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x射线 结晶 度 分析
本专题涉及x射线 结晶 度 分析的标准有133条。
国际标准分类中，x射线 结晶 度 分析涉及到无机化学、塑料、教育、粒度分析、筛分、空气质量、词汇、无损检测、涂料配料、分析化学、光学和光学测量、耐火材料、半导体材料、有色金属、铁合金、化工产品、长度和角度测量、橡胶和塑料工业的生产工艺、信息技术应用、粉末冶金。
在中国标准分类中，x射线 结晶 度 分析涉及到无机化工原料综合、合成树脂、塑料基础标准与通用方法、教学专用仪器、物质成份分析仪器与环境监测仪器综合、无机盐、教育、学位、学衔、物理学与力学、工业防尘防毒技术、颜料基础标准与通用方法、涂料基础标准与通用方法、基础标准与通用方法、催化剂、质谱仪、液谱仪、能谱仪及其联用装置、大气环境有毒害物质分析方法、涂料、实验室基础设备、硅质耐火材料、、化学、电化学、热化学、光学式分析仪器、冶金原料与辅助材料综合、金属物理性能试验方法、轻金属及其合金、大气、水、土壤环境质量标准、基本有机化工原料、电子计算机应用、长度计量、化学助剂基础标准与通用方法。
国家质检总局，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- GB/T 30904-2014 无机化工产品 晶型结构分析 X射线衍射法
- GB/T 19421.1-2003 层状结晶二硅酸钠试验方法 δ相层状结晶二硅酸钠定性分析 X射线衍射仪法
- GB/T 28633-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.强度标的重复性和一致性
- GB/T 21006-2007 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标的线性
- GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
- GB/T 28893-2024 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
工业和信息化部，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- SH/T 1827-2019 塑料 结晶度的测定 X射线衍射法
行业标准-能源，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- NB/SH/T 6024-2021 ZSM—5分子筛相对结晶度的测定 X射线衍射法
行业标准-教育，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- JY/T 0588-2020 单晶X射线衍射仪测定小分子化合物的晶体及分子结构分析方法通则
- JY/T 008-1996 四圆单晶X射线衍射仪测定小分子化合物的晶体及分子结构分析方法通则
GSO，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- GSO ISO 17867:2017 粒度分析 小角X射线散射
- OS GSO ISO 17867:2017 粒度分析 小角X射线散射
- GSO ISO 16258-2:2021 工作场所空气 通过 X 射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅 第2部分：间接分析法
- BH GSO ISO 16258-2:2022 工作场所空气 通过 X 射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅 第2部分：间接分析法
- GSO ISO 16258-1:2021 工作场所空气 通过 X 射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅 第1部分：直接过滤法
- BH GSO ISO 16258-1:2022 工作场所空气 通过 X 射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅 第1部分：直接过滤法
- GSO ISO 13424:2015 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果报告
- OS GSO ISO 13424:2015 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果报告
- BH GSO ISO 13424:2017 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果报告
- GSO ISO 14701:2013 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度测量
- BH GSO ISO 15472:2016 表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标度的校准
- GSO ISO 24237:2013 表面化学分析 X射线光电子能谱 强度标度的重复性和稳定性
- OS GSO ISO 21270:2014 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标度的线性
- GSO ISO 21270:2014 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标度的线性
- BH GSO ISO 21270:2016 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标度的线性
- GSO ISO 14706:2013 表面化学分析 通过全反射 X 射线闪烁 (TXRF) 光谱对硅晶片上元素的表面污染进行定量
- BH GSO ISO 20903:2016 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 用于确定峰强度和报告结果时所需信息的方法
- GSO ISO 20903:2013 表面化学分析 电子钻能谱和 X 射线光电子能谱 用于确定峰强度的方法和准备结果报告时所需的信息
国际标准化组织，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- ISO/TS 13762:2001 粒度分析 小角度X射线溅射法
- ISO 17867:2020 粒度分析.小角度X射线散射（SAXS）
- ISO 16258-2:2015 工作场所的空气. 采用X射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅. 第2部分: 间接分析法
- ISO 16258-1:2015 工作场所的空气. 采用X射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅. 第1部分: 直接过滤法
- ISO 13424:2013 表面化学分析——X射线光电子能谱；薄膜分析结果的报告
- ISO/CD 5861 表面化学分析 X射线光电子能谱 石英晶体单色Al Ka XPS仪器强度校准方法
- ISO/DIS 5861:2023 表面化学分析 X射线光电子能谱 石英晶体单色 Al Kα XPS 仪器强度校准方法
- ISO/PRF 5861:2024 表面化学分析 X射线光电子能谱 石英晶体单色 Al Kα XPS 仪器强度校准方法
- ISO 15472:2010 表面化学分析.X射线光电谱仪.能量刻度表校准
- ISO 15472:2001 表面化学分析 X射线光电谱仪 能量刻度表校准
- ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
