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光学薄系统

本专题涉及光学薄系统的标准有494条。

国际标准分类中，光学薄系统涉及到金属材料试验、光学和光学测量、长度和角度测量、光学设备、有机化学、技术制图、化工生产、纸制品、辐射测量、光电子学、激光设备、表面处理和镀涂、太阳能工程、词汇、印制技术、电信系统、医疗设备、橡胶和塑料制品、电灯及有关装置、字符集和信息编码、建筑物中的设施、航空航天制造用材料、光纤通信、纸和纸板、数据存储设备、有色金属产品、塑料、粒度分析、筛分。

在中国标准分类中，光学薄系统涉及到光学仪器综合、光学设备、有机化工原料综合、电光源产品、仪器、仪表用材料和元件、、纸、激光器件、光学测试仪器、放大镜与显微镜、金属力学性能试验方法、望远镜、大地测量与航测仪器、物理学与力学、颜色、电气照明综合、纸浆与纸板、基础标准与通用方法、标准化、质量管理、光电子器件综合、航空与航天用非金属材料、光通信设备、眼科与耳鼻咽喉科手术器械、数据媒体、稀有高熔点金属及其合金、核仪器与核探测器综合、其他日用品、导航通讯系统与设备、光学计量。


国际标准化组织，关于光学薄系统的标准

  • ISO 16808:2022 金属材料.薄板和带材.用光学测量系统通过膨胀试验测定双轴应力应变曲线
  • ISO 21094:2008 光学和光子学.光子学系统.夜视装置的规范
  • ISO 20711:2017 光学和光子学.环境要求.远焦系统
  • ISO/TR 21477:2017 光学和光子学.光学元件和系统图纸的制备.表面缺陷规范和测量系统
  • ISO 9039:1994 光学和光学仪器 光学系统的质量评定 畸变测定
  • ISO/TR 16743:2013 光学和光子学.表示特性的光学系统和光学元件用波前传感器
  • ISO 10110-1:2019 光学和光子学 - 光学元件和系统图纸准备第1部分:总则
  • ISO/TR 14999-1:2005 光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第1部分:术语、定义和基本关系
  • ISO 8576:1996 光学和光学仪器 显微镜 偏光显微镜的参考系统
  • ISO 10110-1:2006 光学和光学仪器.光学元件和系统制图准备.第1部分:总则
  • ISO 10110-12:2007 光学和光子学.光学元件和系统制图.第12部分:非球面表面
  • ISO 10110-1:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第1部分:总则
  • ISO 23216:2021 碳基薄膜.用椭圆光谱法测定非晶碳薄膜的光学特性
  • ISO 9358:1994 光学和光学仪器 成像系统杂散光 定义及测量方法
  • ISO 10110-12:2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第12部分:非球面
  • ISO 10110-6:2015 光学和光子学.光学元件和系统制图准备 第6部分:中心公差
  • ISO/TR 14999-2:2019 光学和光子学 - 光学元件和光学系统的干涉测量 - 第2部分:测量和评估技术
  • ISO 10109-4:2001 光学和光学仪器 环境要求 第4部分：远焦系统
  • ISO 9039:1994/Cor 1:2004 光学和光学仪器.光学系统的质量评定.畸变的测定.技术勘误1
  • ISO 10110-6:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第6部分:中心公差
  • ISO/FDIS 10110-16 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第16部分：衍射表面
  • ISO 1011:1973 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第8部分:表面结构
  • ISO 10110-8:2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第8部分:表面结构
  • ISO 10110-16:2023 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第 16 部分：衍射表面
  • ISO/TR 14999-2:2005 光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第2部分:测量和评价技术
  • ISO 10110-17:2004 光学和光学仪器.光学元件和系统制图准备.第17部分:激光辐射损害阈
  • ISO 10110-5:2007 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第5部分:表面形状公差
  • ISO 10110-11:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第11部分:无公差数据
  • ISO/CD 10110-11.2 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第11部分：非公差数据
