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离子阱 多级质谱
本专题涉及离子阱 多级质谱的标准有94条。
国际标准分类中，离子阱 多级质谱涉及到金属材料试验、分析化学、水质、食品试验和分析的一般方法、半导体材料、饮料、微生物学、天然气、土质、土壤学、水果、蔬菜及其制品、金属矿、核能工程、光学和光学测量、黑色金属、计量学和测量综合、农业和林业。
在中国标准分类中，离子阱 多级质谱涉及到半金属及半导体材料分析方法、基础标准与通用方法、化学、、表面活性剂、半金属与半导体材料综合、水环境有毒害物质分析方法、基础学科综合、铁矿、元素半导体材料、核材料、核燃料及其分析试验方法、食品卫生、电子光学与其他物理光学仪器、钢铁与铁合金分析方法、轻金属及其合金分析方法。
浙江省标准，关于离子阱 多级质谱的标准
- DB33/T 543-2005 水果、蔬菜中农药多残留测定方法气相色谱离子阱质谱联用法
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于离子阱 多级质谱的标准
- GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- GB/T 6730.81-2020 铁矿石 多种微量元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
美国材料与试验协会，关于离子阱 多级质谱的标准
- ASTM E1504-92(1996) 次级离子质谱(SIMS)测定中质谱数据报告的标准规范
- ASTM E1504-92(2001) 次级离子质谱(SIMS)测定中质谱数据报告的标准规范
- ASTM E1504-06 次级离子质谱法(SIMS)中质谱数据报告的标准实施规程
- ASTM E1504-11 次级离子质谱分析法中报告质谱数据的标准操作规程
- ASTM E1635-06(2011) 次级离子质谱法(SIMS)成像数据报告标准规程
- ASTM E1635-06 报告次级离子质谱法(SIMS)成像数据用标准实施规程
- ASTM E1881-12 用次级离子质谱法 (SIMS) 对细胞培养分析的标准指南
- ASTM E1438-91(2001) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
- ASTM E1438-91(1996) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
- ASTM E1881-06 用次级离子质谱法(SIMS)进行细胞培养分析的标准指南
- ASTM E1438-06 用次级离子质谱法(SIMS)测量深度掺杂分布界面宽度标准指南
- ASTM F1366-92(1997)e1 用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法
- ASTM C1287-10 感应耦合等离子体质谱法测定核级铀化合物中杂质的标准试验方法
- ASTM C1287-18 通过电感耦合等离子体质谱法测定核级铀化合物杂质的标准测试方法
- ASTM D8469-22 电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）分析大麻基质中多种元素的标准试验方法
- ASTM D846-84 电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）分析大麻基质中多种元素的标准试验方法
- ASTM E1880-06 用次级离子质谱法(SIMS)进行组织低温截面分析的标准实施规程
- ASTM E1880-12 用次级离子质谱法 (SIMS) 进行组织低温截面分析的标准实施规程
- ASTM E1162-06 报告次级离子质谱法(SIMS)中溅射深度截面数据的标准实施规程
- ASTM E1162-11 报告次级离子质谱分析法(SIMS)中溅深深度文件数据的标准操作规程
- ASTM F1617-98 用次级离子质谱测定法(SIMS)测定表面钠,铝,钾-硅和EPI衬底的标准试验方法
英国标准学会，关于离子阱 多级质谱的标准
- BS ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱法.静态次级离子质谱法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- BS ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样的相对灵敏系数
- BS ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
- BS ISO 17862:2013 表面化学分析.次级离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析器强度标的线性
- BS ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
- BS EN ISO 12010:2019 水质 水中短链多氯烷烃(SCCP)的测定 使用气相色谱-质谱法(GC-MS)和负离子化学电离(NCI)的方法
