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x射光电子
本专题涉及x射光电子的标准有102条。
国际标准分类中，x射光电子涉及到分析化学、光学和光学测量、无损检测、电子元器件综合、电学、磁学、电和磁的测量、医疗设备、表面处理和镀涂、金属的腐蚀、长度和角度测量。
在中国标准分类中，x射光电子涉及到基础标准与通用方法、质谱仪、液谱仪、能谱仪及其联用装置、电子光学与其他物理光学仪器、光学测试仪器、化学、标准化、质量管理、电子测量与仪器综合、光学计量仪器、综合测试系统、物理学与力学、电化学、热化学、光学式分析仪器。
德国标准化学会，关于x射光电子的标准
- DIN ISO 16129:2020-11 表面化学分析 X射线光电子能谱 X射线光电子能谱仪日常性能评估程序
- DIN ISO 16129:2020 表面化学分析. X射线光电子能谱-评估X射线光电子能谱仪的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
- DIN ISO 15472:2020-05 表面化学分析 - X 射线光电子能谱仪 - 能量标度校准 (ISO 15472:2010)
- DIN ISO 15472:2020 表面化学分析 X 射线光电子能谱仪 能标校准（ISO 15472:2010）；英文文本
英国标准学会，关于x射光电子的标准
- BS ISO 16129:2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 X 射线光电子能谱仪日常性能评估程序
- BS ISO 16129:2012 表面化学分析.X射线光电子能光谱学.X射线光电子能谱仪日常性能评估规程
- BS ISO 18516:2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- BS ISO 10810:2019 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南
- BS ISO 19830:2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
- BS ISO 10810:2010 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析指南
- BS ISO 15472:2010 表面化学分析.X射线光电子分光计.能量等级的校准
- BS ISO 14701:2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量
- BS ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量
- BS ISO 21270:2005 表面化学分析.X射线光电子和俄歇电子光谱仪.强度标的线性度
- BS ISO 16243:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- BS ISO 18554:2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序
- BS ISO 24237:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱学.强度标的可重复性和稳定性
- BS ISO 18118:2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性系数的使用指南
- BS ISO 21270:2004 表面化学分析 X 射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度尺度的线性
- BS ISO 19318:2021 表面化学分析 X射线光电子能谱 报告用于电荷控制和电荷校正的方法
- BS ISO 20903:2019 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- BS ISO 19668:2017 表面化学分析 X射线光电子能谱 均质材料中元素检测限的估计和报告
国际标准化组织，关于x射光电子的标准
- ISO 16129:2012 表面化学分析.X射线光电子能光谱学.X射线光电子能谱仪日常性能评估规程
- ISO 16129:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 评估X射线光电子能谱仪日常性能的方法
- ISO 18516:2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- ISO 10810:2019 表面化学分析 - X射线光电子能谱分析指南
- ISO 19830:2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
- ISO 10810:2010 表面化学分析.X射线光电子能谱学.分析导则
- ISO/TR 18392:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱学.背景测定程序
- ISO/CD TR 18392:2023 表面化学分析 X 射线光电子能谱 确定背景的程序
- ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
- ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
- ISO 13424:2013 表面化学分析——X射线光电子能谱；薄膜分析结果的报告
- ISO 20903:2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- ISO 15470:2017 表面化学分析. X射线光电子能谱. 选择仪器性能参数说明
- ISO 16243:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- ISO 24237:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱法.强度的可重复性和稳定性
- ISO 18554:2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序
- ISO 20903:2011 表面化学分析.俄歇电子能普和X射线光电子光谱.通报结果所需峰值强度和信息的测定方法
- ISO 18118:2004 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- ISO 18118:2015 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- ISO 21270:2004 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
美国材料与试验协会，关于x射光电子的标准
- ASTM E995-16 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
- ASTM E996-04 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
- ASTM E996-10 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
- ASTM E996-10(2018) 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E996-19 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E995-11 在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中应用背景消除技术的标准指南