  • ISO 10110-5:2015 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第5部分:表面形状公差
  • ISO 10110-11:2016 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据
  • ISO 10110-7:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第7部分:表面疵病公差
  • ISO 10110-5:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第5部分:表面形状公差
  • ISO 10110-9:2016 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第9部分:表面处理和镀层
  • ISO 10110-10:2004 光学和光学仪器.光学元件和系统制图准备.第10部分:光学元件和粘结组件的数据表
  • ISO 10110-14:2003 光学及光学仪器.光学元件和系统图形的制备.第14部分:波前变形公差
  • ISO 10110-14:2007 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第14部分:波阵面变形公差
  • ISO 10110-9:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第9部分:表面处理和镀层
  • ISO/CD 10110-6 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第6部分：定心和倾斜公差
  • ISO 10110-7:2017 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第7部分:表面缺陷公差
  • ISO 10110-14:2018 光学和光子学. 光学元件和系统的制图准备. 第14部分: 波阵面变形公差
  • ISO 14490-2:2005 光学和光学仪器.望远镜系统的试验方法.第2部分:双目镜系统的试验方法
  • ISO 14132-3:2014 光学和光子学. 望远系统词汇. 第3部分: 瞄准镜的术语
  • ISO 15795:2002 光学和光子学.光学系统质量评定.彩色相差引起的图象质量下降的评定
  • ISO 10110-12:2007/Amd 1:2013 光学和光子学. 光学元件和系统用图纸的编制. 第12部分: 非球面; 修改件1
  • ISO 10110-10:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第10部分:透镜元件的数据表
  • ISO 10110-19:2015 光学和光子学 - 准备光学元件和系统的图纸 - 第19部分:表面和部件的概述
  • ISO 15529:2007 光学和光子学.光学转移函数.取样成像系统的调制传递函数(MTF)的测量原理
  • ISO 15529:2010 光学和光子学.光学转移函数.取样成像系统的调制传递函数(MTF)的测量原理
  • ISO 14999-4:2007 光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第4部分:ISO 10110中指定公差的注释和评定
  • ISO 14999-4:2015 光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第4部分:ISO 10110中指定公差的注释和评定
  • ISO 10110-6:1996/Cor 1:1999 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第6部分:中心公差 技术勘误表1
  • ISO 15529:1999 光学和光学仪器 光的传递函数 成像系统调制传递函数的测量原理
  • ISO/TR 14999-3:2005 光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.第3部分:干涉仪试验设备和测量的校准和验证
  • ISO 8624:2002 眼科光学.眼镜架.测量系统和术语
  • ISO 8624:2011 眼科光学.眼镜架.测量系统与术语
  • ISO 9334:2007 光学和光子学.光的传递函数.定义和数学关系
  • ISO 9334:2012 光学和光子学.光的传递函数.定义和数学关系
  • ISO 10110-11:1996/cor 1:2006 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据.技术勘误1
  • ISO 9345-2:2003 光学和光学仪器.显微镜.相对机械参考面的象距.第2部分:无限大光学校正系统
  • ISO 10110-2:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第2部分:材料不完全性 应力双折射
  • ISO 10110-3:1996 光学和光学仪器 光学元件和系统制图准备 第3部分:材料不完全性 气泡和杂质
  • ISO 15559:1998 辐射化学光学波导剂量测定系统的使用规程

