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硅片表面峰

本专题涉及硅片表面峰的标准有283条。

国际标准分类中，硅片表面峰涉及到半导体材料、有色金属、金属材料试验、绝缘流体、分析化学、钢铁产品、频率控制和选择用压电器件与介质器件、音频、视频和视听工程、词汇、长度和角度测量、太阳能工程、建筑物的防护、橡胶和塑料工业的生产工艺、摄影技术、航空航天制造用材料、医疗设备、建筑物中的设施、电工器件、集成电路、微电子学、电工和电子试验、与食品接触的物品与材料、航空航天用电气设备和系统、化工产品、石蜡、沥青材料和其他石油产品、道路工程、涂料配料、电阻器、玻璃、食品综合、厨房设备、桥梁建筑、道路车辆装置、滤波器、绝缘材料、粒度分析、筛分、无机化学、电影、建筑材料、磁性材料、塑料、消毒和灭菌、橡胶和塑料用原料、表面处理和镀涂、涂料涂覆工艺、机上设备和仪器。

在中国标准分类中，硅片表面峰涉及到、半金属、半金属与半导体材料综合、金属物理性能试验方法、金相检验方法、化合物半导体材料、基础标准与通用方法、钢板、钢带、元素半导体材料、化学、半金属及半导体材料分析方法、微电路综合、音响、电声设备、太阳能、屋面、铺面防水与防潮材料、感光材料基础标准与通用方法、航空与航天用金属铸锻材料、其他日用品、电气照明综合、无机化工原料、标志、包装、运输、贮存、电子元器件、公路工程、电阻器、重金属及其合金、电容器、牙膏、肥皂、洗涤剂、表面活性剂基础标准与通用方法、一般有机化工原料、计算机设备、石英晶体、压电元件、发动机零部件、电工绝缘材料及其制品、氧化物、单质、合成树脂、塑料基础标准与通用方法、炭黑、材料防护、颜料基础标准与通用方法、航空仪表。


中国有色金属工业总公司，关于硅片表面峰的标准

国家质检总局，关于硅片表面峰的标准

  • GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
  • GB/T 6621-2009 硅片表面平整度测试方法
  • GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法
  • GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法
  • GB/T 6621-1995 硅抛光片表面平整度测试方法
  • GB/T 6624-1995 硅抛光片表面质量目测检验方法
  • GB/T 6624-2009 硅抛光片表面质量目测检验方法
  • GB/T 17169-1997 硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法
  • GB/T 42902-2023 碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法
  • GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
  • GB/T 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物
  • GB/T 30860-2014 太阳能电池用硅片表面粗糙度及切割线痕测试方法
  • GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
  • GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
  • GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
  • GB/T 43313-2023 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
  • GB/T 2523-2008 冷轧金属薄板(带)表面粗糙度和峰值数的测量方法
  • GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
  • GB 10810.5-2012 眼镜镜片.第5部分: 镜片表面耐磨要求
  • GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
  • GB/T 13388-1992 硅片参考面结晶学取向X射线测量方法
  • GB/T 31225-2014 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法
  • GB/T 2523-2022 冷轧金属薄板和薄带表面粗糙度、峰值数和波纹度测量方法
  • GB/T 13387-2009 硅及其他电子材料晶片参考面长度测量方法
  • GB/T 30118-2013 声表面波（SAW）器件用单晶晶片规范与测量方法
  • GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
  • GB/T 24579-2009 酸浸取.原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物
  • GB/T 23656-2009 橡胶配合剂.沉淀水合二氧化硅比表面积的测定.CTAB法

韩国科技标准局，关于硅片表面峰的标准

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于硅片表面峰的标准

  • GB/T 19921-2018 硅抛光片表面颗粒测试方法
  • GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
  • GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
  • GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • GB/T 41073-2021 表面化学分析 电子能谱 X射线光电子能谱峰拟合报告的基本要求
  • GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法

