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氧化亚钴 半导体

本专题涉及氧化亚钴 半导体的标准有500条。

国际标准分类中,氧化亚钴 半导体涉及到半导体分立器件、集成电路、微电子学、电子元器件综合、半导体材料、阀门、电工和电子试验、金属材料试验、光纤通信、电学、磁学、电和磁的测量、航空航天制造用材料、纺织产品、有色金属、电气工程综合、滤波器。

在中国标准分类中,氧化亚钴 半导体涉及到半导体分立器件综合、、半导体三极管、半导体集成电路、敏感元器件及传感器、电工绝缘材料及其制品、场效应器件、阀门、半金属及半导体材料分析方法、半导体分立器件、光通信设备、微电路综合、电子测量与仪器综合、航空与航天用金属铸锻材料、计算机应用、重金属及其合金分析方法、基础标准与通用方法、电力半导体器件、部件、计算机设备。


欧洲电工标准化委员会,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • EN 62417:2010 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)
  • EN 62373:2006 金属氧化半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本温度稳定性试验 IEC 62373:2006

美国国防后勤局,关于氧化亚钴 半导体的标准

中国团体标准,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • T/CECA 35-2019 金属氧化物半导体气体传感器
  • T/QGCML 743-2023 半导体设备零部件阳极氧化工艺规范
  • T/CASAS 006-2020 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管通用技术规范
  • T/CASAS 015-2022 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)功率循环试验方法
  • T/CASAS 016-2022 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 (SiC MOSFET)结壳热阻瞬态双界面测试方法

英国标准学会,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • BS EN 62416:2010 半导体器件.金属氧化物半导体(MOS)晶体管的热载流子试验
  • BS IEC 60747-8-4:2004 半导体分立器件.电力开关设备的金属氧化物半导体场效应晶体管
  • BS IEC 62373-1:2020 半导体器件 金属氧化物、半导体、场效应晶体管 (MOSFET) 的偏置温度稳定性测试 MOSFET 的快速 BTI 测试
  • BS EN 62373:2006 金属氧化半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本温度稳定性试验
  • BS EN 62417:2010 半导体器件 金属氧化物场效应晶体管(MOSFETs)用迁移离子试验
  • BS IEC 63275-1:2022 半导体器件 碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性测试方法 偏置温度不稳定性测试方法
  • 18/30381548 DC BS EN 62373-1 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试 第1部分.快速BTI测试方法
  • 17/30366375 DC BS IEC 62373-1 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试 第1部分.快速BTI测试方法
  • BS ISO 17299-5:2014 纺织品 除臭剂性能的测定 金属氧化物半导体传感器方法
  • 20/30406230 DC BS IEC 63275-1 半导体器件 碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性测试方法 第1部分.偏置温度不稳定性测试方法
  • 20/30406234 DC BS IEC 63275-2 Ed.1.0 半导体器件 碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性测试方法 第2部分. 体二极管工作造成的双极退化的测试方法

法国标准化协会,关于氧化亚钴 半导体的标准

国际电工委员会,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • IEC 62417:2010 半导体器件.金属氧化物半导体场效应管(MOSFETs)移动离子试验
  • IEC 60747-8-4:2004 半导体分立器件.第8-4部分:电力开关装置用金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)
  • IEC 62373-1:2020 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏压温度稳定性试验.第1部分:MOSFET的快速BTI试验
  • IEC 63275-1:2022 半导体器件碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管可靠性试验方法第1部分:偏置温度不稳定性试验方法
  • IEC 62373:2006 金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)的基本温度稳定性试验
  • IEC 63275-2:2022 半导体器件.碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性试验方法.第2部分:由体二极管操作引起的双极退化的试验方法

丹麦标准化协会,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • DS/EN 62417:2010 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试
  • DS/EN 62373:2006 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试

德国标准化学会,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • DIN EN 62417:2010-12 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试
  • DIN EN 62417:2010 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFETs)的移动离子试验(IEC 62417-2010);德文版本EN 62417-2010
  • DIN EN 62373:2007 金属氧化半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本温度稳定性试验
  • DIN EN 62373:2007-01 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试

ES-UNE,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • UNE-EN 62417:2010 半导体器件 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试
  • UNE-EN 62373:2006 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试