- BS ISO 12010:2012 水质.水中短链多氯化烷烃(SCCPs)的测定.利用气相色谱-质谱分析法(GC-MS)和负离子化学电离法(NCI)测定
韩国科技标准局，关于离子阱 多级质谱的标准
- KS I ISO 12010:2022 水质.水中短链多氯烷烃（SCCP）的测定.气相色谱-质谱（GC-MS）和负离子化学电离（NCI）法
- KS I ISO 12010:2014 水质 水中短链多氯烷烃（SCCP）的测定 气相色谱-质谱（GC-MS）和负离子化学电离（NCI）法
- KS D ISO 20341:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
- KS D ISO 18114:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- KS D ISO 20341-2005(2020) 表面化学分析二次离子质谱法用多δ层标准物质估算深度分辨参数的方法
- KS D ISO 14237:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定
KR-KS，关于离子阱 多级质谱的标准
- KS I ISO 12010-2022 水质.水中短链多氯烷烃（SCCP）的测定.气相色谱-质谱（GC-MS）和负离子化学电离（NCI）法
- KS I ISO 12010-2014 水质 - 水中短链多氯烷烃（Sccps）的测定方法 - 气相色谱 - 质谱法（Gc-Ms）和负离子化学电离法（Nci）
国际标准化组织，关于离子阱 多级质谱的标准
- ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- ISO 12010:2019 水质.水中短链多氯烷烃（SCCP）的测定.气相色谱-质谱法（GC-MS）和负离子化学电离法（NCI）
- ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
- ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 18114:2021 表面化学分析. 次级离子质谱法. 测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
- ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
法国标准化协会，关于离子阱 多级质谱的标准
- NF X21-064*NF ISO 23830:2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
- NF X21-066*NF ISO 23812:2009 表面化学分析 次级离子质谱分析法 用多δ层参考物质对硅进行深度校准的方法
- NF T90-046:2014 水质. 水中短链多氯代三苯烷类 (SCCP) 的测定. 气相色谱质谱分析法 (GC-MS) 和负离子化学电离法 (NCI)
- NF ISO 23812:2009 表面化学分析 二次离子质谱 使用多三角层状参比材料的硅深度校准方法
CEN - European Committee for Standardization，关于离子阱 多级质谱的标准
- EN ISO 12010:2019 水质.水中短链多氯烷烃(SCCPs)的测定.用气相色谱,质谱法(GC-MS)和负离子化学电离法(NCI)
中国团体标准，关于离子阱 多级质谱的标准
- T/NAIA 0212-2023 枸杞中多元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
- T/SATA 020-2021 海水中多元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
- T/NAIA 0159-2022 葡萄酒中多元素的测定 电感耦合等离子体质谱法
- T/CNIA 0017-2019 多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- T/GRM 047-2022 天然气 汞同位素的测定 多接受电感耦合等 离子体质谱法
- T/GRM 043-2022 岩矿土壤 镁同位素测定 多接收电感耦合等离子体质谱法
- T/GRM 042-2022 岩矿土壤 钾同位素测定 多接收电感耦合等离子体质谱法
- T/GRM 044-2022 岩矿土壤 铁同位素的测定 多接收电感耦合等离子体质谱法
- T/CNIA 0141-2022 多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- T/CST 2-2020 金合金饰品 多元素含量测定 激光剥蚀-电感耦合等离子体质谱法
- T/NAIA 0160-2022 葡萄酒中总二氧化硫测定 三重四级杆电感耦合等离子体质谱法
- T/CNIA 0064-2020 多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
- T/OTOP 1037-2023 植源性锂硫电池碳材料中多种重金属元素测定 电感耦合等离子体质谱法
- T/CNIA 0116-2021 多晶硅生产尾气净化用活性炭中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