中国团体标准，关于硅片表面峰的标准

行业标准-电子，关于硅片表面峰的标准

  • SJ/T 11504-2015 碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法
  • SJ/T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法
  • SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法

KR-KS，关于硅片表面峰的标准

日本工业标准调查会，关于硅片表面峰的标准

  • JIS H 0614:1996 镜面硅片的目视检查
  • JIS K 0148:2005 表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物
  • JIS K 0160:2009 表面化学分析 从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
  • JIS K 0164:2023 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
  • JIS T 7336:2011 眼科光学.未切边成品眼镜片.声明耐磨眼镜片表面的最低要求
  • JIS C 6760:2014 表面声波 (SAW) 器件用单晶晶片. 规范和测量方法

美国机动车工程师协会，关于硅片表面峰的标准

AGMA - American Gear Manufacturers Association，关于硅片表面峰的标准

美国材料与试验协会，关于硅片表面峰的标准

  • ASTM F1810-97 择优统计硅片侵蚀或表面缺陷的标准试验方法
  • ASTM F523-93(1997) 抛光硅片表面的无辅助目视检查的标准实施规程
  • ASTM F672-88(1995)e1 用分布电阻探头测量硅晶片垂直于表面的纵断面电阻率的标准试验方法
  • ASTM F154-00 镜面硅表面存在的结构和污染物识别的标准指南
  • ASTM F950-98 用角抛光和疵点侵蚀加工法测量机械加工硅片表面晶体损坏深度的试验方法
  • ASTM D6845-02(2008) 沉淀的水合硅石的标准试验方法-CTAB表面积
  • ASTM F1239-94 通过测量晶隙氧还原表征硅片氧沉淀的标准试验方法
  • ASTM E1337-90 使用标准参考试验轮胎测定铺砌表面纵向峰值制动系数的标准试验方法
  • ASTM D5604-96(2006) 沉淀二氧化硅的标准试验方法.用单点B.E.T.氮的吸附法沉淀的硅表面积
  • ASTM D5604-96(2001) 沉淀二氧化硅的标准试验方法.用单点B.E.T.氮的吸附法沉淀的硅表面积
  • ASTM D5604-96 沉淀二氧化硅的标准试验方法.用单点B.E.T.氮的吸附法沉淀的硅表面积
  • ASTM D5604-96(2017) 沉淀二氧化硅的标准试验方法.用单点B.E.T.氮的吸附法沉淀的硅表面积
  • ASTM D1993-03(2013)e1 采用多点BET氮吸收法测定析出的硅表面面积的标准试验方法
  • ASTM E1337-90(2018) 使用标准参考试验轮胎确定铺设表面的纵向峰值制动系数的标准测试方法
  • ASTM A717/A717M-12 单片样品表面绝缘电阻率的标准试验方法
  • ASTM D1993-03(2008) 用多点布-埃-特氮气吸附法对沉积二氧化硅表面面积的测试方法
  • ASTM F847-94(1999) 单晶硅片参考面结晶学取向X射线测量的标准试验方法
  • ASTM E2685-15(2019) 光伏组件表面切割试验用钢叶片的标准规范
  • ASTM D1044-13 透明塑料软片表面耐摩擦性的标准试验方法
  • ASTM D1044-08e1 透明塑料软片表面耐摩擦性的标准试验方法
  • ASTM D1044-05 透明塑料软片表面耐摩擦性的标准试验方法
  • ASTM D1993-03 用多点布-埃-特氮气吸附法对沉积二氧化硅表面面积的标准测试方法
  • ASTM D1993-03(2013) 用多点布-埃-特氮气吸附法对沉积二氧化硅表面面积的标准试验方法