- ISO 14706:2014 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
- ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
- ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
- ISO 21270:2004 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- ISO 24237:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱法.强度的可重复性和稳定性
- ISO 20903:2011 表面化学分析.俄歇电子能普和X射线光电子光谱.通报结果所需峰值强度和信息的测定方法
- ISO 16413:2013 X射线反射计用薄膜的厚度、密度和接口宽度的评估.仪器邀请,校准和定位,数据收集,数据分析和报告
- ISO 16413:2020 通过X射线反射法评估薄膜的厚度 密度和界面宽度 - 仪器要求 对准和定位 数据采集 数据分析和报告
- ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- ISO 20903:2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
英国标准学会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- BS ISO 17867:2020 粒度分析 小角 X 射线散射 (SAXS)
- DD ISO/TS 13762:2001 粒度分析 小角X射线散射法
- BS DD ISO/TS 13762:2002 粒径分析.小角度X射线散射法
- BS ISO 21270:2005 表面化学分析.X射线光电子和俄歇电子光谱仪.强度标的线性度
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标度线性度
- BS ISO 14701:2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量
- BS ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量
- 23/30442725 DC BS ISO 5861 草案 表面化学分析 X射线光电子能谱 石英晶体单色 Al Kα XPS 仪器的强度校准方法
- BS ISO 21270:2004 表面化学分析 X 射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度尺度的线性
- BS ISO 24237:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱学.强度标的可重复性和稳定性
- BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化学分析 深度剖析 使用单一和……的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率测定方法
- BS ISO 20903:2011 表面化学分析.俄歇电子能谱和X-射线光电光谱学.测定峰强度的方法和报告结果要求的信息
- BS ISO 16413:2013 采用X射线反射计对薄膜厚度, 密度和接口宽度的评估. 仪器要求. 校准和定位, 数据收集, 数据分析和报告
- BS ISO 16413:2020 通过 X 射线反射计评估薄膜的厚度、密度和界面宽度 仪器要求、对准和定位、数据收集、数据分析和报告
- BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 20903:2019 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
SCC，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- DANSK DS/ISO 17867:2020 粒度分析 小角 X 射线散射 (SAXS)
- ISO 17109:2015/DAmd 1 表面化学分析 深度分析 X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中使用单层和多层薄膜的溅射速率测定方法 A...
- DIN ISO 15472 E:2019 文件草案 表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标度校准（ISO 15472:2010） 英文文本
法国标准化协会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- NF X43-600-2*NF ISO 16258-2:2015 工作场所空气 通过 X 射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅 第2部分：间接分析法
- NF A09-020-11*NF EN 1330-11:2007 无损检测.术语.第11部分:多结晶和非结晶材料中X射线衍射用术语
- NF X43-600-1*NF ISO 16258-1:2015 工作场所空气 通过 X 射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅 第1部分：直接过滤法
- NF ISO 16258-2:2015 工作场所空气 通过 X 射线衍射测定结晶二氧化硅的可吸入部分 第2部分：间接分析方法
- NF T25-111-3:1991 碳纤维-织构和结构-第3部分：X 射线衍射的方位角分析
- NF ISO 16258-1:2015 工作场所空气 X 射线衍射法测定结晶二氧化硅的可吸入部分 第1部分：直接过滤分析方法
- NF X21-055:2006 表面化学分析.X射线光电谱仪.能量刻度表校准
- NF B49-422-2*NF EN 12698-2:2008 氮化物结合碳化硅耐火材料的化学分析.第2部分:X射线衍射(XRD)法.
- NF X11-683:1981 液体内变高度重力沉积粉末颗粒分析.X射线吸收测量法
- NF X43-296:1995 工作场所空气 通过 X 射线测定结晶二氧化硅的常规可呼吸部分 在滤膜上采样
- NF X43-295:1995 工作场所空气 通过 X 射线测定可吸入结晶二氧化硅沉积物的浓度 通过旋转杯装置采样
美国材料与试验协会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- ASTM D5380-93(2009) 用X射线绕射分析识别涂料中结晶颜料和填充剂的标准试验方法
- ASTM D5380-93(2003) 通过X射线衍射分析鉴定涂料中结晶颜料和扩展剂的标准测试方法
- ASTM D5380-93(1998) 用X射线绕射分析法鉴定涂料中结晶颜料和填充剂的标准试验方法
- ASTM D5380-93(2021) 通过X射线衍射分析鉴定涂料中结晶颜料和扩展剂的标准测试方法
