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硒化钴 半金属

本专题涉及硒化钴 半金属的标准有500条。

国际标准分类中,硒化钴 半金属涉及到有色金属、半导体分立器件、陶瓷、表面处理和镀涂、电子元器件综合、金属材料试验、集成电路、微电子学、半导体材料、黑色金属、电工和电子试验、电学、磁学、电和磁的测量、航空航天制造用材料、纺织产品、光纤通信、阀门、金属矿、滤波器、无线通信、粉末冶金。

在中国标准分类中,硒化钴 半金属涉及到半导体分立器件综合、钢铁与铁合金分析方法、、特种陶瓷、敏感元器件及传感器、电工绝缘材料及其制品、贵金属及其合金分析方法、半导体集成电路、半导体三极管、基础标准与通用方法、微电路综合、电子测量与仪器综合、航空与航天用金属铸锻材料、重金属及其合金分析方法、计算机应用、光通信设备、阀门、场效应器件、贵金属矿、稀土金属及其合金、稀有金属及其合金分析方法、催化剂基础标准与通用方法、计算机设备、半导体分立器件、广播、电视发送与接收设备、半金属及半导体材料分析方法。


RU-GOST R,关于硒化钴 半金属的标准

  • GOST 23862.25-1979 稀土金属及其氧化物.钴测定法
  • GOST 23862.11-1979 稀土金属及其氧化物.测定钒、铁、钴、锰、铜和镍的化学光谱法
  • GOST 23862.4-1979 稀土金属及其氧化物.测定钒、铁、钴、硅、锰、铜、镍、钛、铬的光谱法

PL-PKN,关于硒化钴 半金属的标准

CZ-CSN,关于硒化钴 半金属的标准

IT-UNI,关于硒化钴 半金属的标准

  • UNI 4350-1959 金属材料化学分析方法.锡中的钴测定
  • UNI 3672-1955 金属材料化学分析方法.镍中的钴测定.重量法
  • UNI 2877-1945 化学实验室用器具.半球形金属水浴器
  • UNI 2959-1949 金属材料化学分析方法.钢中的钴测定.氧化锌和阿尔法.亚硝的.β.萘酚重量法

美国国防后勤局,关于硒化钴 半金属的标准

国家质检总局,关于硒化钴 半金属的标准

  • GB 8654.6-1988 金属锰化学分析方法 盐酸联氨-碘量法测定硒量
  • GB/T 15652-1995 金属氧化物半导体气敏元件总规范
  • GB/T 15653-1995 金属氧化物半导体气敏元件测试方法
  • GB/T 5121.28-2010 铜及铜合金化学分析方法 第28部分:铬、铁、锰、钴、镍、锌、砷、硒、银、镉、锡、锑、碲、铅、铋量的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • GB/T 20899.15-2023 金矿石化学分析方法 第15部分:铜、铅、锌、银、铁、锰、镍、钴、铝、铬、镉、锑、铋、砷、汞、硒、钡和铍含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • GB/T 12690.5-2017(英文版) 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质的化学分析方法 第5条:钴、锰、铅、镍、铜、锌、铝、铬、镁、镉、钒的测定

中国团体标准,关于硒化钴 半金属的标准

  • T/CECA 35-2019 金属氧化物半导体气体传感器
  • T/CSTM 00761-2021 金属镍 硒和碲含量的测定 氢化物发生-原子荧光光谱法
  • T/CASAS 006-2020 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范
  • T/CASAS 015-2022 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)功率循环试验方法
  • T/CASAS 016-2022 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)结壳热阻瞬态双界面测试方法