美国国防后勤局，关于硅片表面峰的标准

国际标准化组织，关于硅片表面峰的标准

  • ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 14706:2014 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
  • ISO 17331:2004/Amd 1:2010 表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1
  • ISO 4287:1997/Amd 1:2009 产品几何量技术规范(GPS).表面结构:轮廓法.表面结构的术语、定义和参数.修改件1:峰计数
  • ISO 17560:2014 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
  • ISO 19830:2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
  • ISO 23157:2021 气相法二氧化硅表面硅烷醇基团含量的测定反应气相色谱法
  • ISO 8215:1985 表面活性剂 洗衣粉 总二氧化硅含量的测定 重量法
  • ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量

SCC，关于硅片表面峰的标准

  • DIN V VDE V 0126-18-1:2006 太阳能硅片 第1部分：晶体硅太阳能硅片的数据表信息和项目数据
  • BS ISO 17331:2004 表面化学分析 从硅晶片工作标准材料表面收集元素的化学方法及其通过全反射 X 射线荧光 (TXRF) 光谱法测定
  • DANSK DS/ISO 23157:2022 气相二氧化硅表面硅醇基含量的测定反应气相色谱法
  • BS PD IEC TR 61760-5-1:2024 表面贴装技术 电路板表面应变 应变计测量应用于芯片元件
  • DANSK DS/EN 1388-2:1996 与食品接触的材料和制品 硅酸盐表面 第2部分：陶瓷器皿以外的硅酸盐表面铅和镉释放量的测定
  • NS-EN 1388-2:1995 与食品接触的材料和制品 硅酸盐表面 第2部分：陶瓷器皿以外的硅酸盐表面铅和镉释放量的测定
  • NS-EN ISO 23157:2022 气相二氧化硅表面硅醇基含量的测定反应气相色谱法（ISO 23157:2021）
  • 08/30176109 DC BS EN 50513 太阳能晶片 太阳能电池制造用晶体硅晶片的数据表和产品信息
  • BS PD IEC/PAS 62276:2002 声表面波器件用单晶片规格和测量方法
  • DANSK DS/ISO 7629:1987 道路车辆 刹车片 盘式刹车片 测试后表面和材料缺陷的评估
  • DIN EN ISO 23157 E:2022 气相二氧化硅表面硅烷醇基团含量的测定 反应气相色谱法 (ISO 23157:2021) 草案

IN-BIS，关于硅片表面峰的标准

英国标准学会，关于硅片表面峰的标准

  • BS ISO 14706:2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
  • BS ISO 14706:2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
  • BS ISO 14706:2001 表面化学分析 采用全反射X射线荧光（TXRF）光谱法对硅片表面元素污染物的测定
  • BS ISO 17331:2004+A1:2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
  • BS EN 1388-2:1996 与食品接触的材料和物品.硅化表面.第2部分:陶瓷品除外的测定从硅化表面释放的铅和镉
  • BS EN 50513:2009 太阳能晶片.太阳能电池制造晶体硅晶片的数据表和产品信息
  • BS EN ISO 23157:2022 气相二氧化硅表面硅烷醇基含量的测定 反应气相色谱法
  • BS EN ISO 23157:2022(2023) 气相二氧化硅表面硅烷醇基含量的测定 反应气相色谱法
  • BS EN 1388-2:1996(2004) 与食品接触的材料和制品 - 硅酸盐表面 - 第2部分：陶瓷器皿以外的硅酸盐表面铅和镉释放量的测定
  • BS ISO 19830:2015 表面化学分析. 电子能谱. X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
  • BS ISO 23157:2021 气相法二氧化硅表面硅烷醇基团含量的测定 反应气相色谱法
  • 21/30429402 DC BS ISO 23157 气相二氧化硅表面硅烷醇基含量的测定 反应气相色谱法
  • BS EN 62276:2013 表面声波(SAW)装置用单晶薄片.规格和测量方法
  • BS EN 62276:2005 表面声波(SAW)装置用单晶薄片.规范和测量方法
  • BS EN 62276:2006 表面声波（SAW）装置用单晶薄片 规格和测量方法
  • BS EN 62276:2016 表面声波(SAW)装置用单晶薄片.规格和测量方法
  • PD IEC TR 61760-5-1:2024 表面安装技术第5-1部分：电路板上的表面应变 应用于片式元件的应变计测量
  • BS ISO 14701:2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度的测量

