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物理气相沉积三个基本要素是什么

2023.2.22

1、镀料的气化。即使镀料蒸发,升华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。
2、镀料原子、分子或离子的迁移。由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。
3、镀料原子、分子或离子在基体上沉积。物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

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