法国标准化协会,关于硒化钴 半金属的标准

  • NF C80-204*NF EN 62418:2011 半导体器件 金属化应力空隙试验
  • NF C80-203*NF EN 62417:2010 半导体器件.金属氧化物半导体场效应管(MOSFETs)移动离子试验
  • NF EN 62418:2011 半导体器件 - 测试由金属化应力引起的腔体
  • NF EN 62417:2010 半导体器件 - 金属氧化物半导体场效应晶体管 (MOSFET) 的移动离子测试
  • NF L09-775:1984 用于航空建设的标准化有色金属合金半成品的零件号码编号
  • NF C96-051*NF EN 62373:2006 金属氧化半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本温度稳定性试验
  • NF EN 62373:2006 金属氧化物半导体场效应晶体管 (MOSFET) 的偏置温度稳定性测试
  • NF EN 62374-1:2011 半导体器件 - 第 1 部分:金属间化合物层的瞬态介电击穿 (TDDB) 测试
  • NF EN 27627-5:1993 硬金属 火焰原子吸收光谱法化学分析 第5部分:测定 0.5 至 2% (m/m) 之间的钴、铁、锰、钼、镍、钛和钒
  • NF EN 27627-3:1993 硬金属 火焰原子吸收光谱法化学分析 第3部分:含量在 0.01 至 0.5% (m/m) 之间的钴、铁、锰和镍的测定

行业标准-建材,关于硒化钴 半金属的标准

丹麦标准化协会,关于硒化钴 半金属的标准

  • DS/EN 62418:2010 半导体器件 金属化应力空洞测试
  • DS/EN 62417:2010 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试
  • DS/EN 62373:2006 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试

欧洲电工标准化委员会,关于硒化钴 半金属的标准

  • EN 62418:2010 半导体器件 金属化应力空洞测试
  • EN 62417:2010 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)
  • EN 62373:2006 金属氧化半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本温度稳定性试验 IEC 62373:2006

国际电工委员会,关于硒化钴 半金属的标准

  • IEC 62418:2010 半导体器件.金属化应力空隙试验
  • IEC 62417:2010 半导体器件.金属氧化物半导体场效应管(MOSFETs)移动离子试验
  • IEC 62373:2006 金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的基本温度稳定性试验
  • IEC 60747-8-4:2004 半导体分立器件.第8-4部分:电力开关装置用金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)
  • IEC 63275-1:2022 半导体器件碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管可靠性试验方法第1部分:偏置温度不稳定性试验方法
  • IEC 62373-1:2020 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏压温度稳定性试验.第1部分:MOSFET的快速BTI试验
  • IEC 63275-2:2022 半导体器件.碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性试验方法.第2部分:由体二极管操作引起的双极退化的试验方法

英国标准学会,关于硒化钴 半金属的标准

  • BS EN 62418:2010 半导体器件.金属化应力空隙试验
  • BS EN 62416:2010 半导体器件.金属氧化物半导体(MOS)晶体管的热载流子试验
  • BS IEC 60747-8-4:2004 半导体分立器件.电力开关设备的金属氧化物半导体场效应晶体管
  • BS EN 62373:2006 金属氧化半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本温度稳定性试验
  • BS ISO 17299-5:2014 纺织品 除臭剂性能的测定 金属氧化物半导体传感器方法
  • BS EN 62417:2010 半导体器件 金属氧化物场效应晶体管(MOSFETs)用迁移离子试验
  • BS IEC 62373-1:2020 半导体器件 金属氧化物、半导体、场效应晶体管 (MOSFET) 的偏置温度稳定性测试 MOSFET 的快速 BTI 测试
  • BS IEC 63275-1:2022 半导体器件 碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性测试方法 偏置温度不稳定性测试方法
  • 18/30381548 DC BS EN 62373-1 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试 第1部分.快速BTI测试方法
  • 17/30366375 DC BS IEC 62373-1 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试 第1部分.快速BTI测试方法

