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表面 光 化学 催化

本专题涉及表面 光 化学 催化的标准有327条。

国际标准分类中，表面 光 化学 催化涉及到表面处理和镀涂、词汇、涂料和清漆、石油产品综合、分析化学、陶瓷、化工产品、光学设备、有色金属、有机化学、粉末冶金、光学和光学测量、信息技术应用、防护设备、切削工具、金属矿、质量、长度和角度测量、实验室医学、橡胶和塑料制品、钢铁产品、热处理、家具、齿轮及齿轮传动、建筑物结构、输电网和配电网。

在中国标准分类中，表面 光 化学 催化涉及到材料防护、催化剂、警用装备与器械、、石油产品综合、催化剂基础标准与通用方法、大气环境有毒害物质分析方法、贵金属及其合金分析方法、贵金属及其合金、化工综合、基础标准与通用方法、物理学与力学、金属物理性能试验方法、社会公共安全综合、化学助剂、化学、有机化工原料综合、实验室基础设备、计算机应用、劳动防护用品、电子光学与其他物理光学仪器、磨料与磨具、贵金属矿、化学试剂综合、半金属及半导体材料分析方法、质谱仪、液谱仪、能谱仪及其联用装置、物性分析仪器、医用化验设备、钢铁产品综合、日用玻璃、陶瓷、搪瓷、塑料制品综合、水环境有毒害物质分析方法、放大镜与显微镜、家具综合、齿轮与齿轮传动。


德国标准化学会，关于表面 光 化学 催化的标准

  • DIN 19279:2018-01 表面的光催化活性 光催化活性表面上一氧化氮的光催化沉积速度的测定
  • DIN 52980:2008 表面的光催化活性.通过亚甲蓝降级测定光催化活性
  • DIN EN 16981:2021-12 光催化 - 术语表
  • DIN EN 1729-2:2021-12 光催化 - 术语表
  • DIN 52980:2021-10 表面的光催化活性。通过亚甲基蓝的降解测定水介质中表面的光催化活性
  • DIN 52980:2021 表面的光催化活性 通过亚甲基蓝的降解测定水性介质中表面的光催化活性
  • DIN EN 16981:2021 光催化. 术语表; 德文版本EN 16981-2021
  • DIN EN 16845-1:2017-05 光催化-在固体/固体条件下使用吸附有机物的防污化学活性-第1部分：多孔表面上的染料
  • DIN EN 16845-1:2017 光催化. 固体/固体条件下使用吸附有机物的防污化学活性. 第1部分: 多孔表面染料; 德文版本EN 16845-1-2017
  • DIN ISO 14707:2018 表面化学分析 辉光放电发射光谱法（GD-OES） 使用介绍（ISO 14707:2015）
  • DIN ISO 14707:2023-05 表面化学分析 - 辉光放电发射光谱法 (GD-OES) - 使用简介 (ISO 14707:2021)
  • DIN ISO 14707:2023 表面化学分析 辉光放电发射光谱法 (GD-OES) 使用简介 (ISO 14707:2021)
  • DIN ISO 15472:2020-05 表面化学分析 - X 射线光电子能谱仪 - 能量标度校准 (ISO 15472:2010)
  • DIN 68861-1:2011 家具表面.第1部分:化学影响下的性能
  • DIN 68861-1:2011-01 家具表面 第1部分：化学影响下的行为

丹麦标准化协会，关于表面 光 化学 催化的标准

欧洲标准化委员会，关于表面 光 化学 催化的标准

法国标准化协会，关于表面 光 化学 催化的标准

英国标准学会，关于表面 光 化学 催化的标准

ES-UNE，关于表面 光 化学 催化的标准

韩国科技标准局，关于表面 光 化学 催化的标准

中国团体标准，关于表面 光 化学 催化的标准

  • T/ZZB 1091-2019 建筑外表面用光催化自清洁涂料
  • T/ZS 0234-2021 建筑外表面用光催化自清洁涂料应用技术规程
  • T/CI 007-2023 沥青道路表面用光催化自清洁涂层施工技术规范
  • T/CPCIF 0140-2021 催化剂载体 拟薄水铝石比表面积和孔容的测定 氮吸附法
  • T/CEC 525-2021 电力金具表面耐磨激光强化技术要求

