俄歇电子 二次电子
本专题涉及俄歇电子 二次电子的标准有138条。
国际标准分类中，俄歇电子 二次电子涉及到分析化学、电学、磁学、电和磁的测量、光学设备、光学和光学测量、长度和角度测量、无损检测、电子元器件综合、金属材料试验。
在中国标准分类中，俄歇电子 二次电子涉及到基础标准与通用方法、综合测试系统、电子光学与其他物理光学仪器、质谱仪、液谱仪、能谱仪及其联用装置、化学、化学助剂基础标准与通用方法、光学计量仪器、光学测试仪器、物性分析仪器、标准化、质量管理、金属化学分析方法综合。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于俄歇电子 二次电子的标准
- GB/T 29732-2021 表面化学分析 中等分辨俄歇电子能谱仪 元素分析用能量标校准
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
- GB/T 36504-2018 印刷线路板表面污染物分析 俄歇电子能谱
- GB/T 36533-2018 硅酸盐中微颗粒铁的化学态测定 俄歇电子能谱法
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于俄歇电子 二次电子的标准
- GB/T 35158-2017 俄歇电子能谱仪检定方法
- GB/T 32998-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱 荷电控制与校正方法报告的规范要求
- GB/T 32565-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱（AES）数据记录与报告的规范要求
国家质检总局，关于俄歇电子 二次电子的标准
- GB/T 31470-2015 俄歇电子能谱与X射线光电子能谱测试中确定检测信号对应样品区域的通则
- GB/T 30702-2014 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 实验测定的相对灵敏度因子在均匀材料定量分析中的使用指南
- GB/T 29732-2013 表面化学分析 中等分辨率俄歇电子谱仪 元素分析用能量标校准
- GB/T 29731-2013 表面化学分析 高分辨俄歇电子能谱仪 元素和化学态分析用能量标校准
- GB/T 29558-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱 强度标的重复性和一致性
- GB/T 29556-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测定
- GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
- GB/T 28632-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定
- GB/T 26533-2011 俄歇电子能谱分析方法通则
- GB/T 25187-2010 表面化学分析.俄歇电子能谱.选择仪器性能参数的表述
- GB/T 21006-2007 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标的线性
- GB/Z 32494-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱 化学信息的解析
国际标准化组织，关于俄歇电子 二次电子的标准
- ISO 17109-2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- ISO 20903-2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- ISO 15471-2016 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- ISO/TR 18394:2016 表面化学分析.俄歇电子光谱.化学信息的推导
- ISO/TR 18394-2016 表面化学分析. 俄歇电子能谱学. 提取化学信息
- ISO/TR 18394-2016 表面化学分析. 俄歇电子能谱学. 提取化学信息
- ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- ISO 17109:2015 表面化学分析 - 深度分析 - X射线光电子能谱法中的溅射速率测定方法 俄歇电子能谱和二次离子质谱法使用单层和多层薄膜的溅射深度分析
- ISO 18118:2015 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.均匀材料定量分析用实验测定相对灵敏度因子的使用指南
- ISO 18118-2015 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- ISO 16242-2011 表面化学分析.俄歇电子能谱术(AES)的记录和报告数据
- ISO 16242:2011 表面化学分析——俄歇电子能谱（AES）中数据的记录和报告
- ISO 20903-2011 表面化学分析.俄歇电子能普和X射线光电子光谱.通报结果所需峰值强度和信息的测定方法
- ISO 20903:2011 表面化学分析——俄歇电子能谱和X射线光电子能谱——报告结果时用于确定峰值强度和所需信息的方法
- ISO 29081:2010 表面化学分析——俄歇电子能谱；报告用于充电控制和充电校正的方法
- ISO 29081-2010 表面化学分析.俄歇电子能谱法.电荷控制和电荷调整用报告法
- ISO 18516-2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- ISO 18516:2006 表面化学分析——俄歇电子能谱和X射线光电子能谱——横向分辨率的测定
- ISO/TR 18394-2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法.化学信息的推导
- ISO 20903:2006 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.报告结果时确定峰值强度和所需信息的方法
- ISO 24236:2005 表面化学分析——俄歇电子能谱；强度标度的重复性和恒常性
- ISO 21270:2004 表面化学分析——X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪——强度标度线性
