等离子处理也能改变其它材料的表面化学(表面性质),如硅、不锈钢及玻璃。用低温等离子体在适宜的工艺条件下处理PE、PP、PVF2、LDPE等材料,材料的表面形态发生显著的变化,引入了多种含氧基团,使表面由非极性、难粘性转为有一定极性、易黏性和亲水性,有利于粘结、涂覆和印刷。小结 以上多是一些调研的相关内容,其中的很多内容,小编也是云里雾里。下面,小编举两个科研中简单的例子来具象化等离子体刻蚀技术。 ...
例如,当 0.13μm 工艺的铜互连技术出现时,金属刻蚀设备的占比大幅下降,而介质刻蚀设备的占比大幅上升;30nm 之后的工艺中出现的多重图像技术及越来越多的软刻蚀应用,则使得硅刻蚀设备的占比快速增加。国际巨头泛林集团、东京电子、应用材料均实现了硅刻蚀、介质刻蚀、金属刻蚀的全覆盖,占据了全球干法刻蚀机市场的 80%以上份额。...
图1:金属铜纳米颗粒催化化学刻蚀法制备大面积均匀倒金字塔绒面结构。(a)浸泡在刻蚀液中的156 x 156 mm2工业用单晶硅片(上)及表面低倍电镜照片(下);(b)致密的倒金字塔阵列(上)及目前通用的金字塔阵列(下)电镜照片;(c)单个倒金字塔俯视(上)及截面(下)照片,圆滑的底部有利于电极的均匀覆盖和良好欧姆接触的形成。图2:未制绒硅、金字塔绒面及刻蚀不同时间的倒金字塔绒面的反射率对比。...
5、边缘刻蚀、清洗:扩散过程中,在硅片的周边表面也形成了扩散层。周边扩散层使电池的上下电极形成短路环,必须将它除去。周边上存在任何微小的局部短路都会使电池并联电阻下降,以至成为废品。目前,工业化生产用等离子干法腐蚀,在辉光放电条件下通过氟和氧交替对硅用途,去除含有扩散层的周边。扩散后清洗的目的是去除扩散过程中形成的磷硅玻璃。6、沉积减反射层:沉积减反射层的目的在于减少表面反射,新增折射率。...
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