行业标准-能源，关于表面 光 化学 催化的标准

美国材料与试验协会，关于表面 光 化学 催化的标准

  • ASTM B733-22 金属表面自动催化（化学镀）镍磷涂层的标准规范
  • ASTM D3663-03 催化剂和催化剂载体表面积的标准试验方法
  • ASTM D3663-20 催化剂和催化剂载体表面积的标准试验方法
  • ASTM D3663-03(2015) 催化剂和催化剂载体表面积的标准试验方法
  • ASTM D3663-03(2008) 催化剂和催化剂载体比表面积的标准试验方法
  • ASTM D7085-04e1 X射线荧光光谱法(XRF)测定流化床催化裂化催化剂中的化学元素的标准指南
  • ASTM D7085-04 X射线荧光光谱法(XRF)测定流化床催化裂化催化剂中的化学元素的标准指南
  • ASTM D7085-04(2010)e1 X射线荧光光谱法(XRF)测定流化床催化裂化催化剂中的化学元素的标准指南
  • ASTM D7085-04(2018) 用X射线荧光光谱法（XRF）测定流体催化裂化催化剂中化学元素的标准指南
  • ASTM UOP944-96 新鲜和再生催化剂的表面积
  • ASTM D3663-99 催化剂的表面面积的标准试验方法
  • ASTM D4780-12 用多点氪吸附法测定催化剂及催化剂载体的低表面面积的标准试验方法
  • ASTM D4780-23 用多点氪吸附法测定催化剂和催化剂载体低表面积的标准试验方法
  • ASTM D4780-12(2017)e1 通过多点氪吸附测定催化剂和催化剂载体的低表面积的标准测试方法
  • ASTM B733-04 金属表面自催化(无电)镍磷涂层标准规范
  • ASTM B733-04(2009) 金属表面自催化(无电)镍磷涂层的标准规范
  • ASTM D4567-03 连续流动法单点测定用氮吸附的催化剂和催化剂载体比表面积的标准试验方法
  • ASTM D4567-99 连续流动法单点测定用氮吸附的催化剂和催化剂载体比表面积的标准试验方法
  • ASTM D4567-03(2008) 连续流动法单点测定用氮吸附的催化剂和催化剂载体比表面积的标准试验方法
  • ASTM D4567-03(2013) 连续流动法单点测定用氮吸附的催化剂和催化剂载体比表面积的标准试验方法
  • ASTM E1257-93(2003) 用光谱化学分析法评定表面处理用研磨材料
  • ASTM D4780-95(2007) 用多点氪吸附法测定催化剂的低表面面积的标准试验方法
  • ASTM D4780-95 用多点氪吸附法测定催化剂的低表面面积的标准试验方法
  • ASTM D8353-20 低表面单个颗粒强度测定的标准指南 在钢板上进行区域催化剂和催化剂载体的跌落试验
  • ASTM D4780-95(2001) 用多点氪吸附测定催化剂低表面积的标准试验方法
  • ASTM D4567-19 通过连续流动法使用氮吸附法对催化剂和催化剂载体的比表面积单点测定的标准测试方法
  • ASTM E1257-93(2008) 用光谱化学分析法评定表面处理用研磨材料的标准指南
  • ASTM E1257-93(1998)e1 光谱化学分析中用于表面处理的研磨材料评价标准指南
  • ASTM C722-18 耐化学品整体地板表面的标准规范

