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小型离子溅射
本专题涉及小型离子溅射的标准有29条。
国际标准分类中，小型离子溅射涉及到流体系统和通用件、真空技术、分析化学、半导体材料、泵、电子元器件综合、电学、磁学、电和磁的测量。
在中国标准分类中，小型离子溅射涉及到真空技术与设备、其他生产设备、泵、光学计量仪器、半金属与半导体材料综合、化学助剂基础标准与通用方法、基础标准与通用方法、化学、波导同轴元件及附件、电磁计量。
行业标准-机械，关于小型离子溅射的标准
- JB/T 4081-1991 溅射离子泵 型式与基本参数
- JB/T 4081-2011 真空技术 溅射离子泵
- JB/T 4082-1991 溅射离子泵 技术条件
- JB/T 2965-1992 溅射离子泵性能测试方法
行业标准-电子，关于小型离子溅射的标准
- SJ 1779-1981 普通二极型溅射离子泵.参数系列
- SJ 1780-1981 普通二极型溅射离子泵.技术条件
- SJ 1781-1981 溅射离子泵.试验方法
- SJ 51065/6-1997 GBX007型小型化波导射频隔离器详细规范
RU-GOST R，关于小型离子溅射的标准
- GOST 5.1807-1973 GIN-0.5-1M型离子溅射泵.认证产品质量要求
- GOST 5.413-1970 BP-150供电的粒状冷却二极管型离子溅射泵NMDO-01-01(NORD-100).认证产品质量要求
德国标准化学会，关于小型离子溅射的标准
- DIN 28429:2003 真空技术.溅射离子泵验收规范
国家质检总局，关于小型离子溅射的标准
- GB/T 25755-2010 真空技术.溅射离子泵.性能参数的测量
美国材料与试验协会，关于小型离子溅射的标准
- ASTM E1162-87(2001) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
- ASTM E1162-87(1996) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
- ASTM E1438-91(2001) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
- ASTM E1438-91(1996) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
- ASTM E1162-11(2019) 二次离子质谱法（SIMS）中溅射深度剖面数据报告的标准实施规程
- ASTM E1162-06 报告次级离子质谱法(SIMS)中溅射深度截面数据的标准实施规程
- ASTM E684-95(2000) 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
- ASTM E684-04 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
法国标准化协会，关于小型离子溅射的标准
- XP ISO/TS 23625:2021 小型容器 锂离子电池
ES-UNE，关于小型离子溅射的标准
- UNE-CEN ISO/TS 23625:2022 小型船舶 锂离子电池
英国标准学会，关于小型离子溅射的标准
- BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化学分析 深度剖析 使用单一和……的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率测定方法
国际标准化组织，关于小型离子溅射的标准
- ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- ISO 22415:2019 表面化学分析.二次离子质谱法.有机材料氩团簇溅射深度剖面测定屈服体积的方法
AT-ON，关于小型离子溅射的标准
- ONORM S 1234-1997 小型射击子弹弹药．检验枪管