- ASTM D5758-01 X射线绕射法测定沸石ZSM-5相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5357-98 用X射线衍射法测定沸石钠相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D8352-20 用X射线衍射法测定β沸石相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5357-03(2008)e1 用X射线衍射法测定沸石钠相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5357-03(2013) 用X射线衍射法测定沸石钠相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5758-01(2007)e1 X射线绕射法测定沸石ZSM-5相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5357-03 X射线衍射法测定A型沸石钠相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5357-19 X射线衍射法测定A型沸石钠相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5758-01(2021) 通过X射线衍射测定沸石ZSM-5的相对结晶度的标准测试方法
- ASTM D5758-01(2011)e1 使用X射线衍射法测定沸石ZSM-5相对结晶度的的标准试验方法
- ASTM D5758-01(2015) 通过X射线衍射法测定ZSM-5沸石的相对结晶度的标准试验方法
- ASTM D5380-93(2014) 用X射线绕射分析法鉴定涂料中水晶颜料和填充剂的标准试验方法
- ASTM E2108-05 X-射线光电分光仪的电子结合能刻度表校准的标准实施规程
- ASTM D6247-98 用X射线荧光度谱术对聚烯烃内元素含量分析的标准试验方法
- ASTM E2108-00 X射线光电子分光仪的电子结合能刻度表的校准的标准操作规程
- ASTM B761-02e1 通过对重力沉积物进行X射线照射分析测定金属粉末和相关化合物的粒度分布的标准试验方法
KR-KS，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- KS D ISO 14706-2003(2023) 表面化学分析-全反射X射线荧光分析仪测定硅晶片表面元素杂质
- KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化学分析-X射线光电子能谱仪-能量刻度的校准
- KS D ISO 16413-2021 用X射线反射计评估薄膜的厚度、密度和界面宽度.仪器要求、校准和定位、数据收集、数据分析和报告
RU-GOST R，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- GOST R ISO 16258-1-2017 工作场所空气 通过 X 射线衍射分析可吸入结晶二氧化硅 第 1 部分. 直接过滤法
- GOST 16865-1979 X射线结构和光谱分析装置.术语和定义
德国标准化学会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- DIN 51418-2 Bb.1:2000 X射线光度法.X射线散射和X射线荧光分析(XRF).第2部分:定义和测量、校准及对结果评定的基本原理.附加信息和计算范例
- DIN 51418-2:2015-03 X 射线光谱测定 X 射线发射和 X 射线荧光分析(XRF)第2部分：测量、校准和结果评估的定义和基本原则
- DIN EN 12698-2:2007 氮化物结合碳化硅耐火材料的化学分析.第2部分:X射线衍射(XRD)法
- DIN ISO 15472:2020-05 表面化学分析 - X 射线光电子能谱仪 - 能量标度校准 (ISO 15472:2010)
未注明发布机构，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- ASTM RR-D32-1036 1993 D5357-通过X射线衍射测定A型沸石钠相对结晶度的标准测试方法
- DIN 51418-2 E:2014-06 Ｘ射线光谱测定 X 射线发射和 X 射线荧光分析(XRF)第2部分：测量、校准和结果评估的定义和基本原则
- AS ISO 24237:2006(R2016) 表面化学分析 X射线光电子光谱学 强度标的可重复性和恒定性
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
韩国科技标准局，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- KS D ISO 15472-2003(2018) 表面化学分析-X射线光电子分光器-能量刻度矫正
- KS D ISO 21270-2020 表面化学分析 X射线光电子能谱和俄歇电子能谱仪 强度标度线性度
- KS D ISO 15472:2003 表面化学分析.X射线光电光谱仪.能量刻度的校正
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪强度标度的线性
- KS D ISO 21270:2005 表面化学分析.X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- KS D ISO 16413:2021 用X射线反射计评估薄膜的厚度、密度和界面宽度.仪器要求、校准和定位、数据收集、数据分析和报告
欧洲标准化委员会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- EN 12698-2:2007 氮化物结合碳化硅耐火材料的化学分析.第2部分:X射线衍射(XRD)法
日本工业标准调查会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- JIS K 0145:2002 表面化学分析.X射线光电子分光计.能量刻度的校准
- JIS K 0148:2005 表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物
- JIS K 0152:2014 表面化学分析. X射线光电子能谱分析. 强度标的重复性和一致性
中国团体标准，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
工业和信息化部/国家能源局，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- JB/T 12962.3-2016 能量色散X射线荧光光谱仪 第3部分：镀层厚度分析仪
澳大利亚标准协会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- AS ISO 15472:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱法．能量标度的校准
- AS ISO 24237:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱学．强度标的可重复性和恒定性
行业标准-有色金属，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- YS/T 273.14-2008 冰晶石化学分析方法和物理性能测定方法 14部分:X射线荧光光谱分析法测定元素含量
- YS/T 273.11-2006 冰晶石化学分析方法和物理性能测定方法.第11部分：x射线荧光光谱分析法测定硫含量
- YS/T 273.15-2012 冰晶石化学分析方法和物理性能测定方法 第15部分：X射线荧光光谱分析（压片）法测定元素含量
- YS/T 273.11-2023 冰晶石化学分析方法和物理性能测定方法第 11 部分：元素含量的测定 X 射线荧光光谱法
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射线 结晶 度 分析的标准
- GB/T 36053-2018 X射线反射法测量薄膜的厚度、密度和界面宽度 仪器要求、准直和定位、数据采集、数据分析和报告
