GB/T 29508-2013
300mm 硅单晶切割片和磨削片

300 mm monocrystalline silicon as cut slices and grinded slices

GBT29508-2013, GB29508-2013


GB/T 29508-2013 发布历史

GB/T 29508-2013由国家质检总局 CN-GB 发布于 2013-05-09,并于 2014-02-01 实施。

GB/T 29508-2013 在中国标准分类中归属于: H82 元素半导体材料,在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。

GB/T 29508-2013 300mm 硅单晶切割片和磨削片的最新版本是哪一版?

最新版本是 GB/T 29508-2013

GB/T 29508-2013 发布之时,引用了标准

  • GB/T 11073 硅片径向电阻率变化的测量方法
  • GB/T 13388 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
  • GB/T 14140 硅片直径测量方法
  • GB/T 14264 半导体材料术语
  • GB/T 1550 非本征半导体材料导电类型测试方法*2018-12-28 更新
  • GB/T 1551 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法*2021-05-21 更新
  • GB/T 1554 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
  • GB/T 1555 半导体单晶晶向测定方法*2023-08-06 更新
  • GB/T 1557 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法*2018-09-17 更新
  • GB/T 1558 硅中代位碳含量的红外吸收测试方法*2023-12-28 更新
  • GB/T 26067 硅片切口尺寸测试方法
  • GB/T 2828.1 计数抽样检验程序 第1部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划
  • GB/T 29504 300mm 硅单晶
  • GB/T 29507 硅片平整度、厚度及总厚度变化测试 自动非接触扫描法
  • GB/T 6616 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法*2023-08-06 更新
  • GB/T 6624 硅抛光片表面质量目测检验方法
  • YS/T 26 硅片边缘轮廓检验方法*2016-07-11 更新

* 在 GB/T 29508-2013 发布之后有更新,请注意新发布标准的变化。

GB/T 29508-2013的历代版本如下:

GB/T 29508-2013 300mm 硅单晶切割片和磨削片 于 2011-11-25 变更为 ABNT NBR 14519-2011 电子电表 - 产品规格。

 

本标准规定了直径300 mm、p型、晶向、电阻率0.5Ω·cm~20Ω·cm的硅单晶切割片和磨削片(简称硅片)产品的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存等。本标准适用于直径300 mm直拉单晶经切割、磨削制备的圆形硅片,产品将进一步加工成抛光片,用于制作集成电路IC用线宽90 nm技术需求的衬底片。

GB/T 29508-2013

标准号
GB/T 29508-2013
别名
GBT29508-2013
GB29508-2013
发布
2013年
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 29508-2013
 
 
引用标准
GB/T 11073 GB/T 13388 GB/T 14140 GB/T 14264 GB/T 1550 GB/T 1551 GB/T 1554 GB/T 1555 GB/T 1557 GB/T 1558 GB/T 26067 GB/T 2828.1 GB/T 29504 GB/T 29507 GB/T 6616 GB/T 6624 SEMI MF 1390 YS/T 26
代替标准
ABNT NBR 14519-2011

GB/T 29508-2013相似标准


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