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x射线与表面分析
本专题涉及x射线与表面分析的标准有149条。
国际标准分类中，x射线与表面分析涉及到分析化学、光学和光学测量、核能工程、长度和角度测量、辐射防护、无损检测、物理学、化学。
在中国标准分类中，x射线与表面分析涉及到基础标准与通用方法、实验室基础设备、电子光学与其他物理光学仪器、质谱仪、液谱仪、能谱仪及其联用装置、化学、辐射防护仪器、半金属及半导体材料分析方法、环境监测仪器及其成套装置、化学助剂基础标准与通用方法、电子元件综合。
英国标准学会，关于x射线与表面分析的标准
- BS ISO 13424:2013 表面化学分析.X射线光谱.薄膜分析报表
- BS ISO 20289:2018 表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
- BS ISO 10810:2019 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南
- BS ISO 10810:2010 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析指南
- BS ISO 16129:2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 X 射线光电子能谱仪日常性能评估程序
- PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析 全反射 X 射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
- BS PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
- BS ISO 15472:2010 表面化学分析.X射线光电子分光计.能量等级的校准
- BS ISO 16129:2012 表面化学分析.X射线光电子能光谱学.X射线光电子能谱仪日常性能评估规程
- BS ISO 14701:2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量
- BS ISO 14706:2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 14706:2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 14706:2001 表面化学分析 采用全反射X射线荧光（TXRF）光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量
- BS ISO 18554:2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序
- BS ISO 16243:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- BS ISO 21270:2005 表面化学分析.X射线光电子和俄歇电子光谱仪.强度标的线性度
- BS ISO 15470:2005 表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- BS ISO 15470:2017 表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- BS ISO 21270:2004 表面化学分析 X 射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度尺度的线性
- BS ISO 24237:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱学.强度标的可重复性和稳定性
- BS ISO 19318:2005 表面化学分析.X射线光电光谱法.电荷控制和电荷校正方法的报告
- BS ISO 19830:2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
- BS ISO 18516:2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- BS ISO 17331:2004+A1:2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
- BS ISO 19668:2017 表面化学分析 X射线光电子能谱 均质材料中元素检测限的估计和报告
- BS ISO 19318:2021 表面化学分析 X射线光电子能谱 报告用于电荷控制和电荷校正的方法
- BS ISO 22581:2021 表面化学分析 来自X射线光电子能谱测量扫描的近实时信息 含碳化合物表面污染的识别和校正规则
- 20/30423741 DC BS ISO 19318 表面化学分析 X射线光电子能谱 报告用于电荷控制和电荷校正的方法
- BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化学分析 深度剖析 使用单一和……的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率测定方法
- BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 20903:2011 表面化学分析.俄歇电子能谱和X-射线光电光谱学.测定峰强度的方法和报告结果要求的信息
- BS ISO 18118:2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性系数的使用指南
- BS ISO 18118:2015 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 使用实验确定的相对灵敏度因子进行均质材料定量分析的指南
- 19/30364173 DC BS ISO 22581 通过 XPS 进行表面化学分析 数据管理和处理 来自 X 射线光电子能谱调查扫描的近实时信息 识别和纠正表面污染的规则
- 23/30461294 DC BS ISO 18118 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 使用实验确定的相对灵敏度因子进行均质材料定量分析的指南
- BS ISO 20903:2019 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- DD ISO/TS 10798:2011 纳米技术 使用扫描电子显微镜和能量色散 X 射线光谱分析表征单壁碳纳米管
日本工业标准调查会，关于x射线与表面分析的标准
- JIS K 0181:2021 表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
- JIS K 0145:2002 表面化学分析.X射线光电子分光计.能量刻度的校准
- JIS K 0148:2005 表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物
- JIS K 0152:2014 表面化学分析. X射线光电子能谱分析. 强度标的重复性和一致性
- JIS K 0162:2010 表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- JIS K 0160:2009 表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
- JIS K 0167:2011 表面化学分析.俄歇电子光谱和X射线光电子能谱学.匀质材料定量分析用实验室测定相对敏感因子的使用指南