国际电工委员会，关于硅片表面峰的标准

  • IEC 62276:2016 用于表面声波（锯）的单晶硅片器件应用 - 规格和测量方法
  • IEC 62276:2005 表面声波装置用单晶薄片.规范和测量方法
  • IEC 62276:2012 表面声波(SAW)装置用单晶薄片.规格和测量方法

CH-SNV，关于硅片表面峰的标准

HU-MSZT，关于硅片表面峰的标准

GSO，关于硅片表面峰的标准

  • GSO ISO 14706:2013 表面化学分析 通过全反射 X 射线闪烁 (TXRF) 光谱对硅晶片上元素的表面污染进行定量
  • GSO ISO 17331:2013 表面化学分析 从硅片表面收集元素以制作参考材料并通过全反射 X 射线闪烁 (TXRF) 光谱进行设计的化学方法
  • GSO ISO 19830:2016 表面化学分析 电子能谱 X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
  • BH GSO ISO 19830:2017 表面化学分析 电子能谱 X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求
  • GSO ISO 6315:2007 道路车辆 制动衬片 表面磨损测试程序
  • GSO ISO 7629:2007 道路车辆 刹车片 盘式刹车片 测试后表面和材料的评估
  • OS GSO ISO 7629:2007 道路车辆 刹车片 盘式刹车片 测试后表面和材料缺陷的评估
  • GSO ISO 14701:2013 表面化学分析 X射线光电子能谱 氧化硅厚度测量
  • OS GSO ISO 8215:2008 表面活性剂洗衣粉总二氧化硅含量的测定重量法
  • BH GSO ISO 17560:2016 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
  • GSO ISO 8215:2008 表面活性物质洗衣粉总二氧化硅含量的测定称重法
  • GSO ISO 8980-5:2014 眼科光学 预切眼镜镜片 第5部分：耐磨眼镜镜片表面的基本要求

丹麦标准化协会，关于硅片表面峰的标准

  • DS/EN ISO 4287/A1:2009 几何产品规范（GPS） 表面纹理：剖面法 术语、定义和表面纹理参数 修正案 1：峰值计数
  • DS/EN 1388-2:1996 与食品接触的材料和制品 硅酸盐表面 第2部分：除陶瓷器外的硅酸盐表面铅和镉释放量的测定
  • DS/EN 50513:2009 太阳能晶片 用于太阳能电池制造的晶体硅晶片的数据表和产品信息
  • DS/EN 10342:2005 磁性材料 电工钢板、钢带和叠片表面绝缘分类

德国标准化学会，关于硅片表面峰的标准

  • DIN EN 50513:2009 太阳能硅片.太阳能电池制造用水晶硅片的数据表和产品信息
  • DIN EN ISO 23157:2022-12 气相二氧化硅表面硅烷醇基含量的测定 反应气相色谱法
  • DIN EN 1388-2:1995-11 与食品接触的材料和制品 - 硅酸盐表面 - 第 2 部分：陶瓷器皿以外的硅酸盐表面铅和镉释放量的测定
  • DIN EN ISO 23157:2022 气相二氧化硅表面硅烷醇基含量的测定 反应气相色谱法（ISO 23157:2021）
  • DIN EN 1388-2:1995 与食品接触的材料和物品.硅化表面.第2部分:除陶瓷制品外测定从硅化表面释放的铅和镉; 德文版本 EN 1388-2:1995

