GB/T 1554-2009
硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
Testing method for crystallographic perfection of silicon by preferential etch techniques
GBT1554-2009, GB1554-2009
GB/T 1554-2009 发布历史
GB/T 1554-2009由国家质检总局 CN-GB 发布于 2009-10-30，并于 2010-06-01 实施。
GB/T 1554-2009 在中国标准分类中归属于: H80 半金属与半导体材料综合，在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。
GB/T 1554-2009 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法的最新版本是哪一版？
最新版本是 GB/T 1554-2009 。
GB/T 1554-2009 发布之时，引用了标准
- GB/T 14262-1993 散装浮选铅精矿取样、制样方法
- YS/T 209-1994 硅材料原生缺陷图谱
GB/T 1554-2009的历代版本如下：
- 2009年 GB/T 1554-2009 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
- 1995年 GB/T 1554-1995 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
本标准规定了择优腐蚀技术检验硅晶体完整性的方法。 本标准适用于晶向为、或、电阻率为10Ω•m～10Ω•m、位错密度在0cm～10cm之间的硅单晶锭或硅片中原生缺陷的检验。 本方法也适用于硅单晶片。
- 标准号
- GB/T 1554-2009
- 别名
- GBT1554-2009
GB1554-2009 - 发布
- 2009年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 1554-2009
- 引用标准
- GB/T 14262-1993 YS/T 209-1994
- 被代替标准
- GB/T 1554-1995