国际标准化组织，关于x射线与表面分析的标准
- ISO 20289:2018 表面化学分析.水的全反射X射线荧光分析
- ISO 10810:2019 表面化学分析 - X射线光电子能谱分析指南
- ISO 10810:2010 表面化学分析.X射线光电子能谱学.分析导则
- ISO 15472:2010 表面化学分析.X射线光电谱仪.能量刻度表校准
- ISO 15472:2001 表面化学分析 X射线光电谱仪 能量刻度表校准
- ISO 13424:2013 表面化学分析——X射线光电子能谱；薄膜分析结果的报告
- ISO 16129:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 评估X射线光电子能谱仪日常性能的方法
- ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
- ISO/TR 18392:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱学.背景测定程序
- ISO/CD TR 18392:2023 表面化学分析 X 射线光电子能谱 确定背景的程序
- ISO 16129:2012 表面化学分析.X射线光电子能光谱学.X射线光电子能谱仪日常性能评估规程
- ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
- ISO 14706:2014 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
- ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
- ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
- ISO 18554:2016 表面化学分析. 电子光谱. 采用X射线光电子能谱分析法对材料进行分析的X射线的意外降解的识别, 评估和修正程序
- ISO 15470:2017 表面化学分析. X射线光电子能谱. 选择仪器性能参数说明
- ISO 16243:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- ISO 21270:2004 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- ISO 15470:2004 表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- ISO 24237:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱法.强度的可重复性和稳定性
- ISO 19318:2004 表面化学分析.X射线光电光谱法.电荷控制和电荷校正方法的报告
- ISO 19830:2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
- ISO 19318:2021 表面化学分析. X射线光电光谱法. 电荷控制和电荷校正方法的报告
- ISO 18516:2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
- ISO/CD 5861 表面化学分析 X射线光电子能谱 石英晶体单色Al Ka XPS仪器强度校准方法
- ISO/DIS 5861:2023 表面化学分析 X射线光电子能谱 石英晶体单色 Al Kα XPS 仪器强度校准方法
- ISO 22581:2021 表面化学分析X射线光电子能谱测量扫描的近实时信息含碳化合物表面污染的识别和校正规则
- ISO/TR 19319:2003 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
- ISO 19668:2017 表面化学分析.X射线光电子能谱学.均匀材料中元素检测极限的估算和报告
- ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- ISO 20903:2011 表面化学分析.俄歇电子能普和X射线光电子光谱.通报结果所需峰值强度和信息的测定方法
- ISO/TS 10798:2011 纳米技术.使用扫描电镜与X射线能谱分析的单臂碳纳米管的特征描述
- ISO 18118:2004 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- ISO 18118:2015 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- ISO/DIS 18118:2023 表面化学分析 俄歇电子能谱和 X 射线光电子能谱 使用实验确定的相对灵敏度因子进行均质材料定量分析的指南
- ISO/FDIS 18118:2023 表面化学分析 - 俄歇电子能谱和 X 射线光电子能谱 - 使用实验确定的相对灵敏度因子进行均质材料定量分析的指南
- ISO 20903:2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- ISO 20903:2006 表面化学分析.螺旋电子光谱法和X-射线光电光谱学.报告结果时测定峰强度的方法和必要信息的使用方法
国家质检总局，关于x射线与表面分析的标准
- GB/T 42360-2023 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析
- GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南
- GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序
- GB/T 28892-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.选择仪器性能参数的表述
- GB/T 22571-2008 表面化学分析.X射线光电子能谱仪.能量标尺的校准
- GB/T 28633-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.强度标的重复性和一致性
- GB/T 21006-2007 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标的线性
- GB/T 28632-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定
- GB/T 29556-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测定
- GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
- GB/T 25185-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱.荷电控制和荷电校正方法的报告
- GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
- GB/T 30702-2014 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 实验测定的相对灵敏度因子在均匀材料定量分析中的使用指南
韩国科技标准局，关于x射线与表面分析的标准
- KS D ISO 14706-2003(2018) 表面化学分析-全反射X-射线荧光分析仪测定硅片表面元素杂质
- KS D ISO 14706:2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
