x光电子能谱
本专题涉及x光电子能谱的标准有105条。
国际标准分类中，x光电子能谱涉及到分析化学、电学、磁学、电和磁的测量、光学和光学测量、物理学、化学、无损检测、有色金属、电子元器件综合。
在中国标准分类中，x光电子能谱涉及到基础标准与通用方法、综合测试系统、电子光学与其他物理光学仪器、化学、化学助剂基础标准与通用方法、光学测试仪器、贵金属及其合金、标准化、质量管理。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于x光电子能谱的标准
- GB/T 41073-2021 表面化学分析 电子能谱 X射线光电子能谱峰拟合报告的基本要求
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
- GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告
国家质检总局，关于x光电子能谱的标准
- GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告
- GB/T 31472-2015 X光电子能谱中荷电控制和荷电基准技术标准指南
- GB/T 31470-2015 俄歇电子能谱与X射线光电子能谱测试中确定检测信号对应样品区域的通则
- GB/T 30702-2014 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 实验测定的相对灵敏度因子在均匀材料定量分析中的使用指南
- GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南
- GB/T 29556-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测定
- GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
- GB/T 28892-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.选择仪器性能参数的表述
- GB/T 28632-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定
- GB/T 28633-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.强度标的重复性和一致性
- GB/T 25185-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱.荷电控制和荷电校正方法的报告
- GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
- GB/T 19500-2004 X射线光电子能谱分析方法通则
- GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于x光电子能谱的标准
- GB/T 33502-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱（XPS）数据记录与报告的规范要求
国际电工委员会，关于x光电子能谱的标准
- IEC TS 62607-6-21-2022 纳米制造.关键控制特性.第6-21部分:石墨烯基材料.元素组成 C/O比:X射线光电子能谱
国际标准化组织，关于x光电子能谱的标准
- ISO 17109-2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- ISO 19318:2021 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 报告用于充电控制和电荷校正的方法
- ISO 22581:2021 表面化学分析X射线光电子能谱测量扫描的近实时信息含碳化合物表面污染的识别和校正规则
- ISO 10810-2019 表面化学分析 - X射线光电子能谱分析指南
- ISO 10810:2019 表面化学分析 - X射线光电子能谱分析指南
- ISO 20903-2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- ISO 16129-2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 评估X射线光电子能谱仪日常性能的方法
- ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
- ISO 14701-2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
- ISO 19668-2017 表面化学分析.X射线光电子能谱学.均匀材料中元素检测极限的估算和报告
- ISO 15470:2017 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 所选仪器性能参数的描述
- ISO 15470-2017 表面化学分析. X射线光电子能谱. 选择仪器性能参数说明
- ISO 15470-2017 表面化学分析. X射线光电子能谱. 选择仪器性能参数说明
- ISO 18554:2016 表面化学分析.电子光谱法.用X射线光电子能谱法分析的材料中X射线非预期降解的评定和校正程序
- ISO 18554-2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序
- ISO 19830-2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
- ISO 19830:2015 表面化学分析 - 电子光谱 - X射线光电子能谱峰值拟合的最低报告要求
- ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- ISO 17109:2015 表面化学分析 - 深度分析 - X射线光电子能谱法中的溅射速率测定方法 俄歇电子能谱和二次离子质谱法使用单层和多层薄膜的溅射深度分析
- ISO 18118:2015 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.均匀材料定量分析用实验测定相对灵敏度因子的使用指南
- ISO 13424:2013 表面化学分析——X射线光电子能谱；薄膜分析结果的报告
- ISO 16129:2012 表面化学分析——X射线光电子能谱；X射线光电子能谱仪日常性能评估程序
- ISO 16243-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- ISO 16243:2011 表面化学分析——X射线光电子能谱（XPS）中的数据记录和报告
- ISO 20903:2011 表面化学分析——俄歇电子能谱和X射线光电子能谱——报告结果时用于确定峰值强度和所需信息的方法
- ISO 14701:2011 表面化学分析——X射线光电子能谱；氧化硅厚度的测量
- ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
- ISO 10810:2010 表面化学分析——X射线光电子能谱；分析指南
- ISO 10810-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱学.分析导则
- ISO 18516:2006 表面化学分析——俄歇电子能谱和X射线光电子能谱——横向分辨率的测定
- ISO 20903:2006 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.报告结果时确定峰值强度和所需信息的方法
- ISO/TR 18392:2005 表面化学分析——X射线光电子能谱；确定背景的程序