国家能源局，关于表面 光 化学 催化的标准

  • SH/T 0959-2017 催化裂化催化剂比表面积的测定 静态氮吸附容量法

行业标准-石油化工，关于表面 光 化学 催化的标准

KR-KS，关于表面 光 化学 催化的标准

国家质检总局，关于表面 光 化学 催化的标准

  • GB/T 5816-1995 催化剂和吸附剂表面积测定法
  • GB/T 23277-2009 贵金属催化剂化学分析方法.汽车尾气净化催化剂中铂、钯、铑量的测定.分光光度法
  • GB/T 19502-2004 表面化学分析-辉光放电发射光谱方法通则
  • GB/T 22461-2008 表面化学分析.词汇
  • GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
  • GB/T 42360-2023 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析
  • GB/T 21007-2007 表面化学分析 信息格式
  • GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南
  • GB/Z 32494-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱 化学信息的解析
  • GB/T 17418.4-1998 地球化学样品中贵金属分析方法 硫脲富集-催化分光光度法测定铱量
  • GB/T 19499-2004 表面化学分析 数据传输格式
  • GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序
  • GB/T 28892-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.选择仪器性能参数的表述
  • GB/T 17418.5-1998 地球化学样品中贵金属分析方法 蒸馏分离-催化分光光度法测定钌量和锇量
  • GB/T 22571-2008 表面化学分析.X射线光电子能谱仪.能量标尺的校准
  • GB/T 28894-2012 表面化学分析.分析前样品的处理
  • GB/T 17418.4-2010 地球化学样品中贵金属分析方法 第4部分：铱量的测定 硫脲富集-催化分光光度法
  • GB/T 29559-2013 表面化学分析 辉光放电原子发射光谱 锌和/或铝基合金镀层的分析
  • GB/T 24170.1-2023 表面抗菌不锈钢 第1部分：电化学法
  • GB/T 24170.1-2009 表面抗菌不锈钢.第1部分:电化学法
  • GB/T 28633-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.强度标的重复性和一致性
  • GB/T 17418.5-2010 地球化学样品中贵金属分析方法 第5部分：钌量和锇量的测定 蒸馏分离-催化分光光度法
  • GB/T 29557-2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量
  • GB/T 17879-2023 齿轮 磨削后表面回火的化学浸蚀检验
  • GB/T 30014-2013 废钯炭催化剂化学分析方法 钯量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

台湾地方标准，关于表面 光 化学 催化的标准

  • CNS 9938-1986 光学玻璃化学耐久性试验法（表面法）

国际标准化组织，关于表面 光 化学 催化的标准

  • ISO/TR 18394:2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法.化学信息的推导
  • ISO/CD 20579-2:2023 表面化学分析
  • ISO/CD 20289:2017 表面化学分析
  • ISO/CD 24237:2023 表面化学分析
  • ISO/TR 18392:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱学.背景测定程序
  • ISO 18115:2001 表面化学分析 词汇
  • ISO/TS 15338:2020 表面化学分析 - 辉光放电质谱 - 操作程序
  • ISO 17331:2004/Amd 1:2010 表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1
  • ISO 10810:2010 表面化学分析.X射线光电子能谱学.分析导则
  • ISO/TS 25138:2019 表面化学分析 - 通过辉光放电发射光谱法分析金属氧化物膜
  • ISO 15472:2010 表面化学分析.X射线光电谱仪.能量刻度表校准
  • ISO 15472:2001 表面化学分析 X射线光电谱仪 能量刻度表校准
  • ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
  • ISO 18115-3:2022 表面化学分析.词汇.第3部分:光学界面分析中使用的术语
  • ISO 17721-2:2021 瓷砖表面抗菌活性的定量测定.试验方法.第2部分：含有光催化抗菌剂的瓷砖表面
  • ISO/TR 18394:2016 表面化学分析. 俄歇电子能谱学. 提取化学信息
  • ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
  • ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
  • ISO/TS 25138:2010 表面化学分析.用辉光放电发射光谱测定法分析金属氧化物薄膜
  • ISO 18337:2015 表面化学分析. 表面特征. 共焦荧光显微镜横向分辨率的测量
  • ISO 14975:2000 表面化学分析 信息格式
  • ISO 10810:2019 表面化学分析 - X射线光电子能谱分析指南
  • ISO 20289:2018 表面化学分析.水的全反射X射线荧光分析
  • ISO 18115-1:2010 表面化学分析.词汇.第1部分:一般术语和光谱学术语
  • ISO 18115-1:2013 表面化学分析.词汇.第1部分:一般术语和光谱学术语
  • ISO 14707:2015 表面化学分析 辉光释放光传播光谱测定法(GD-OES) 使用说明
  • ISO 14707:2000 表面化学分析 辉光释放光传播光谱测定法(GD-OES) 使用说明
  • ISO 14707:2021 表面化学分析. 辉光释放光传播光谱测定法(GD-OES). 使用说明
  • ISO/TR 14187:2020 表面化学分析 - 纳米结构材料的表征
  • ISO 18115:2001/Amd 1:2006 表面化学分析.词汇.修改件1
  • ISO 18115:2001/Amd 2:2007 表面化学分析.词汇.修改件2
  • ISO 14976:1998 表面化学分析 数据传输格式
  • ISO 24417:2022 表面化学分析.用辉光放电光学发射光谱法分析铁基衬底上的金属纳米层
  • ISO/TS 15338:2009 表面化学分析.辉光放电质谱测定法(GD-MS).使用介绍
  • ISO/CD TR 18392:2023 表面化学分析 X 射线光电子能谱 确定背景的程序
  • ISO 11505:2012 表面化学分析.通过辉光放电光发射光谱法来定量成分深度剖面的通用规程
  • ISO 18117:2009 表面化学分析.样品处理前分析
  • ISO 16129:2012 表面化学分析.X射线光电子能光谱学.X射线光电子能谱仪日常性能评估规程
  • ISO/FDIS 18115-1 表面化学分析“词汇”第1部分：光谱学中使用的通用术语和术语
  • ISO 18115-1:2023 表面化学分析词汇第1部分：通用术语和光谱学中使用的术语
  • ISO 15470:2004 表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
  • ISO 24237:2005 表面化学分析.X射线光电子光谱法.强度的可重复性和稳定性
  • ISO 17974:2002 表面化学分析.高分辨率螺旋电子光谱仪.元素和化学状态分析用能量标度的校准
  • ISO 16962:2017 表面化学分析. 采用辉光放电光发射光谱法分析锌和/或铝基金属涂层
  • ISO 22581:2021 表面化学分析X射线光电子能谱测量扫描的近实时信息含碳化合物表面污染的识别和校正规则
  • ISO 13424:2013 表面化学分析——X射线光电子能谱；薄膜分析结果的报告
  • ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 14706:2014 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 18516:2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
  • ISO 16962:2005 表面化学分析.用辉光放电光发射光谱测定法分析锌和/或铝基金属涂层
  • ISO 19318:2004 表面化学分析.X射线光电光谱法.电荷控制和电荷校正方法的报告
  • ISO 19318:2021 表面化学分析. X射线光电光谱法. 电荷控制和电荷校正方法的报告
  • ISO 15470:2017 表面化学分析. X射线光电子能谱. 选择仪器性能参数说明
  • ISO 24236:2005 表面化学分析.螺旋电子光谱法.强度标的重复性和持久性
  • ISO 16243:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱术(XPS)的记录和报告数据
  • ISO/TR 14187:2011 表面化学分析.纳米结构材料的特性
  • ISO 7875-1:1984 水质.表面活化剂的测定.第1部分:用亚甲兰光谱法测定负离子表面活化剂
  • ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
  • ISO 15471:2004 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
  • ISO 15471:2016 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
  • ISO/TR 23173:2021 表面化学分析.电子光谱法.纳米颗粒涂层厚度和成分的测量
  • ISO/TR 15969:2001 表面化学分析 深度描述 溅射深度测量