德国标准化学会,关于硒化钴 半金属的标准

  • DIN EN 62418:2010-12 半导体器件-金属化应力空洞测试
  • DIN EN 62417:2010-12 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试
  • DIN EN 62373:2007 金属氧化半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本温度稳定性试验
  • DIN EN 62418:2010 半导体器件.金属化应力空隙试验(IEC 62418-2010);德文版本EN 62418-2010
  • DIN EN 62373:2007-01 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试
  • DIN EN 62417:2010 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的移动离子试验(IEC 62417-2010);德文版本EN 62417-2010
  • DIN EN 10351:2011-05 黑色金属材料的化学分析 非合金钢和低合金钢的电感耦合等离子体发射光谱分析 锰、磷、铜、镍、铬、钼、钒、钴、铝的测定

ES-UNE,关于硒化钴 半金属的标准

  • UNE-EN 62418:2010 半导体器件 金属化应力空洞测试
  • UNE-EN 62417:2010 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试
  • UNE-EN 62373:2006 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试
  • UNE-EN 27627-3:1993 硬金属 通过火焰原子吸收光谱法进行化学分析 PATR 3:测定含量从 0.01 到 0.50/0(M/M)的钴、铁、锰和镍

SCC,关于硒化钴 半金属的标准

  • CEI EN 62418:2011 半导体器件 金属化应力空洞测试
  • DANSK DS/EN 62418:2010 半导体器件 金属化应力空洞测试
  • DANSK DS/CEN/TR 10362:2014 黑色金属材料化学分析钢中硒的测定电热原子吸收光谱法
  • SN-CEN/TR 10362:2014 黑色金属材料化学分析 钢中硒的测定 电热原子吸收光谱法
  • CEI EN 62417:2011 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管 (MOSFET) 的移动离子测试
  • DANSK DS/EN 62417:2010 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管 (MOSFET) 的移动离子测试
  • CEI EN 62373:2007 金属氧化物、半导体、场效应晶体管 (MOSFET) 的偏置温度稳定性测试
  • DANSK DS/EN 62373:2006 金属氧化物、半导体、场效应晶体管 (MOSFET) 的偏置温度稳定性测试
  • SPC GB/T 37211.2-2018 金属锗化学分析方法 第2部分:铝、铁、铜、镍、铅、镉、镁、钴、铟、锌含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • NS-EN 27627-3:1993 硬金属 火焰原子吸收光谱法化学分析 第3部分:钴、铁、锰和镍含量 0.01 至 0.5%(m/m)的测定(ISO 7627-3:1983)
  • AENOR UNE-EN 2600:2019 航空航天系列 金属半成品的命名 规则(由西班牙标准化协会于 2019 年 2 月批准 )

GSO,关于硒化钴 半金属的标准

  • BH GSO IEC 62418:2022 半导体器件 金属化应力空洞测试
  • GSO IEC 62418:2021 半导体器件 金属化应力空洞测试
  • GSO IEC 62373:2014 金属氧化物半导体场效应晶体管 (MOSFET) 的温度偏置稳定性测试
  • OS GSO IEC 62373:2014 金属氧化物、半导体、场效应晶体管 (MOSFET) 的偏置温度稳定性测试
  • GSO IEC 63275-1:2024 半导体器件 碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管可靠性测试方法 第1部分:偏置温度不稳定性测试方法

行业标准-电子,关于硒化钴 半金属的标准

  • SJ 20025-1992 金属氧化物半导体气敏元件总规范
  • SJ 20026-1992 金属氧化物半导体气敏元件测试方法
  • SJ 20079-1992 金属氧化物半导体气敏元件.试验方法
  • SJ/T 11824-2022 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)等效电容和电压变化率测试方法

欧洲标准化委员会,关于硒化钴 半金属的标准

  • CEN/TR 10362:2014 黑色金属材料化学分析钢中硒的测定电热原子吸收光谱法
  • PD CEN/TR 10362:2014 黑色金属材料的化学分析.测定钢中含硒.电热原子吸收光谱法
  • EN 27627-3:1993 硬质金属.用火焰原子吸收光谱法进行化学分析.第3部分:钴,铁,锰和镍0.01-0.5%(m/m)的测定(ISO 7627-3-1983)
  • EN 27627-5:1993 硬质金属.用火焰原子吸收光谱法进行化学分析.第5部分:0.5-2%(m/m)含量钴,铁,钼,镍,钛和钒的测定

