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靶材
本专题涉及靶材的标准有53条。
国际标准分类中，靶材涉及到半导体材料、粉末冶金、有色金属产品、有色金属、金属生产、玻璃、陶瓷、机械试验、术语学(原则和协调配合)、无损检测。
在中国标准分类中，靶材涉及到、粉末冶金材料与制品、重金属及其合金、贵金属及其合金、稀有高熔点金属及其合金、稀土金属及其合金、建筑玻璃、稀有轻金属及其合金、重金属及其合金分析方法、金属力学性能试验方法、金属物理性能试验方法、标准化、质量管理、轻金属及其合金、金属无损检验方法。
中国团体标准，关于靶材的标准
- T/CAS 304-2018 磁控溅射硅靶材及绑定靶材
- T/CSRE 19001-2020 金属镱靶材
- T/NXCL 004-2021 旋转硅靶材
- T/NXCL 003-2021 平面硅锗靶材
- T/CHBAS 17-2022 靶材用超高纯钨板
- T/ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材
- T/ZZB 0093-2016 集成电路用高纯钛溅射靶材
- T/QGCML 3081-2024 半导体溅射靶材高纯钛金属粉末
- T/ICMTIA TG0011-2022 集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材
行业标准-有色金属，关于靶材的标准
- YS/T 1063-2015 钼靶材
- YS/T 937-2013 镍铂靶材
- YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材
- YS/T 1616-2023 氧化铟锌靶材
- YS/T 1635-2023 镍铬合金靶材
- YS/T 826-2012 五氧化二铌靶材
- YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材
- YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶
- YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶
- YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
- YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材
- YS/T 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材
- YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
- YS/T 837-2012 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
中华人民共和国工业和信息化部，关于靶材的标准
- YS/T 1220-2018 铬靶材
国家质检总局，关于靶材的标准
- GB/T 23611-2009 金靶材
- GB/T 20510-2006 氧化铟锡靶材
- GB/T 23611-2023 金及金合金靶材
- GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于靶材的标准
- GB/T 20510-2017 氧化铟锡靶材
工业和信息化部，关于靶材的标准
- XB/T 515-2020 钪铝合金靶材
- XB/T 512-2020 镝、铽金属靶材
- YS/T 1129-2016 钨钛合金靶材
- YS/T 1156-2016 铜铟镓硒靶材
- YS/T 1234-2018 铬钼合金（CrMo）靶材
- YS/T 1235-2018 钼钛合金（MoTi）靶材
- YS/T 1555-2022 铂钴铬硼合金溅射靶材
- YS/T 1357-2020 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材
- YS/T 1358-2020 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材
- YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法
- YS/T 1158.2-2016 铜铟镓硒靶材化学分析方法 第2部分：硒量的测定 重量法
行业标准-建材，关于靶材的标准
- JC/T 2201-2013 镀膜玻璃用靶材
- JC/T 2201-2022 镀膜玻璃用靶材
行业标准-稀土，关于靶材的标准
- XB/T 522-2023 稀土靶材回收料
- XB/T 524-2023 高纯金属钇靶材
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于靶材的标准
- GB/T 38389-2019 氧化铟锡靶材化学分析方法
- GB/T 39159-2020 集成电路用高纯铜合金靶材
- GB/T 39160-2020 薄膜太阳能电池用碲锌镉靶材
- GB/T 39163-2020 靶材与背板结合强度测试方法
- GB/T 39157-2020 靶材技术成熟度等级划分及定义
福建省地方标准，关于靶材的标准
- DB35/T 1873-2019 热喷涂旋转硅靶材通用技术条件
美国材料与试验协会，关于靶材的标准
- ASTM F1512-94(1999) 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
- ASTM F1512-94(2003) 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
广西壮族自治区标准，关于靶材的标准
- DB45/T 2109-2019 铜铟镓硒太阳能光伏电池靶材中硒含量的测定 容量法