- ISO 21270-2004 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- ISO 18118-2004 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- ISO 15471-2004 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- ISO/TR 19319-2003 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
- ISO/TR 19319:2003 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.用分析仪观察横向分辨率 分析面积和样品面积的测定
- ISO 17974:2002 表面化学分析——高分辨率俄歇电子能谱仪——元素和化学状态分析用能量标度的校准
美国材料与试验协会，关于俄歇电子 二次电子的标准
- ASTM E984-12(2020) 识别俄歇电子能谱中化学效应和基质效应的标准指南
- ASTM E1217-11(2019) 用于确定在俄歇电子能谱仪和一些X射线光电子能谱仪中检测到的信号的样品区域的标准实践
- ASTM E996-19 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E983-19 俄歇电子光谱法中最小化不需要的电子束效应的标准指南
- ASTM E996-10(2018) 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E983-10(2018) 俄歇电子光谱法中最小化不需要的电子束效应的标准指南
- ASTM E995-16 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
- ASTM E1127-08(2015) 俄歇电子能谱深度剖面标准指南
- ASTM E984-12 识别俄歇电子能谱中化学效应和基质效应的标准指南
- ASTM E984-2012 用俄歇电子能谱法鉴别化学效应和基体效应的标准指南
- ASTM E1217-11 用于确定在俄歇电子能谱仪和一些X射线光电子能谱仪中检测到的信号的样品区域的标准实践
- ASTM E995-11 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
- ASTM E1217-2011 用X射线光电子光谱仪和俄歇电子光谱仪测定影响检测信号样品面积的标准操作规程
- ASTM E995-2011 在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中应用背景消除技术的标准指南
- ASTM E983-10 俄歇电子光谱法中最小化不需要的电子束效应的标准指南
- ASTM E996-10 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E983-2010 在俄歇电子谱法中测定化学效应和基质效应的标准指南
- ASTM E996-2010 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
- ASTM E1127-08 俄歇电子能谱深度剖面标准指南
- ASTM E1127-2008 俄歇电子能谱学中的深度压形的标准指南
- ASTM E827-07 用俄歇电子光谱法中的峰识别元素的标准实施规程
- ASTM E827-2007 用俄歇电子光谱仪的峰值识别元素的标准实施规程
- ASTM E984-06 识别俄歇电子能谱中化学效应和基质效应的标准指南
- ASTM E984-2006 用俄歇电子能谱法鉴别化学效应和基体效应用标准指南
- ASTM E1217-05 用于确定在俄歇电子能谱仪和一些X射线光电子能谱仪中检测到的信号的样品区域的标准实践
- ASTM E983-05 俄歇电子光谱法中最小化不需要的电子束效应的标准指南
- ASTM E983-2005 俄歇电子光谱仪中干扰电子束效应最小化的标准指南
- ASTM E1217-2005 用X射线光电子光谱仪和俄歇电子光谱仪测定影响检测信号的样品面积的标准实施规范
- ASTM E996-04 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E995-04 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
- ASTM E996-2004 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
- ASTM E1127-03 俄歇电子能谱深度剖面标准指南
- ASTM E827-02 用俄歇电子光谱中的峰识别元素的标准实施规程
- ASTM E827-95 用俄歇电子光谱中的峰识别元素的标准实施规程
- ASTM E984-95 识别俄歇电子能谱中化学效应和基质效应的标准指南
- ASTM E984-95(2001) 识别俄歇电子能谱中化学效应和基质效应的标准指南
- ASTM E1217-00 用于确定在俄歇电子能谱仪和一些X射线光电子能谱仪中检测到的信号的样品区域的标准实践
- ASTM E1217-2000 用X射线光电子光谱仪和俄歇电子光谱仪测定影响检测信号的样品面积的标准实施规范
- ASTM E983-94(1999) 俄歇电子光谱法中最小化不需要的电子束效应的标准指南
- ASTM E996-94(1999) 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
- ASTM E1127-91(1997) 俄歇电子能谱深度剖面标准指南
- ASTM E995-97 俄歇电子和X射线光电子能谱中背景差减技术的标准指南
- ASTM E996-1994(1999) 俄歇电子能谱分析和X射线光电子光谱分析数据报告的标准规程
英国标准学会，关于俄歇电子 二次电子的标准
- BS ISO 15471-2016 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- BS ISO 15471-2016 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- BS PD ISO/TR 18394-2016 表面化学分析.俄歇电子光谱法.化学信息的推导