国家质检总局，关于光学薄系统的标准

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于光学薄系统的标准

德国机械工程师协会，关于光学薄系统的标准

韩国科技标准局，关于光学薄系统的标准

RO-ASRO，关于光学薄系统的标准

工业和信息化部，关于光学薄系统的标准

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于光学薄系统的标准

英国标准学会，关于光学薄系统的标准

  • BS ISO 9039:2007 光学和光子学.光学系统的质量评估.畸变测定
  • BS ISO 10110-1:2006 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.总则
  • BS ISO 9039:2008 光学和光子学 光学系统的质量评估 畸变测定
  • PD ISO/TR 21477:2017 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 表面缺陷规格和测量系统
  • PD ISO/TR 14999-1:2005 光学和光子学 光学元件和光学系统的干涉测量 术语、定义和基本关系
  • BS ISO 10110-1:2019 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 概述
  • PD ISO/TR 16743:2013 光学和光子学 用于表征光学系统和光学元件的波前传感器
  • BS ISO 10110-7:2008 光学和光子学.光学元件和系统制图.表面缺陷公差
  • BS ISO 10110-12:2019 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 非球面
  • BS EN ISO 12625-7:2007 薄页纸和薄页纸制品.光学特性测定
  • BS ISO 10110-12:2008 光学和光子学 光学元件和系统用图纸的编制 非球面
  • BS ISO 10110-12:2007+A1:2013 光学和光子学. 光学元件和系统用图纸的编制. 非球面
  • BS ISO 10110-8:2019 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 表面纹理
  • BS ISO 10110-16:2023 光学和光子学。准备光学元件和系统的图纸。衍射表面
  • BS ISO 10110-7:2017 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 表面瑕疵
  • BS ISO 10110-6:2015 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 定心公差
  • PD ISO/TR 14999-2:2019 光学和光子学 光学元件和光学系统的干涉测量 测量和评估技术
  • BS ISO 10110-17:2004 光学和光学仪器.光学元件和系统制图准备.激光辐射损害阈
  • BS EN ISO 23216:2022 碳基薄膜 用光谱椭圆光度法测定非晶碳薄膜的光学性质
  • BS ISO 23216:2021 碳基薄膜 用光谱椭圆光度法测定非晶碳薄膜的光学性质
  • BS ISO 10110-8:1998 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.表面纹理
  • BS ISO 10110-5:2007 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.表面形状公差
  • BS ISO 10110-8:2010 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.表面纹理
  • BS ISO 10110-11:2016 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 非容差数据
  • PD IEC TS 62989:2018 用于聚光光伏系统的初级光学器件
  • BS ISO 10110-11:1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.非公差数据
  • BS ISO 10110-14:2018 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 波前变形容差
  • BS ISO 10110-5:2015 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 表面形状公差
  • BS ISO 14490-2:2005 光学和光学仪器 望远镜系统的测试方法 双目系统的测试方法
  • BS ISO 14132-3:2014 光学和光子学. 望远系统词汇. 瞄准镜的术语
  • BS ISO 14132-3:2021 光学和光子学 望远系统词汇 瞄准镜的术语