行业标准-建材，关于硅片表面峰的标准

行业标准-化工，关于硅片表面峰的标准

法国标准化协会，关于硅片表面峰的标准

  • NF EN 50513:2009 太阳能硅片 – 用于太阳能电池制造的晶体硅片的数据表和产品信息
  • NF EN 62276:2018 用于使用表面声波(OAS)设备的应用的单晶硅片 规格和测量方法
  • NF E05-015/A1:2009 几何产品规范(GPS).表面结构:轮廓法.表面结构的术语,定义及参数.修改件1:峰值计数数字
  • NF D25-501-2*NF EN 1388-2:1996 接触食品的材料和物品 硅化表面 第2部分：除陶瓷品外测定从硅化表面释放的铅和镉
  • NF EN 1388-2:1996 与食品接触的材料和制品 硅酸盐表面 第2部分：陶瓷制品以外硅酸盐表面铅和镉排放量的测定
  • NF T73-706*NF ISO 8215:1986 表面活性剂.洗衣粉,硅土总含量测定,重量法
  • NF EN ISO 23157:2022 气相二氧化硅表面硅烷醇基含量的测定 反应气体气相色谱分析法
  • NF C93-616:2006 表面声波装置用单晶片.规范和测量方法
  • NF T73-052:1969 表面活性剂.科学分类.穿孔卡片参考分类
  • NF C93-616:2013 表面声波 (SAW) 器件用单晶晶片 - 规范和测量方法
  • NF T35-503-4*NF EN ISO 8503-4:2012 涂料和有关产品使用前钢基片的制备.喷丸处理钢基片的表面粗糙度特性.第4部分:ISO 表剖面比较仪的校准方法和表剖面的测定方法.触针仪器的程序
  • NF T35-503-4:1995 涂料和有关产品使用前钢基片的制备.喷丸处理钢基片的表面粗糙度特性.第4部分:ISO 表剖面比较仪的校准方法和表剖面的测定方法.触针仪器的程序

美国保护涂层协会，关于硅片表面峰的标准

SSPC - The Society for Protective Coatings，关于硅片表面峰的标准

  • PA 17-2012 确定符合钢型材/表面粗糙度/峰值计数要求的程序
  • GUIDE 7-1995 铅污染表面处理碎片处置指南
  • GUIDE 7-2004 铅污染表面处理碎片处置指南
  • GUIDE 7-2015 铅污染表面处理碎片的处置指南

台湾地方标准，关于硅片表面峰的标准

RO-ASRO，关于硅片表面峰的标准

立陶宛标准局，关于硅片表面峰的标准

  • LST EN ISO 4287:2007/A1:2009 几何产品规范（GPS） 表面纹理：剖面法 术语、定义和表面纹理参数 修正案 1：峰值计数（ISO 4287:1997/Amd 1:2009）
  • LST EN 1388-2-2000 与食品接触的材料和制品 硅酸盐表面 第2部分：除陶瓷器外的硅酸盐表面铅和镉释放量的测定
  • LST EN 50513-2009 太阳能晶片 用于太阳能电池制造的晶体硅晶片的数据表和产品信息
  • LST EN 10342-2005 磁性材料 电工钢板、钢带和叠片表面绝缘分类

AENOR，关于硅片表面峰的标准

  • UNE-EN ISO 4287:1999/A1:2010 几何产品规范（GPS） 表面纹理：剖面法 术语、定义和表面纹理参数 修正案 1：峰值计数（ISO 4287:1997/Amd 1:2009）
  • UNE-EN 50513:2011 太阳能晶片 用于太阳能电池制造的晶体硅晶片的数据表和产品信息
  • UNE 55837:1987 表面活性剂 洗衣粉 总二氧化硅含量的测定 重量法
  • UNE 55625:1982 表面活性剂 硅酸钠和硅酸钾用作洗涤剂配方中的原材料 二氧化硅含量的测定 不溶解重量法
  • UNE-EN 10342:2007 磁性材料 电工钢板、钢带和叠片表面绝缘分类

美国国家标准学会，关于硅片表面峰的标准

美国通用公司（北美），关于硅片表面峰的标准

IPC - Association Connecting Electronics Industries，关于硅片表面峰的标准

未注明发布机构，关于硅片表面峰的标准

行业标准-海关，关于硅片表面峰的标准

  • HS/T 4-2006 有机表面处理二氧化硅的鉴定方法

海关总署，关于硅片表面峰的标准

美国通用公司（欧洲），关于硅片表面峰的标准

  • GME17009-2013 孔隙率和表面不连续性 Forks Shift / Transmission M1x Porositαn und Oberflα峰en-Fehlstellen Schaltgabeln / Getriebe M1x Issue 1

