/T 41064-2021 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 단층 및 다층 필름을 사용하는 X선 광전자 분광법, 오제 전자 분광법 및 2차 이온 질량 분석법에서 깊이 프로파일링 스퍼터링 속도를 결정하는 방법

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 2차 회절 분석

GB/T 34172-2017 금속 및 합금의 마이크로빔 분석 전자 후방 산란 회절 위상 분석 방법

Standard Association of Australia （SAA）, 2차 회절 분석

AS 4863.1:2000 입자 크기 분석. 레이저 회절 방법. 일반 원칙

Occupational Health Standard of the People's Republic of China, 2차 회절 분석

GBZ 115-2002 X선 회절 및 형광 분석기의 위생 보호 표준

Guangdong Provincial Standard of the People's Republic of China, 2차 회절 분석

DB44/T 1078-2012 세라믹 원료 입자 크기 분석 레이저 회절 방법

ES-UNE, 2차 회절 분석

UNE-EN ISO 8130-13:2020 코팅 분말 파트 13: 레이저 회절 입자 크기 분석

CEN - European Committee for Standardization, 2차 회절 분석

EN ISO 8130-13:2019 분말 코팅 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석

European Committee for Standardization (CEN), 2차 회절 분석

EN ISO 8130-13:2010 분말 코팅 레이저 회절에 의한 입자 크기 분석
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Lithuanian Standards Office , 2차 회절 분석

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American Society for Testing and Materials (ASTM), 2차 회절 분석

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国家能源局, 2차 회절 분석

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International Telecommunication Union (ITU), 2차 회절 분석

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