国家质检总局，关于离子阱 多级质谱的标准
- GB/T 24582-2009 酸浸取.电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质
- GB/T 24582-2023 多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
- GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
- GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 31231-2014 水中锌、铅同位素丰度比的测定 多接收电感耦合等离子体质谱法
国家卫生健康委员会，关于离子阱 多级质谱的标准
- GBZ/T 308-2018 尿中多种金属同时测定 电感耦合等离子体质谱法
德国标准化学会，关于离子阱 多级质谱的标准
- DIN EN ISO 12010:2019-09 水质-水中短链多氯烷烃（SCCP）的测定-使用气相色谱-质谱（GC-MS）和负离子化学电离（NCI）的方法
- DIN EN ISO 12010:2019 水质 水中短链多氯烷烃（SCCP）的测定 使用气相色谱-质谱法（GC-MS）和负离子化学电离（NCI）的方法（ISO 12010:2019）
- DIN EN ISO 12010:2014 水质. 水中短链多氯代三苯烷类(SCCP)的测定. 气相色谱质谱分析法(GC-MS)和负离子化学电离法(NCI)(ISO 12010-2012); 德文版本EN ISO 12010-2014
日本工业标准调查会，关于离子阱 多级质谱的标准
- JIS K 0163:2010 表面化学分析.次级离子质谱法.离子注入标样中相对灵敏度系数的测定
- JIS K 0143:2000 表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
- JIS K 0156:2018 表面化学分析-二次离子质谱法-使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
欧洲标准化委员会，关于离子阱 多级质谱的标准
- EN ISO 12010:2014 水质.水中短链多氯烷烃(SCCPs)的测定.用气相色谱,质谱法(GC-MS)和负离子化学电离法(NCI)(ISO 12010:2012)
- EN ISO 18635:2016 水质测定短链烷烃(SCCP)沉积物中的多氯联苯,污水污泥和悬浮物(颗粒)用气相色谱-质谱法(GC-MS)和电子捕获负离子(ECNI)(ISO 18635:2016)
丹麦标准化协会，关于离子阱 多级质谱的标准
- DS/ISO 12010:2012 水质 水中短链多氯烷烃（SCCPs）的测定 使用气相色谱-质谱法（GC-MS）和负离子化学电离（NCI）的方法
ES-UNE，关于离子阱 多级质谱的标准
- UNE-EN ISO 12010:2020 水质 水中短链多氯烷烃(SCCP)的测定 使用气相色谱-质谱法(GC-MS)和负离子化学电离(NCI)的方法
澳大利亚标准协会，关于离子阱 多级质谱的标准
- AS ISO 22048:2006 表面化学分析．静止次级离子质谱测量法用信息格式
- AS ISO 18114:2006 表面化学分析．次级离子质谱法．植入离子的参考材料的相对灵敏系数的测定
- AS ISO 17560:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．硅中注入硼的深度分布分析法
- AS ISO 14237:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．使用均一的绝缘材料测定硅中的硼原子浓度
云南省地方标准，关于离子阱 多级质谱的标准
- DB53/T 501-2013 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法
AENOR，关于离子阱 多级质谱的标准
- UNE-EN ISO 12010:2014 水质 水中短链多氯烷烃（SCCP）的测定 使用气相色谱-质谱法（GC-MS）和负离子化学电离（NCI）的方法（ISO 12010:2012）
新疆维吾尔自治区标准，关于离子阱 多级质谱的标准
- DB65/T 3971-2017 等离子体质谱法同时测定蔬菜和水果中多种重金属元素
国家质量监督检验检疫总局，关于离子阱 多级质谱的标准
- SN/T 3850.1-2014 出口食品中多种糖醇类甜味剂的测定 第1部分：液相色谱串联质谱法和离子色谱法
行业标准-商品检验，关于离子阱 多级质谱的标准
- SN/T 3541-2013 出口食品中多种醚类除草剂残留量检测方法 气相色谱 -负化学离子源-质谱法
RU-GOST R，关于离子阱 多级质谱的标准
- GOST 34248-2017 铜矿和多金属矿 电感耦合等离子体原子发射光谱法测定铜及杂质的重量分数
行业标准-黑色冶金，关于离子阱 多级质谱的标准
- YB/T 4308-2012 低合金钢 多元素含量的测定 激光剥蚀-电感耦合等离子体质谱法（常规法）
未注明发布机构，关于离子阱 多级质谱的标准
- BS ISO 20341:2003(2010) 表面化学分析 二次离子质谱 多δ层参考材料估计深度分辨率参数的方法