- BS PD ISO/TR 18394-2016 表面化学分析.俄歇电子光谱法.化学信息的推导
- BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 18118-2015 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性系数的使用指南
- BS ISO 16242-2011 表面化学分析.俄歇电子能谱术的记录和报告数据(AEC)
- BS ISO 16242-2011 表面化学分析.俄歇电子能谱术的记录和报告数据(AEC)
- BS ISO 20903-2011 表面化学分析.俄歇电子能谱和X-射线光电光谱学.测定峰强度的方法和报告结果要求的信息
- BS ISO 20903-2011 表面化学分析.俄歇电子能谱和X-射线光电光谱学.测定峰强度的方法和报告结果要求的信息
- BS ISO 29081-2010 表面化学分析.俄歇电子能谱法.电荷控制和电荷调整用报告法
- BS ISO 18516-2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.横向分辨率测定
- BS ISO 24236-2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法.强度标的可重复性和一致性
- BS ISO 21270-2005 表面化学分析.X射线光电子和俄歇电子光谱仪.强度标的线性度
- BS ISO 18118-2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性系数的使用指南
- BS ISO 15471-2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
，关于俄歇电子 二次电子的标准
- KS D ISO 17973-2011(2016) 表面化学分析中分辨率俄歇电子能谱仪元素分析用能标的校准
- KS D ISO 17974-2011(2021) 表面化学分析——高分辨率俄歇电子光谱仪——元素和化学状态分析用能标的校准
- KS D ISO 17974-2011(2016) 表面化学分析高分辨率俄歇电子能谱仪元素和化学状态分析用能标的校准
- KS D ISO 17973-2011(2021) 表面化学分析——中分辨率俄歇电子光谱仪——元素分析用能标的校准
- KS D ISO 18118-2005(2020) 表面化学分析俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析用实验测定的相对灵敏度因子的使用指南
- KS D ISO 15471-2005(2020) 表面化学分析－俄歇电子能谱学－选定仪器性能参数的描述
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化学分析－俄歇电子能谱和X射线光电子能谱－分析仪横向分辨率、分析面积和样品面积的测定
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪强度标度的线性
法国标准化协会，关于俄歇电子 二次电子的标准
- NF X21-072-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱术(AES)的记录和报告数据
- NF X21-068-2010 表面化学分析.俄歇电子光谱法.电荷控制和校正用方法的报告
- NF X21-067-2009 表面化学分析.高分辨率俄歇(Auger)电子分光计.元素及化学物质状态分析用能量标度的校准
- NF X21-059-2006 表面化学分析.俄歇电子光谱法.强度等级的重复性和持久性
- NF X21-058-2006 表面化学分析.俄歇电子能谱学和X射线光电子光谱法.测定峰强度使用的方法和报告结果时需要的信息
日本工业标准调查会，关于俄歇电子 二次电子的标准
- JIS K0167-2011 表面化学分析.俄歇电子光谱和X射线光电子能谱学.匀质材料定量分析用实验室测定相对敏感因子的使用指南
- JIS K0161-2010 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
韩国标准，关于俄歇电子 二次电子的标准
- KS D ISO 19319-2005 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
- KS D ISO 18118-2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
- KS D ISO 21270-2005 表面化学分析.X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- KS D ISO 15471-2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- KS D ISO 15471-2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法.选定的仪器性能参数的描述
- KS D ISO 21270-2005 表面化学分析.X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
- KS D ISO 19319-2005 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
- KS D ISO 18118-2005 表面化学分析.俄歇电子光谱法和X射线光电子光谱法.同质材料定量分析用实验室测定相对敏感性因子的使用指南
行业标准-电子，关于俄歇电子 二次电子的标准
- SJ/T 10458-1993 俄歇电子能谱术和X射线光电子能谱术的样品处理标准导则
- SJ/T 10457-1993 俄歇电子能谱术深度剖析标准导则
行业标准-机械，关于俄歇电子 二次电子的标准
- JB/T 6976-1993 俄歇电子能谱术元素鉴定方法
澳大利亚标准协会，关于俄歇电子 二次电子的标准
- AS ISO 18118-2006 表面化学分析．俄歇电子能谱法和X射线光电子光谱法．均质材料定量分析中实验测定的相对灵敏系数使用指南
- AS ISO 17974-2006 表面化学分析．高分辨率俄歇电子分光计法．元素及化学物质状态分析用能量标度校准
- AS ISO 17974-2006 表面化学分析．高分辨率俄歇电子分光计法．元素及化学物质状态分析用能量标度校准
