三级离子阱质谱
本专题涉及三级离子阱质谱的标准有79条。
国际标准分类中，三级离子阱质谱涉及到分析化学、饮料、金属材料试验、水质、微生物学、半导体材料、词汇、核能工程、光学和光学测量、农业和林业、有色金属、润滑剂、工业油及相关产品、陶瓷。
在中国标准分类中，三级离子阱质谱涉及到基础标准与通用方法、化学、、表面活性剂、半金属及半导体材料分析方法、家用电器基础标准与通用方法、半金属与半导体材料综合、基础学科综合、元素半导体材料、核材料、核燃料及其分析试验方法、水环境有毒害物质分析方法、轻金属及其合金分析方法、核燃料元件及其分析试验方法、重金属及其合金分析方法、核材料、核燃料综合、润滑脂、电子技术专用材料。
浙江省标准，关于三级离子阱质谱的标准
- DB33/T 543-2005 水果、蔬菜中农药多残留测定方法气相色谱离子阱质谱联用法
SCC，关于三级离子阱质谱的标准
- AWWA WQTC62560 离子阱质谱结合改进的吹扫捕集技术分析低挥发性化合物
- AWWA QTC98327 采用吹扫捕集气相色谱/离子阱质谱法对数百个市政饮用水样品中的氯化氰进行常规分析
- AWWA WQTC58782 使用离子色谱 质谱法对含有高总溶解固体的饮用水中的亚 ppb 级高氯酸盐进行定量分析
美国材料与试验协会，关于三级离子阱质谱的标准
- ASTM E1504-92(1996) 次级离子质谱(SIMS)测定中质谱数据报告的标准规范
- ASTM E1504-92(2001) 次级离子质谱(SIMS)测定中质谱数据报告的标准规范
- ASTM E1504-06 次级离子质谱法(SIMS)中质谱数据报告的标准实施规程
- ASTM E1504-11 次级离子质谱分析法中报告质谱数据的标准操作规程
- ASTM E1635-06(2011) 次级离子质谱法(SIMS)成像数据报告标准规程
- ASTM E1635-06 报告次级离子质谱法(SIMS)成像数据用标准实施规程
- ASTM E1881-12 用次级离子质谱法 (SIMS) 对细胞培养分析的标准指南
- ASTM E1438-91(2001) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
- ASTM E1438-91(1996) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
- ASTM E1881-06 用次级离子质谱法(SIMS)进行细胞培养分析的标准指南
- ASTM F1366-92(1997)e1 用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法
- ASTM E1438-06 用次级离子质谱法(SIMS)测量深度掺杂分布界面宽度标准指南
- ASTM C1287-10 感应耦合等离子体质谱法测定核级铀化合物中杂质的标准试验方法
- ASTM C1287-18 通过电感耦合等离子体质谱法测定核级铀化合物杂质的标准测试方法
- ASTM E1880-12 用次级离子质谱法 (SIMS) 进行组织低温截面分析的标准实施规程
- ASTM E1162-06 报告次级离子质谱法(SIMS)中溅射深度截面数据的标准实施规程
- ASTM E1880-06 用次级离子质谱法(SIMS)进行组织低温截面分析的标准实施规程
- ASTM E1162-11 报告次级离子质谱分析法(SIMS)中溅深深度文件数据的标准操作规程
- ASTM F1617-98 用次级离子质谱测定法(SIMS)测定表面钠,铝,钾-硅和EPI衬底的标准试验方法
- ASTM C1474-00(2011) 四极感应耦合等离子质谱法分析核纯级燃料中铀的同位素组分的标准验方法
- ASTM C1474-00 四极感应耦合等离子质谱法分析核纯级燃料中铀的同位素组分的标准试验方法
- ASTM C1474-00(2006)e1 四极感应耦合等离子质谱法分析核纯级燃料中铀的同位素组分的标准试验方法
- ASTM E2426-10 通过用次级离子质谱法测量同位素比率对脉冲计算系统死时间测定的标准实施规程
- ASTM C1474-19 用四极感应耦合等离子体质谱法分析核级燃料材料中铀同位素组成的标准试验方法
英国标准学会，关于三级离子阱质谱的标准
- BS ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱法.静态次级离子质谱法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- BS ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样的相对灵敏系数
- BS ISO 17862:2013 表面化学分析.次级离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析器强度标的线性
- BS ISO 24384:2024 水质 水中六价铬和三价铬的测定 螯合预处理后使用液相色谱电感耦合等离子体质谱 (LC-ICP-MS) 的方法
- BS ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
- 23/30425527 DC BS ISO 24384 水质 水中六价铬和三价铬的测定 螯合预处理后使用液相色谱电感耦合等离子体质谱 (LC-ICP-MS) 的方法
- BS ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
- BS EN ISO 18635:2016 水质. 水沉积物, 污水污泥和悬浮 (颗粒) 物中短链多氯代三苯烷类 (SCCP) 的测定. 气相色谱质谱分析法 (GC-MS) 和电子俘获负电离 (ECNI) 法
中国团体标准，关于三级离子阱质谱的标准
- T/NAIA 0160-2022 葡萄酒中总二氧化硫测定 三重四级杆电感耦合等离子体质谱法
- T/NAIA 0158-2022 土壤中6种金属元素的测定 超级微波两步消解-电感耦合等离子体质谱法
国际标准化组织，关于三级离子阱质谱的标准
- ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 18114:2021 表面化学分析. 次级离子质谱法. 测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
- ISO 23812:2009 表面化学分析 次级离子质谱测定法 使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
- ISO 18635:2016 水质.水沉积物,污水污泥和悬浮(颗粒)物中短链多氯代三苯烷类(SCCP)的测定.气相色谱质谱分析法(GC-MS)和电子俘获负电离(ECNI)法