ESDU - Engineering Sciences Data Unit，关于硅片表面峰的标准

  • TD MEMO 6511 A-1969 一种估计音速流中翼型截面表面上的波峰和后缘之间的压力分布的方法

ES-AENOR，关于硅片表面峰的标准

行业标准-交通，关于硅片表面峰的标准

ES-UNE，关于硅片表面峰的标准

  • UNE-EN ISO 23157:2023 气相二氧化硅表面硅烷醇基含量的测定 反应气相色谱法
  • UNE-EN 1388-2:1995 与食品接触的材料和制品 硅酸盐表面 第2部分：陶瓷器皿以外的硅酸盐表面铅和镉释放量的测定

美国电子元器件、组件及材料协会，关于硅片表面峰的标准

US-FCR，关于硅片表面峰的标准

ASHRAE - American Society of Heating@ Refrigerating and Air-Conditioning Engineers@ Inc.，关于硅片表面峰的标准

欧洲标准化委员会，关于硅片表面峰的标准

  • EN 1388-2:1995 与食品接触的材料和物品.硅酸盐表面.第2部分:陶瓷品之外的硅酸盐表面铅和镉溶出量的测定
  • EN ISO 23157:2022 气相法二氧化硅表面硅烷醇基团含量的测定反应气相色谱法

ECIA - Electronic Components Industry Association，关于硅片表面峰的标准

  • EIA-944-2013 表面贴装铁氧体片状磁珠鉴定规范
  • EIA-944-2002 表面贴装铁氧体片状磁珠鉴定规范
  • CB-11-1986 多层陶瓷片式电容器的表面贴装 指南

国家军用标准-总装备部，关于硅片表面峰的标准

工业和信息化部，关于硅片表面峰的标准

  • SJ/T 11628-2016 太阳能电池用硅片尺寸及电学表征在线测试方法

澳大利亚标准协会，关于硅片表面峰的标准

  • ISO 7291:2010/Amd.1:2015 表面化学分析 从硅晶片工作参考材料表面收集元素的化学方法及其通过全反射 X 射线荧光（TXRF）光谱测定的方法 修改件1

美国电子元器件、组件及材料协会，关于硅片表面峰的标准

SE-SIS，关于硅片表面峰的标准

CZ-CSN，关于硅片表面峰的标准

  • CSN 70 0527 Cast.1-1986 硅酸盐玻璃．玻璃产品表面提取物的定量分析方法．二氧化硅的测定

(美国)福特汽车标准，关于硅片表面峰的标准

行业标准-航空，关于硅片表面峰的标准

  • HB 5647-1998 叶片叶型的标注、公差与叶身表面粗糙度

BE-NBN，关于硅片表面峰的标准

  • NBN T 63-160-1987 表面活性剂．洗涤粉，含硅总量的测定．重力测定法

ITU-R - International Telecommunication Union/ITU Radiocommunication Sector，关于硅片表面峰的标准

欧洲电工标准化委员会，关于硅片表面峰的标准

  • EN 50513:2009 日光晶圆.太阳能制造用的水晶硅圆片的数据表和产品信息

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于硅片表面峰的标准

  • GB/T 23656-2016 橡胶配合剂 沉淀水合二氧化硅比表面积的测定 CTAB法

ZA-SANS，关于硅片表面峰的标准

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硅片表面峰，硅片表面金属，硅片 峰位，硅片 吸收峰，表面 残留峰，表面 残留峰+，硅片表面金属沾污的全反射x光荧光光谱测试方法，二氧化硅表面的峰，太阳能电池用硅片表面粗糙度及切割线痕测试方法。

 

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