行业标准-电子,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • SJ 20025-1992 金属氧化物半导体气敏元件总规范
  • SJ 20026-1992 金属氧化物半导体气敏元件测试方法
  • SJ 20079-1992 金属氧化物半导体气敏元件.试验方法
  • SJ/T 11824-2022 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)等效电容和电压变化率测试方法

国家质检总局,关于氧化亚钴 半导体的标准

立陶宛标准局,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • LST EN 62417-2010 半导体设备 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的移动离子测试(IEC 62417:2010)
  • LST EN 62373-2006 金属氧化物、半导体、场效应晶体管(MOSFET)的偏置温度稳定性测试(IEC 62373:2006)

(美国)军事条例和规范,关于氧化亚钴 半导体的标准

IEEE - The Institute of Electrical and Electronics Engineers@ Inc.,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • IEEE 641-1987 金属氮化物氧化物半导体阵列的标准定义和表征

台湾地方标准,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • CNS 8104-1981 金属氧化物半导体场效晶体管线性临界电压测试法
  • CNS 8106-1981 金属氧化物半导体场效晶体管饱和临界电压测试法

工业和信息化部,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • SJ/T 9014.8.2-2018 半导体器件 分立器件第8-2部分:超结金属氧化物半导体场效应晶体管空白详细规范
  • YS/T 1416-2021 氧化亚镍化学分析方法 铜、铁、锌、钙、镁、钠、钴、镉、锰和硫含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

美国电气电子工程师学会,关于氧化亚钴 半导体的标准

PH-BPS,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • PNS IEC 62373-1:2021 半导体器件.金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的偏压温度稳定性试验.第1部分:MOSFET的快速BTI试验

美国通用公司(北美),关于氧化亚钴 半导体的标准

  • GM GM6078M-1989 固体膜润滑剂涂层树脂粘合的金属氧化物半导体和聚四氟乙烯

美国材料与试验协会,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • ASTM F996-98 利用亚阈值安伏特性测定由于氧化空穴和界面态产生的电离辐射感应金属氧化物半导体场效应晶体管阈电压偏移分量的标准试验方法
  • ASTM F996-98(2003) 利用亚阈值安伏特性测定由于氧化空穴和界面态产生的电离辐射感应金属氧化物半导体场效应晶体管阈电压偏移分量的标准试验方法
  • ASTM F996-10 利用亚阈值安伏特性分离由于氧化空穴和界面态产生的电离辐射感应金属氧化物半导体场效应晶体管阈电压偏移的标准试验方法
  • ASTM F616M-96 测量MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)排漏电流的标准测试方法(米制单位)
  • ASTM F616M-96(2003) 测量MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)排漏电流的标准测试方法(米制单位)

AT-OVE/ON,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • OVE EN IEC 63275-2:2021 半导体器件-碳化硅分立金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性测试方法-第2部分:体二极管操作引起的双极退化测试方法(IEC 47/2680/CDV)(英文版)
  • OVE EN IEC 63275-1:2021 半导体器件 碳化硅分立式金属氧化物半导体场效应晶体管的可靠性试验方法 第1部分:偏置温度不稳定性试验方法(IEC 47/2679/CDV)(英文版)

国际标准化组织,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • ISO 17299-5:2014 纺织品. 除臭性能的测定. 第5部分: 金属氧化物半导体传感器法

韩国科技标准局,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • KS C IEC 60748-2-5:2002 半导体器件.集成电路.第2部分:数字集成电路.第4节:互补金属氧化物半导体数字集成电路类规范.系列4000B和4000UB
  • KS C IEC 60748-2-4:2002 半导体器件.集成电路.第2部分:数字集成电路.第4节:互补金属氧化物半导体数字集成电路类规范.系列4000B和4000UB

欧洲电工电子元器件标准,关于氧化亚钴 半导体的标准

(美国)固态技术协会,隶属EIA,关于氧化亚钴 半导体的标准

  • JEDEC JEP184-2021 电力电子转换用碳化硅金属氧化物半导体器件偏压温度不稳定性评估指南

氧化亚钴 半导体氧化亚钴磷化 钴 半导体钴 半导体 光催化四氧化三钴 半导体四氧化三钴半导体半导体四氧化三钴半导体 四氧化三钴四氧化三钴+ 半导体四氧化三钴间接半导体

 

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