GB/T 41652-2022
刻蚀机用硅电极及硅环
Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
GBT41652-2022, GB41652-2022
GB/T 41652-2022 发布历史
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。 本文件适用于p直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm~450 mm 的硅电极及硅环。
GB/T 41652-2022由国家质检总局 CN-GB 发布于 2022-07-11，并于 2023-02-01 实施。
GB/T 41652-2022 在中国标准分类中归属于: H82 元素半导体材料，在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。
GB/T 41652-2022 发布之时，引用了标准
- GB/T 11073 硅片径向电阻率变化的测量方法
- GB/T 14264 半导体材料术语
- GB/T 1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
- GB/T 1551 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
- GB/T 1554 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
- GB/T 1555 半导体单晶晶向测定方法
- GB/T 1557 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
- GB/T 1558 硅中代位碳原子含量.红外吸收测量方法
- GB/T 29505 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
- GB/T 6624 硅抛光片表面质量目测检验方法
GB/T 41652-2022的历代版本如下：
- 2022年 GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
- 标准号
- GB/T 41652-2022
- 别名
- GBT41652-2022
GB41652-2022 - 发布
- 2022年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 41652-2022
- 引用标准
- GB/T 11073 GB/T 14264 GB/T 1550 GB/T 1551 GB/T 1554 GB/T 1555 GB/T 1557 GB/T 1558 GB/T 29505 GB/T 6624
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