  • BS ISO 10110-13:1998 光学和光学仪器 光学元件和系统图纸的编制 激光辐照损伤阈值
  • BS ISO 10110-9:2016 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 表面处理及涂层
  • BS 7012-12:1997 光学显微镜 偏光显微镜参考系统
  • 20/30400316 DC BS ISO 23216 碳基薄膜 用光谱椭圆光度法测定非晶碳薄膜的光学性质
  • BS ISO 20711:2017 光学和光子学.环境要求.望远镜系统的试验要求
  • BS ISO 10110-6:1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第6部分:定心公差
  • BS ISO 14490-2:2006 光学和光学仪器.望远镜系统的试验方法.双筒望远镜系统的试验方法
  • BS ISO 14999-4:2007 光学和光子学.光学元件和光学系统的干涉仪测量.ISO 10110中指定公差的注释和评定
  • BS ISO 14999-4:2015 光学和光子学 光学元件和光学系统的干涉测量 ISO 10110 中规定的公差的解释和评估
  • BS ISO 15795:2002 光学和光学仪器.光学系统质量评估.评定色差引起的图像质量下降
  • BS ISO 10109-4:2001 光学和光学仪器.环境要求.望远镜系统的试验要求
  • BS ISO 14490-8:2011 光学和光学仪器.系统试验方法.夜视装备试验方法
  • PD ISO/TR 14999-3:2005 光学和光子学 光学元件和光学系统的干涉测量 干涉测试设备和测量的校准和验证
  • BS ISO 10110-10:2005 光学 光学元件和系统的制图准备 光学元件和接合组件的数据描述表
  • BS ISO 9345-2:2003 光学和光学仪器.显微镜.相对机械参考面的象距.无限大光学校正系统
  • BS ISO 10110-10:2004 光学.光学元件和系统的制图准备.光学元件和接合组件的数据描述表
  • BS ISO 10110-19:2015 光学和光子学. 光学元件和系统用图纸的编制. 表面和部件的通用描述
  • 18/30332797 DC BS ISO 10110-12 光学和光子学 准备光学元件和系统的图纸 第12部分. 非球面
  • BS ISO 9358:1994 光学和光学仪器 成像系统的遮盖釉 定义和测量方法
  • BS ISO 14490-9:2019 光学和光子学 望远镜系统的测试方法 场曲测试方法
  • 16/30324510 DC BS ISO 20711 光学和光子学 环境要求 伸缩系统的测试要求
  • BS ISO 14490-5:2021 光学和光子学 伸缩系统的测试方法 透过率测试方法
  • BS ISO 10110-9:1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第9部分:表面处理和涂层
  • 22/30430316 DC BS ISO 10110-16 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第 16 部分：衍射表面
  • BS ISO 9334:2012 光学和光子学. 光学传递函数. 定义和数学关系
  • BS EN 61280-2-2:2012 纤维光学通信子系统试验规程.数字系统.光眼图、波形和消光比的测量
  • BS 4301:1991 光学元件和系统制图推荐标准
  • BS ISO 14490-1:2005 光学和光学仪器 伸缩系统试验方法 基本特性试验方法
  • BS ISO 9334:1996 光学和光学仪器.光学传递功能.定义和数学关系
  • BS ISO 14490-6:2005 光学和光学仪器.望远镜系统测试方法.纱幕眩光指数的测试方法
  • BS ISO 14490-6:2014 光学和光子学. 望远镜系统的试验方法. 纱幕眩光指数的试验方法
  • BS ISO 10110-2:1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第2部分:材料缺陷.应力双折射
  • BS ISO 10110-3:1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第3部分:材料缺陷.气泡和杂质
  • BS ISO 15529:2010 光学和光学仪器.光学传递函数.样品成像系统的调制传递函数(MTF)的测量原理
  • BS EN ISO 12625-7:2021 薄纸和薄纸产品 光学特性的测定 使用 D65/10° 测量亮度和颜色（室外日光）
  • BS EN ISO 8624:2011 眼科光学.眼镜架.测量系统和术语
  • BS ISO 13099-2:2012 胶体系统.电动电势测定法.光学法
  • BS EN ISO 8624:2020 眼科光学 眼镜架 测量系统和词汇
  • BS 4995:1973 透镜及光学系统面纱眩光指数测量推荐标准