- ASTM E2735-14(2020) 用于选择X射线光电子能谱所需校准的标准指南
- ASTM E2108-16 X射线光电子能谱仪的电子结合能量标尺的标准实践
- ASTM E902-05 检查X射线光电子光谱仪的操作特性的标准实施规程
- ASTM E2735-14 选择X射线光电子光谱40;XPS41试验所需校准的标准指南
- ASTM E2735-13 X射线光电子光谱法 (XPS) 试验所需校准选择的标准指南
- ASTM E902-94(1999) 检查X射线光电子能谱仪工作特性的标准实施规程
- ASTM E1523-03 X射线光电子谱测定中电荷控制和电荷参照技术标准指南
- ASTM E2108-10 用X射线光电子分光计测定电子能量捆绑刻度的标准实施规程
- ASTM E996-94(1999) 俄歇电子能谱分析和X射线光电子光谱分析数据报告的标准规程
- ASTM E2108-00 X射线光电子分光仪的电子结合能刻度表的校准的标准操作规程
- ASTM E1523-97 X射线光电子能谱法中电荷控制和电荷参考技术的标准指南
- ASTM E1523-09 X射线光电子谱测定中电荷控制和电荷参照技术的标准指南
- ASTM E1523-15 X射线光电子能谱法中电荷控制和电荷参考技术的标准指南
国家质检总局，关于x射光电子的标准
- GB/T 25184-2010 X射线光电子能谱仪鉴定方法
- GB/T 19500-2004 X射线光电子能谱分析方法通则
- GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南
- GB/T 28632-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定
- GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序
- GB/T 22571-2008 表面化学分析.X射线光电子能谱仪.能量标尺的校准
- GB/T 31470-2015 俄歇电子能谱与X射线光电子能谱测试中确定检测信号对应样品区域的通则
- GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
- GB/T 28892-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.选择仪器性能参数的表述
- GB/T 28633-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.强度标的重复性和一致性
- GB/T 25185-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱.荷电控制和荷电校正方法的报告
- GB/T 21006-2007 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标的线性
- GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
法国标准化协会，关于x射光电子的标准
- NF X21-061:2008 表面化学分析.螺旋电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- NF X21-071:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析用导则
- NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- NF ISO 16243:2012 表面化学分析 X 射线光电子能谱(XPS)中的数据记录和报告
行业标准-电子，关于x射光电子的标准
- SJ/T 10458-1993 俄歇电子能谱术和X射线光电子能谱术的样品处理标准导则
- SJ/T 10714-1996 检查X射线光电子能谱仪工作特性的标准方法
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射光电子的标准
- GB/T 41073-2021 表面化学分析 电子能谱 X射线光电子能谱峰拟合报告的基本要求
- GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告
未注明发布机构，关于x射光电子的标准
- BS ISO 18516:2006(2010) 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率的测定
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标度线性度
韩国科技标准局，关于x射光电子的标准
- KS D ISO 15472-2003(2018) 表面化学分析-X射线光电子分光器-能量刻度矫正
- KS D ISO 15470-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱仪部分性能参数说明
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱电荷控制和电荷校正方法报告
- KS D ISO 18118:2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- KS D ISO 21270:2005 表面化学分析.X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化学分析－俄歇电子能谱和X射线光电子能谱－分析仪横向分辨率、分析面积和样品面积的测定
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪强度标度的线性
日本工业标准调查会，关于x射光电子的标准
- JIS K 0145:2002 表面化学分析.X射线光电子分光计.能量刻度的校准
- JIS K 0167:2011 表面化学分析.俄歇电子光谱和X射线光电子能谱学.匀质材料定量分析用实验室测定相对敏感因子的使用指南
- JIS T 0306:2002 用X射线光电子光谱法分析金属生物材料形成的无源膜的状态
- JIS K 0152:2014 表面化学分析. X射线光电子能谱分析. 强度标的重复性和一致性
澳大利亚标准协会，关于x射光电子的标准
- AS ISO 15472:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱法．能量标度的校准
- AS ISO 15470:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱法．选定仪器性能参数的描述
- AS ISO 19318:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱学．电荷控制和电荷调整用报告法
- AS ISO 24237:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱学．强度标的可重复性和恒定性
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射光电子的标准
- GB/T 22571-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标尺的校准
- GB/T 33502-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱（XPS）数据记录与报告的规范要求
KR-KS，关于x射光电子的标准
- KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化学分析-X射线光电子能谱仪-能量刻度的校准