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于表面 光 化学 催化的标准

  • GB/T 38691-2020 石油炼制催化剂比表面积测试方法
  • GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
  • GB/T 41072-2021 表面化学分析 电子能谱 紫外光电子能谱分析指南
  • GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告
  • GB/T 23524-2019 石油化工废铂催化剂化学分析方法 铂含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于表面 光 化学 催化的标准

  • GB/T 32996-2016 表面化学分析 辉光放电发射光谱法分析金属氧化物膜
  • GB/T 33051-2016 光学功能薄膜 表面硬化薄膜 硬化层厚度测定方法
  • GB/T 33498-2017 表面化学分析 纳米结构材料表征
  • GB/T 22571-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标尺的校准
  • GB/T 32997-2016 表面化学分析 辉光放电发射光谱定量成分深度剖析的通用规程

澳大利亚标准协会，关于表面 光 化学 催化的标准

  • AS ISO 18115:2006 表面化学分析．词汇
  • AS ISO 14975:2006 表面化学分析．信息格式
  • AS ISO 15472:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱法．能量标度的校准
  • AS ISO 24237:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱学．强度标的可重复性和恒定性
  • AS ISO 14976:2006 表面化学分析．数据传送格式
  • AS ISO 19318:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱学．电荷控制和电荷调整用报告法
  • AS ISO 15470:2006 表面化学分析．X射线光电子光谱法．选定仪器性能参数的描述
  • AS ISO 17974:2006 表面化学分析．高分辨率俄歇电子分光计法．元素及化学物质状态分析用能量标度校准