GOSTR，关于光学薄系统的标准

德国标准化学会，关于光学薄系统的标准

  • DIN ISO/TR 21477:2018-08*DIN SPEC 13477:2018-08 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 表面缺陷规格和测量系统
  • DIN ISO 9039:2008-08 光学和光子学 光学系统的质量评估 畸变的测定
  • DIN ISO 8576:2002-06 光学和光学仪器 显微镜 偏光显微镜参考系统
  • DIN ISO 14490 Beiblatt 1:2016-06 光学和光学仪器 望远镜系统的测试方法
  • DIN EN ISO 23216:2023-01 碳基薄膜-通过光谱椭圆光度法测定非晶碳薄膜的光学特性
  • DIN ISO 10110-1:2007 光学和光子学.光学元件和系统制图的准备.第1部分:总则
  • DIN ISO 10110-1:2020-09 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第1部分：概述
  • DIN ISO 9358:2021-08 光学和光学仪器 成像系统的杂光 定义和测量方法
  • DIN ISO 10110-12:2021-09 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第12部分：非球面
  • DIN 58186:1982 光学系统的质量评定.眩光的测定
  • DIN ISO 10110-17:2004 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第17部分:激光辐照损伤阈
  • DIN ISO 20711:2018-01 光学和光子学 环境要求 伸缩系统的测试要求
  • DIN ISO 10110-6:2016 光学和光子学.光学元件和系统图形的制备.第6部分:中心公差
  • DIN ISO 10110-6:2016-06 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第6部分：中心公差
  • DIN ISO 8576:2002 光学和光学仪器.显微镜.偏振光显微镜基准系统 (ISO 8576:1996)
  • DIN EN ISO 23216:2023 碳基薄膜 通过光谱椭圆光度法测定非晶碳薄膜的光学特性（ISO 23216:2021）
  • DIN ISO 10110-6:2000 光学和光学仪器.光学元件和系统图形的制备.第6部分:中心公差
  • DIN ISO 10110-12:2009 光学和光子学.光学元件和系统制图的制备.第12部分:非球面表面
  • DIN ISO 10110-17:2004-12 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第17部分：激光辐照损伤阈值
  • DIN 58739-2:2002-01 光学工程生产 光学工件接收 第2部分：带薄膜的卡盘
  • DIN ISO 10110-10:2004 光学和光子学.光学元件和系统图形制备.第10部分:光学元件和粘结组件的数据表
  • DIN ISO 10110-1:2020 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第1部分：总则（ISO 10110-1:2019）
  • DIN ISO 10110-11:2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图样制备.第11部分:非公差数据
  • DIN ISO 15795:2008-04 光学和光子学 光学系统的质量评估 评估色差引起的图像质量下降
  • DIN ISO 10110-14:2019-09 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第14部分：波前变形公差
  • DIN ISO 10110-5:2016-04 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第5部分：表面形状公差
  • DIN 58172-1:1982 光学系统的检验.对称性偏差
  • DIN ISO 15795:2008 光学和光子学.光学系统的质量评定.色差引起的图象质量下降的评定
  • DIN ISO 10110-12:2021 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第12部分：非球面（ISO 10110-12:2019）
  • DIN ISO 20711:2018 光学和光子学 环境要求 伸缩系统的测试要求（ISO 20711:2017）
  • DIN ISO 10110-7:2018 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第7部分:表面缺陷(ISO 10110-7-2017)
  • DIN ISO 10110-8:2020 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第8部分：表面纹理（ISO 10110-8:2019）
  • DIN ISO 10110-9:2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图形制备.第9部分:表面处理和覆层
  • DIN ISO 10109-7:2002 光学和光学仪器.环境要求.第7部分:光学测量系统的试验要求 (ISO 10109-7:2001)
  • DIN ISO 15529:2010-11 光学和光子学 光学传递函数 采样成像系统的调制传递函数(MTF)测量原理
  • DIN ISO 10110-11:2016 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据(ISO 10110-11-2016)
  • DIN ISO 14999-4 Beiblatt 1:2020-04 光学和光子学-光学元件和光学系统的干涉测量-第4部分：ISO 10110中规定的公差的解释和评估
  • DIN EN 61280-2-9:2009 光学纤维通讯子系统测试程序.第2-9部分:数字系统.密集波分复用系统光学纤维信噪比率的测量
  • DIN EN ISO 12625-16:2023-06 薄纸和薄纸产品 第16部分：光学性能的测定 不透明度
  • DIN EN 60856/A2:1998-08 预录光学反射视盘系统“激光视觉”50 Hz/625 线
  • DIN ISO 9334:2008 光学和光子学.光学转移函数.定义和关系式
  • DIN ISO 10110-5:2016 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第5部分:表面形状公差(ISO 10110-5-2015)
  • DIN ISO 10110-2:2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图形制备.第2部分:材料缺陷.应力双折射
  • DIN ISO 10110-9:2016 光学和光子学.光学元件和系统制图准备.第9部分:表面处理和镀层(ISO 10110-9-2016)
  • DIN ISO 10110-3:2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图形制备.第3部分:材料缺陷.气泡和杂质
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