- ISO 24237:2005 表面化学分析——X射线光电子能谱；强度标度的重复性和恒常性
- ISO 19318:2004 表面化学分析——X射线光电子能谱；报告用于充电控制和充电校正的方法
- ISO 15470:2004 表面化学分析——X射线光电子能谱；所选仪器性能参数的说明
- ISO/TR 19319-2003 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
- ISO/TR 19319:2003 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.用分析仪观察横向分辨率 分析面积和样品面积的测定
美国材料与试验协会，关于x光电子能谱的标准
- ASTM E2735-14(2020) 用于选择X射线光电子能谱所需校准的标准指南
- ASTM E996-19 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E996-10(2018) 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E995-16 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
- ASTM E1523-15 X射线光电子能谱法中电荷控制和电荷参考技术的标准指南
- ASTM E2735-14 用于选择X射线光电子能谱所需校准的标准指南
- ASTM E2735-13 用于选择X射线光电子能谱所需校准的标准指南
- ASTM E995-11 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
- ASTM E995-2011 在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中应用背景消除技术的标准指南
- ASTM E996-10 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E996-2010 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
- ASTM E1523-09 X射线光电子能谱法中电荷控制和电荷参考技术的标准指南
- ASTM E996-04 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E995-04 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
- ASTM E996-2004 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
- ASTM E1523-03 X射线光电子能谱法中电荷控制和电荷参考技术的标准指南
- ASTM E996-94(1999) 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E1523-97 X射线光电子能谱法中电荷控制和电荷参考技术的标准指南
- ASTM E995-97 俄歇电子和X射线光电子能谱中背景差减技术的标准指南
- ASTM E996-1994(1999) 俄歇电子能谱分析和X射线光电子光谱分析数据报告的标准规程
德国标准化学会，关于x光电子能谱的标准
- DIN ISO 16129-2020 表面化学分析. X射线光电子能谱-评估X射线光电子能谱仪的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
英国标准学会，关于x光电子能谱的标准
- BS ISO 14701-2018 表面化学分析. X射线光电子能谱学. 二氧化硅厚度测量
- BS ISO 18554-2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序
- BS ISO 19830-2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
- BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 16243-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- BS ISO 16243-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- BS ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量
- BS ISO 14701-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量
- BS ISO 10810-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析指南
- BS ISO 10810-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析指南
，关于x光电子能谱的标准
- KS D ISO 18118-2005(2020) 表面化学分析俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析用实验测定的相对灵敏度因子的使用指南
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱电荷控制和电荷校正方法报告
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化学分析－俄歇电子能谱和X射线光电子能谱－分析仪横向分辨率、分析面积和样品面积的测定
日本工业标准调查会，关于x光电子能谱的标准
- JIS K0152-2014 表面化学分析. X射线光电子能谱分析. 强度标的重复性和一致性
- JIS K0152-2014 表面化学分析. X射线光电子能谱分析. 强度标的重复性和一致性
- JIS K0167-2011 表面化学分析.俄歇电子光谱和X射线光电子能谱学.匀质材料定量分析用实验室测定相对敏感因子的使用指南
法国标准化协会，关于x光电子能谱的标准
- NF X21-073-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- NF X21-071-2011 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析用导则
- NF X21-058-2006 表面化学分析.俄歇电子能谱学和X射线光电子光谱法.测定峰强度使用的方法和报告结果时需要的信息
行业标准-有色金属，关于x光电子能谱的标准
- YS/T 644-2007 铂钌合金薄膜测试方法 X射线光电子能谱法 测定合金态铂及合金态钌含量
韩国标准，关于x光电子能谱的标准
- KS D ISO 19319-2005 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
- KS D ISO 19319-2005 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
行业标准-电子，关于x光电子能谱的标准
- SJ/T 10458-1993 俄歇电子能谱术和X射线光电子能谱术的样品处理标准导则
澳大利亚标准协会，关于x光电子能谱的标准
- AS ISO 19319-2006 表面化学分析．Augur电子能谱法和X射线光电子光谱法．分析员对横向分辨率；分析区域和样品区域的目视检测
- AS ISO 18118-2006 表面化学分析．俄歇电子能谱法和X射线光电子光谱法．均质材料定量分析中实验测定的相对灵敏系数使用指南