- KS D ISO 15472-2003(2018) 表面化学分析-X射线光电子分光器-能量刻度矫正
- KS D ISO 15472:2003 表面化学分析.X射线光电光谱仪.能量刻度的校正
- KS D ISO 15470-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱仪部分性能参数说明
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化学分析－俄歇电子能谱和X射线光电子能谱－分析仪横向分辨率、分析面积和样品面积的测定
- KS D ISO 21270:2005 表面化学分析.X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- KS D ISO 15470:2005 表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪强度标度的线性
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱电荷控制和电荷校正方法报告
- KS D ISO 19318:2005 表面化学分析.X射线光电光谱法.电荷控制和电荷校正方法的报告
- KS D ISO 19319:2005 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
- KS C IEC 61017-2:2005 辐射防护仪表.环境监测用的便携式可移动或固定式X射线与γ射线测量表.第2部分:集成元件
- KS D ISO 18118-2005(2020) 表面化学分析俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析用实验测定的相对灵敏度因子的使用指南
- KS D ISO 18118:2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
KR-KS，关于x射线与表面分析的标准
- KS D ISO 14706-2003(2023) 表面化学分析-全反射X射线荧光分析仪测定硅晶片表面元素杂质
- KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化学分析-X射线光电子能谱仪-能量刻度的校准
法国标准化协会，关于x射线与表面分析的标准
- NF X21-071:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱法.分析用导则
- NF X21-055:2006 表面化学分析.X射线光电谱仪.能量刻度表校准
- NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
- NF ISO 16243:2012 表面化学分析 X 射线光电子能谱(XPS)中的数据记录和报告
- NF X21-061:2008 表面化学分析.螺旋电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- NF EN 16424:2014 废物表征-使用便携式X射线荧光分析仪测定元素成分的筛选方法
- FD T16-203:2011 纳米技术 使用扫描电子显微镜和能量色散 X 射线光谱分析法表征单壁碳纳米管
- NF X21-058:2006 表面化学分析.俄歇电子能谱学和X射线光电子光谱法.测定峰强度使用的方法和报告结果时需要的信息
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射线与表面分析的标准
- GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告
- GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
- GB/T 41073-2021 表面化学分析 电子能谱 X射线光电子能谱峰拟合报告的基本要求
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
德国标准化学会，关于x射线与表面分析的标准
- DIN ISO 16129:2020-11 表面化学分析 X射线光电子能谱 X射线光电子能谱仪日常性能评估程序
- DIN ISO 15472:2020-05 表面化学分析 - X 射线光电子能谱仪 - 能量标度校准 (ISO 15472:2010)
- DIN ISO 15472:2020 表面化学分析 X 射线光电子能谱仪 能标校准（ISO 15472:2010）；英文文本
- DIN ISO 16129:2020 表面化学分析. X射线光电子能谱-评估X射线光电子能谱仪的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射线与表面分析的标准
- GB/T 33502-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱（XPS）数据记录与报告的规范要求
- GB/T 22571-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标尺的校准
澳大利亚标准协会，关于x射线与表面分析的标准
- AS ISO 15472:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱法．能量标度的校准
- AS ISO 15470:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱法．选定仪器性能参数的描述
- AS ISO 24237:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱学．强度标的可重复性和恒定性
- AS ISO 19318:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱学．电荷控制和电荷调整用报告法
- AS ISO 19319:2006 表面化学分析．Augur电子能谱法和X射线光电子光谱法．分析员对横向分辨率；分析区域和样品区域的目视检测
- AS ISO 18118:2006 表面化学分析．俄歇电子能谱法和X射线光电子光谱法．均质材料定量分析中实验测定的相对灵敏系数使用指南
国际电工委员会，关于x射线与表面分析的标准
- IEC 62495:2011 核监测仪表.利用微型X-射线管的便携式X-射线荧光分析设备
未注明发布机构，关于x射线与表面分析的标准
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标度线性度
- BS ISO 18516:2006(2010) 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率的测定
美国材料与试验协会，关于x射线与表面分析的标准
- ASTM F1375-92(2005) 气体分配系统元部件用金属表面状态的能量分散X射线分光光谱分析试验法
- ASTM F1375-92(2012) 气体分配系统元部件用金属表面状态的能量分散X射线分光光谱仪 (EDX) 分析的标准试验方法
RU-GOST R，关于x射线与表面分析的标准
- GOST R ISO 16243-2016 确保测量一致性的国家系统. 表面化学分析. X射线光电子能谱 (XPS) 的记录和报告数据
欧洲标准化委员会，关于x射线与表面分析的标准
- EN 15305:2008 无损检验.使用X射线衍射分析剩余应力的试验方法.合并勘误表-2009年1月
丹麦标准化协会，关于x射线与表面分析的标准
- DS/ISO/TS 10798:2011 纳米技术 使用扫描电子显微镜和能量色散 X 射线光谱分析法表征单壁碳纳米管