(美国)军事条例和规范,关于硒化钴 半金属的标准

立陶宛标准局,关于硒化钴 半金属的标准

  • LST EN 62418-2010 半导体器件 金属化应力空洞测试(IEC 62418:2010)
  • LST EN 62417-2010 半导体设备 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试(IEC 62417:2010)
  • LST EN 62373-2006 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试(IEC 62373:2006)

行业标准-有色金属,关于硒化钴 半金属的标准

  • YS/T 561-2009 贵金属合金化学分析方法.铂铑合金中铑量的测定.硝酸六氨合钴重量法

行业标准-农业,关于硒化钴 半金属的标准

IEEE - The Institute of Electrical and Electronics Engineers@ Inc.,关于硒化钴 半金属的标准

  • IEEE 641-1987 金属氮化物氧化物半导体阵列的标准定义和表征

美国电气电子工程师学会,关于硒化钴 半金属的标准

台湾地方标准,关于硒化钴 半金属的标准

  • CNS 8104-1981 金属氧化物半导体场效晶体管线性临界电压测试法
  • CNS 8106-1981 金属氧化物半导体场效晶体管饱和临界电压测试法

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会,关于硒化钴 半金属的标准

  • GB/T 5121.28-2021 铜及铜合金化学分析方法 第28部分:铬、铁、锰、钴、镍、锌、砷、硒、银、镉、锡、锑、碲、铅和铋含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
  • GB/T 37211.2-2018 金属锗化学分析方法 第2部分:铝、铁、铜、镍、铅、钙、镁、钴、铟、锌含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

国际标准化组织,关于硒化钴 半金属的标准

  • ISO 17299-5:2014 纺织品. 除臭性能的测定. 第5部分: 金属氧化物半导体传感器法

工业和信息化部,关于硒化钴 半金属的标准

  • SJ/T 9014.8.2-2018 半导体器件 分立器件第8-2部分:超结金属氧化物半导体场效应晶体管空白详细规范

美国通用公司(北美),关于硒化钴 半金属的标准

  • GM GM6078M-1989 固体膜润滑剂涂层树脂粘合的金属氧化物半导体和聚四氟乙烯

(美国)固态技术协会,隶属EIA,关于硒化钴 半金属的标准

  • JEDEC JEP184-2021 电力电子转换用碳化硅金属氧化物半导体器件偏压温度不稳定性评估指南

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会,关于硒化钴 半金属的标准

  • GB/T 12690.5-2017 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第5部分:钴、锰、铅、镍、铜、锌、铝、铬、镁、镉、钒、铁量的测定

行业标准-化工,关于硒化钴 半金属的标准

  • HG/T 5764~5767-2020 石油炼制催化剂孔结构的测定、催化裂化催化剂中金属元素的测定、负载型松香歧化用催化剂活性试验方法和硫化钴钼用催化剂(2020)

PH-BPS,关于硒化钴 半金属的标准

  • PNS IEC 62373-1:2021 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏压温度稳定性试验.第1部分:MOSFET的快速BTI试验

欧洲电工电子元器件标准,关于硒化钴 半金属的标准

美国材料与试验协会,关于硒化钴 半金属的标准

  • ASTM F616M-96 测量MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)排漏电流的标准测试方法(米制单位)
  • ASTM F616M-96(2003) 测量MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)排漏电流的标准测试方法(米制单位)

SE-SIS,关于硒化钴 半金属的标准

  • SIS SS 02 81 52-1980 无焰原子吸收光谱火焰雾化法测定水,污泥和沉积物中的金属含量铅;铁;镉;钴;铜;镍和锌的特别准则

硒化钴 半金属

 

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