GB/T 4058-2009
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
GBT4058-2009, GB4058-2009
GB/T 4058-2009 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 4058-2009
- 别名
- GBT4058-2009
GB4058-2009 - 发布
- 2009年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 4058-2009
- 引用标准
- GB/T 14264 GB/T 1554 YS/T 209
- 被代替标准
- GB/T 4058-1995
- 本标准规定了硅抛光氧化绣生缺陷的检验方法。 本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中绣生或增强的晶体缺陷的检测。 硅单晶氧化绣生缺陷的检验也可参照此方法。