- ISO 3169:2023 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）.使用电感耦合等离子体发射光谱法对氧化铝粉末中杂质进行化学分析的方法
法国标准化协会，关于三级离子阱质谱的标准
- NF X21-064*NF ISO 23830:2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- NF T90-046:2014 水质. 水中短链多氯代三苯烷类 (SCCP) 的测定. 气相色谱质谱分析法 (GC-MS) 和负离子化学电离法 (NCI)
- NF ISO 23812:2009 表面化学分析 二次离子质谱 使用多三角层状参比材料的硅深度校准方法
- NF X21-066*NF ISO 23812:2009 表面化学分析 次级离子质谱分析法 用多δ层参考物质对硅进行深度校准的方法
- NF ISO 5724:2023 珠宝、首饰和珍贵材料 高级纯品的剂量 使用等离子体耦合感应质谱 (ICP-MS) 的方法
行业标准-有色金属，关于三级离子阱质谱的标准
- YS/T 980-2014 高纯三氧化二镓杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- YS/T 928.5-2013 镍、钴、锰三元素氢氧化物化学分析方法 第5部分:铅量的测定 电感耦合等离子体质谱法
行业标准-商品检验，关于三级离子阱质谱的标准
- SN/T 3334.2-2013 小型家用电器中三苯基锡、三丁基锡的测定 液相色谱-电感耦合等离子体质谱法
韩国科技标准局，关于三级离子阱质谱的标准
- KS D ISO 18114:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- KS D ISO 14237:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定
- KS D ISO 20341:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
日本工业标准调查会，关于三级离子阱质谱的标准
- JIS K 0163:2010 表面化学分析.次级离子质谱法.离子注入标样中相对灵敏度系数的测定
- JIS K 0143:2000 表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于三级离子阱质谱的标准
- GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
云南省地方标准，关于三级离子阱质谱的标准
- DB53/T 501-2013 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法
澳大利亚标准协会，关于三级离子阱质谱的标准
- AS ISO 22048:2006 表面化学分析．静止次级离子质谱测量法用信息格式
- AS ISO 18114:2006 表面化学分析．次级离子质谱法．植入离子的参考材料的相对灵敏系数的测定
- AS ISO 17560:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．硅中注入硼的深度分布分析法
- AS ISO 14237:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．使用均一的绝缘材料测定硅中的硼原子浓度
未注明发布机构，关于三级离子阱质谱的标准
- AS ISO 22048:2006(R2016) 表面化学分析 静止次级离子质谱测量法用信息格式
- DIN EN ISO 12010 E:2018-03 水质 水中短链多氯代三苯烷类(SCCP)的测定 气相色谱质谱分析法(GC-MS)和负离子化学电离法(NCI)（草案）
- DIN EN ISO 12010 E:2013-12 水质 水中短链多氯代三苯烷类(SCCP)的测定 气相色谱质谱分析法(GC-MS)和负离子化学电离法(NCI)（草案）
- AS ISO 18114:2006(R2016) 表面化学分析 次级离子质谱法 植入离子的参考材料的相对灵敏系数的测定
- DIN EN ISO 18635 E:2014-12 水质 水沉积物,污水污泥和悬浮(颗粒)物中短链多氯代三苯烷类(SCCP)的测定 气相色谱质谱分析法(GC-MS)和电子俘获负电离(ECNI)法（草案）
行业标准-环保，关于三级离子阱质谱的标准
- HJ 1074-2019 水质 三丁基锡等4种有机锡化合物的测定 液相色谱-电感耦合等离子体质谱法
- HJ 1050-2019 水质 氯酸盐、亚氯酸盐、溴酸盐、二氯乙酸和三氯乙酸的测定 离子色谱法
吉林省地方标准，关于三级离子阱质谱的标准
- DB22/T 2465-2016 水中三唑锡、苯丁锡残留量的测定 液相色谱-电感耦合等离子体质谱法
行业标准-农业，关于三级离子阱质谱的标准
- 空气和废气监测分析方法 3.2.13-2003 第三篇 空气质量监测 第二章 颗粒物及其元素 十三 电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）
国家质检总局，关于三级离子阱质谱的标准
- GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法.硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
行业标准-兵工民品，关于三级离子阱质谱的标准
- WJ 2122-1993 水质 2,4-二羟基-1,3,5-三硝基苯（斯蒂芬酸）的测定反相离子对液相色谱法
德国标准化学会，关于三级离子阱质谱的标准
- DIN EN ISO 12010:2014 水质. 水中短链多氯代三苯烷类(SCCP)的测定. 气相色谱质谱分析法(GC-MS)和负离子化学电离法(NCI)(ISO 12010-2012); 德文版本EN ISO 12010-2014
行业标准-核工业，关于三级离子阱质谱的标准
- EJ/T 20163-2018 后处理三氧化铀粉末中银等二十八种杂质元素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
国家质量监督检验检疫总局，关于三级离子阱质谱的标准
- SN/T 4759-2017 进口食品级润滑油（脂）中锑、砷、镉、铅、汞、硒元素的测定方法 电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）法