日本工业标准调查会，关于表面 光 化学 催化的标准

  • JIS K 0147:2004 表面化学分析.词汇
  • JIS K 0142:2000 表面化学分析.信息格式
  • JIS K 0181:2021 表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
  • JIS K 0145:2002 表面化学分析.X射线光电子分光计.能量刻度的校准
  • JIS K 0160:2009 表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
  • JIS K 0144:2001 表面化学分析.辉光放电发射光谱测定法(GD-OES).使用说明
  • JIS K 0144:2018 表面化学分析.辉光放电发射光谱测定法(GD-OES).使用说明
  • JIS K 0141:2000 表面化学分析.数据传送格式
  • JIS K 0147-1:2017 表面化学分析. 词汇. 第1部分: 通用术语和用于光谱学的术语
  • JIS K 0162:2010 表面化学分析.X射线光电光谱法.选定的仪器性能参数的描述
  • JIS K 0166:2011 表面化学分析.高分辨率螺旋电子光谱仪.元素和化学状态分析用能量标度的校准
  • JIS K 0148:2005 表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物
  • JIS K 0150:2009 表面化学分析.用辉光放电光发射光谱测定法分析锌和/或铝基金属涂层
  • JIS K 0161:2010 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述

行业标准-有色金属，关于表面 光 化学 催化的标准

  • YS/T 1071-2015 双氧水用废催化剂化学分析方法 钯量的测定 分光光度法

RU-GOST R，关于表面 光 化学 催化的标准

  • GOST 23401-1990 金属粉末.催化剂和载体.表面系数的测定
  • GOST 4.457-1986 化学和电化学表面加工和镀层生产线.指标项目
  • GOST 19905-1974 经表面化学热处理的金属制品硬化.一般要求内容

CZ-CSN，关于表面 光 化学 催化的标准

行业标准-化工，关于表面 光 化学 催化的标准

  • HG/T 6150-2023 润滑油加氢异构催化剂化学成分分析方法 X射线荧光光谱法

未注明发布机构，关于表面 光 化学 催化的标准

美国国防部标准化文件（含MIL标准），关于表面 光 化学 催化的标准

美国国防后勤局，关于表面 光 化学 催化的标准

行业标准-兵工民品，关于表面 光 化学 催化的标准

  • WJ 2607-2003 兵器产品表面化学处理与电化学氧化处理膜层通用规范

API - American Petroleum Institute，关于表面 光 化学 催化的标准

IT-UNI，关于表面 光 化学 催化的标准

  • UNI 5861-1966 表面化学和电化处理．铜及其合金和锌合金表面的金电解外壳
  • UNI 4235-1970 化学和电化表面处理．锌合金上的铜；镍；铬电解层
  • UNI 5084-1962 化学和电化表面处理．铜及其合金上的银电化层重量测定
  • UNI 5701-1965 化学和电化表面处理．含铁材料上的锡电解覆盖层
  • UNI 4525-1970 化学和电化表面处理．铜及其合金上的镍．铬电解层
  • UNI 5344-1964 化学和电化表面处理．硬铬电解沉淀物的附着力测定

美国通用公司（大宇），关于表面 光 化学 催化的标准

行业标准-医药，关于表面 光 化学 催化的标准

  • YY/T 1248-2014 乙型肝炎病毒表面抗体测定试剂(盒)(化学发光免疫分析法)
  • YY/T 1247-2014 乙型肝炎病毒表面抗原测定试剂(盒)(化学发光免疫分析法)

云南省地方标准，关于表面 光 化学 催化的标准

  • DB53/T 666-2015 石油化工废催化剂不溶渣化学分析方法 铂、钯量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
  • DB53/T 665-2015 精细化工废催化剂不溶渣化学分析方法 铂、钯、铑量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法

德国机械工程师协会，关于表面 光 化学 催化的标准

新疆维吾尔自治区标准，关于表面 光 化学 催化的标准

表面 光 化学 催化。

 

可能用到的仪器设备

 

容量法比表面积测试仪V-Sorb 2800S国仪量子 适用于光催化脱硫，光催化降解

容量法比表面积测试仪V-Sorb 2800S国仪量子 适用于光催化脱硫，光催化降解

北京国仪精测技术有限公司

 

HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪

HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪

HORIBA科学仪器事业部

 

堀场HORIBA GDSHORIBA 射频辉光放电光谱仪 GD-Profiler 系列射频辉光放电光谱仪 - 中文

堀场HORIBA GDSHORIBA 射频辉光放电光谱仪 GD-Profiler 系列射频辉光放电光谱仪 - 中文

HORIBA科学仪器事业部

 

HORIBA 射频辉光放电光谱仪GD Profiler 2堀场HORIBA 应用于纳米材料

HORIBA 射频辉光放电光谱仪GD Profiler 2堀场HORIBA 应用于纳米材料

HORIBA科学仪器事业部

 

HORIBA 射频辉光放电光谱仪堀场HORIBA GDS 应用于细胞生物学

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